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    全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng)(ALD)

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    產(chǎn)品特點(diǎn)

    Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué),05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購(gòu),并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止,Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn),全球已安裝五百多臺(tái)ALD設(shè)備。

    詳細(xì)介紹

    產(chǎn)品介紹:

    Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué),05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購(gòu),并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止,Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn),全 球已安裝五百多臺(tái)ALD設(shè)備。


    Firebird Batch Thermal ALD System

    方式: Thermal batch ALD

    優(yōu)勢(shì):完全自動(dòng)化的批量生產(chǎn)系統(tǒng),**生產(chǎn)能力(每月zui多40000片),zuidi的成本,zui高的產(chǎn)量,極優(yōu)的一致性針對(duì)脆弱/溫度敏感的襯底解決方案,包括LNO/LTO/玻璃模塊化熱管理,以實(shí)現(xiàn)**工藝靈活性和產(chǎn)量

    薄膜: 氧化物薄膜,包含封裝層、光學(xué)涂層氧化物薄膜,包含封裝層、光學(xué)涂層

    反應(yīng)腔體大小:  無(wú)縫晶片尺寸轉(zhuǎn)換能力高達(dá)300mm

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