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臺(tái)式三維原子層沉積系統(tǒng)ALD
- 品牌：美國(guó)ARRADIANCE
- 型號(hào)： GEMStar XT
- 產(chǎn)地：美洲 美國(guó)
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議
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QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易（北京）有限公司
更新時(shí)間：2025-04-21 10:15:39 -
銷售范圍售全國(guó)
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- 同類產(chǎn)品樣品制備(54件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
- 美國(guó)ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列臺(tái)式 ALD系統(tǒng)，在小巧的機(jī)身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可zui 多容納9片8英寸基片同時(shí)沉積。GEMStar XT全系配備熱壁，結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設(shè)計(jì)，使溫度均勻性高達(dá)99.9%，氣流對(duì)溫度影響減少到0.03% 以下。高溫度穩(wěn)定度的設(shè)計(jì)不僅實(shí)現(xiàn)在8英寸基體上實(shí)現(xiàn)膜厚的不均勻性優(yōu)于99%，而且更適合對(duì)超高長(zhǎng)徑比的孔徑結(jié)構(gòu)等3D結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)均勻薄膜覆蓋，可實(shí)現(xiàn)對(duì)高達(dá)1500: 1長(zhǎng)徑比微納深孔內(nèi)部的均勻沉積。
詳細(xì)介紹
原子層沉積（Atomic layer deposition, ALD）是通過(guò)將氣相前驅(qū)體脈沖交替的通入反應(yīng)器，化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式逐層的鍍?cè)谝r底表面的方法。因此，它是一種真正的“納米”技術(shù)，以精確控制方式實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的超薄薄膜沉積。由于ALD利用的是飽和化學(xué)吸附的特性，因此可以確保對(duì)大面積、多空、管狀、粉末或其他復(fù)雜形狀基體的高保形的均勻沉積。
美國(guó)ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列臺(tái)式 ALD系統(tǒng)，在小巧的機(jī)身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可多容納9片8英寸基片同時(shí)沉積。GEMStar XT全系配備熱壁，結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設(shè)計(jì)，使溫度均勻性高達(dá)99.9%，氣流對(duì)溫度影響減少到0.03% 以下。高溫度穩(wěn)定度的設(shè)計(jì)不僅實(shí)現(xiàn)在8英寸基體上實(shí)現(xiàn)膜厚的不均勻性優(yōu)于99%，而且更適合對(duì)超高長(zhǎng)徑比的孔徑結(jié)構(gòu)等3D結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)均勻薄膜覆蓋，可實(shí)現(xiàn)對(duì)高達(dá)1500: 1長(zhǎng)徑比微納深孔內(nèi)部的均勻沉積。
GEMStar XT 產(chǎn)品特點(diǎn)：
* 300℃ 鋁合金熱壁，對(duì)流式溫度控制
* 175℃溫控150ml前驅(qū)體瓶，200℃溫控輸運(yùn)支管
* 可容納多片4，6，8英寸樣品同時(shí)沉積
* 可容納1.25英寸/32mm厚度的基體
* 標(biāo)準(zhǔn)CF-40接口
* 可安裝原位測(cè)量或粉末沉積模塊等選件
* 等離子體輔助ALD插件
* 多種配件可供選擇
GEMStar XT 產(chǎn)品型號(hào)：
GEMStar XT：
* 大8英寸/200 mm基片沉積（4'和6' 可選）
* 單/雙路前驅(qū)體輸運(yùn)支管， 4/8路前驅(qū)體瓶接口
* 不可升級(jí)為等離子體增強(qiáng)ALD
GEMStar XT-R：
* 大8英寸(200mm)基片沉積（4'和6' 可選）
* 單/雙路前驅(qū)體輸運(yùn)支管， 4/8路前驅(qū)體瓶和CF-40接口
* 可升級(jí)為等離子體增強(qiáng)ALD
GEMStar XT-P：
* 大8英寸/200mm基片沉積（4'和6 '可選）
* 單/雙路前驅(qū)體輸運(yùn)支管， 4/8路前驅(qū)體瓶和CF-40接口
* 裝備高性能ICP等離子發(fā)生器
13.56 MHz 的等離子源非常緊湊，只需風(fēng)冷， 高運(yùn)行功率達(dá)300W。
* 標(biāo)配3組氣流質(zhì)量控制計(jì)（MFC）控制的等離子氣源線，和一條MFC控制的運(yùn)載氣體線，使難以沉積的氧化物、氮化物、金屬也可以實(shí)現(xiàn)均勻沉積。
新產(chǎn)品發(fā)布： 
GEMStar NanoCUBE： * 大100 mm 立方體樣品 沉積
* 單路前驅(qū)體輸運(yùn)支管， 2路前驅(qū)體瓶接口
* 主要用于3D多孔材料，以及厚樣品的沉積
豐富配件：
多樣品托盤(pán)：
* 多樣品夾具，樣品尺寸（8", 6", 4"）向下兼容。
* 多基片夾具，多同時(shí)容納9片基片。
溫控?zé)?/span>托盤(pán)：
* 可加熱樣品托盤(pán)， 高溫度500℃，可實(shí)現(xiàn)熱盤(pán)-熱壁復(fù)合加熱方式。
粉末沉積盤(pán)：
臭氧發(fā)生器：
真空進(jìn)樣器（Load Lock） 
晶振測(cè)厚儀 
前驅(qū)體瓶： 
前驅(qū)體加熱套 
粉末旋轉(zhuǎn)沉積罐模塊：
配合熱壁加熱方式，進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)對(duì)微納粉末樣品全保型薄膜均勻沉積包覆。
手套箱接口：
可從側(cè)面或背面wan美接入手套箱，與從底部接入手套箱不同，不占用手套箱空間。由于主機(jī)在手套箱側(cè)面，反應(yīng)過(guò)程中不對(duì)手套箱有加熱效應(yīng)，不影響手套箱內(nèi)溫度。
應(yīng)用案例
應(yīng)用領(lǐng)域
國(guó)內(nèi)外用戶
已發(fā)表文獻(xiàn)
? Lo?c Assaud et al. Systematic increase of electrocatalytic turnover over nanoporous Pt surfaces Prepared by atomic layer deposition. J. Mater. Chem. A (2015) DOI: 10.1039/c5ta00205b
? Xiangyi Luo et al. Pd nanoparticles on ZnO-passivated porous carbon by atomic layer deposition: an effective electrochemical catalyst for Li-O2 battery. Nanotechnology(2015) 26, 164003. DOI:10.1088/0957-4484/26/16/164003
? HengweiWang, et al. Precisely-controlled synthesis of Au@Pd core–shell bimetallic catalyst via atomic layer deposition for selective oxidation of benzyl alcohol. Journal of Catalysis (2015) 324, 59–68. DOI: 10.1016/j.jcat.2015.01.019
? Sean W. Smith, et al. Improved oxidation resistance of organic/inorganic composite atomic layer deposition coated cellulose nanocrystal aerogels. J. Vac. Sci. Technol. A (2014) 4, 32 DOI: 10.1116/1.4882239
? Fatemeh Sadat MinayeHashemi et al. A New Resist for Area Selective Atomic and Molecular Layer Deposition on Metal?Dielectric Patterns. J. Phys. Chem. C (2014), 118, 10957?10962. DOI: 10.1021/jp502669f
? Jeffrey B. Chou, et.al Enab領(lǐng) Ideal Selective Solar Absorption with 2D Metallic Dielectric Photonic Crystals. Adv. Mater. (2014), DOI: 10.1002/adma.201403302.
? Jin Xie, et al. Site-Selective Deposition of Twinned Platinum Nanoparticles on TiSi2 Nanonets by Atomic Layer Deposition and Their Oxygen Reduction Activities. ACS Nano (2013), 7, 6337–6345. DOI: 10.1021/nn402385f
? Pengcheng Dai, et al. Solar Hydrogen Generation by Silicon Nanowires Modified with Platinum Nanoparticle Catalysts by Atomic Layer Deposition. Angew. Chem. Int. Ed. (2013), 52, 1 –6. DOI: 10.1002/anie.201303813
? Joseph Larkin et al. Slow DNA Transport through Nanoporesin Hafnium Oxide Membranes. ACS Nano (2013), 11, 10121–10128. DOI: 10.1021/nn404326f
? Thomas M et al. Extended lifetime MCP-PMTs: Characterization and lifetime measurements of ALD coated microchannel plates, in a sealed photomultiplier tube Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A (2013) 732, 388–391. DOI: 10.1016/j.nima.2013.07.023
? Kevin J. Maloney et al. Microlattices as architected thin films: Analysis of mechanical properties and high strain elastic recovery. APL Mater. 1, 022106 (2013) DOI: 10.1063/1.4818168
? Sean W. Smith et al. Improved Temperature Stability of Atomic Layer Deposition Coated Cellulose Nanocrystal Aerogels. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (2012) DOI: 10.1557/opl.2012.
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