自動(dòng)進(jìn)樣稀釋模塊ASDM專為ICP自動(dòng)進(jìn)樣器設(shè)計(jì)，支持2至1000倍的樣品溶液稀釋，配備兩種型號(hào)以適應(yīng)不同溶液類型。該模塊可自動(dòng)添加標(biāo)準(zhǔn)溶液，并能同時(shí)清洗稀釋探頭及準(zhǔn)備下一個(gè)稀釋樣品。ASDM提供10

ASAS II自動(dòng)化標(biāo)準(zhǔn)添加系統(tǒng)通過自動(dòng)制備校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)溶液，提升了電感耦合等離子體（ICP）分析的效率與精度。該系統(tǒng)采用非接觸式光流傳感器和高精度注射泵，實(shí)現(xiàn)微量標(biāo)準(zhǔn)溶液的精準(zhǔn)添加。其無閥門設(shè)計(jì)及全氟聚

氣體電離探測器（GED）是一種用于測量氣體中金屬顆粒濃度的技術(shù)，尤其適用于半導(dǎo)體行業(yè)中特殊氣體的分析。該系統(tǒng)通過一個(gè)高效的膜來交換氣體，使得樣品氣體中的金屬顆粒能在無需預(yù)處理的情況下直接引入到電感耦合

化學(xué)分析實(shí)驗(yàn)室采用連續(xù)化學(xué)采樣檢測系統(tǒng)（CSI）監(jiān)測半導(dǎo)體工藝中的化學(xué)品，以檢測微量金屬雜質(zhì)。該系統(tǒng)使用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）進(jìn)行24/7的連續(xù)監(jiān)測，確保化學(xué)品在運(yùn)輸和更換過濾器過程中

CSI 連續(xù)化學(xué)品檢測系統(tǒng)：化學(xué)敏感儀器監(jiān)測半導(dǎo)體晶圓廠使用的化學(xué)物質(zhì)，通過連續(xù)化學(xué)采樣檢測（CSI）系統(tǒng)監(jiān)測微量金屬雜質(zhì)，以避免器件故障。系統(tǒng)采用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）對(duì)化學(xué)品進(jìn)行2

MSAG金屬標(biāo)準(zhǔn)氣霧劑生成系統(tǒng)，是一種用于納米顆粒分析及直接氣體分析的重要工具，尤其適用于電感耦合等離子體質(zhì)譜法（ICP-MS）。該設(shè)備能夠以0至3μL/min的速度將混合金屬標(biāo)準(zhǔn)溶液引入霧化器，確保

LAGM激光剝蝕多通道原子吸收光譜系統(tǒng)采用飛秒激光和電流計(jì)鏡，可精確燒蝕 300 毫米晶圓樣品，無需小型封閉腔室。系統(tǒng)配備雙注射器模型 MSAG_DS，支持標(biāo)準(zhǔn)加入法進(jìn)行定量分析，具備點(diǎn)和面傾斜度、輪

硅片金屬雜質(zhì)分析系統(tǒng) Expert,全自動(dòng)汽車掃描系統(tǒng)與真空二次離子質(zhì)譜法（VPD-ICP-MS）結(jié)合，為硅片金屬雜質(zhì)分析提供了高效的解決方案。系統(tǒng)具備多個(gè)型號(hào)，包括適用于實(shí)驗(yàn)室和工廠自動(dòng)化的Expe