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    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    主營產(chǎn)品:光刻機(jī)/3D打印機(jī),鍍膜沉積機(jī),離子刻蝕與沉積系統(tǒng),半導(dǎo)能檢測儀器,UV清洗設(shè)備
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    奧地利EVG

     
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    EVG紫外納米壓印機(jī) HERCULES NIL
    • 品牌:奧地利EVG
    • 型號: HERCULES NIL
    • 產(chǎn)地:歐洲 奧地利
    • EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個(gè)完全集成的納米壓印系統(tǒng),是EVG的NIL產(chǎn)品組合的Z 新成員。 HERCULES NIL基于模塊化平臺,在單個(gè)平臺上將清洗模塊,抗蝕劑涂層模塊和烘烤...

    EVG720紫外納米壓印
    EVG720紫外納米壓印
    價(jià)格:面議
    • 品牌:奧地利EVG
    • 型號:EVG720
    • 產(chǎn)地:歐洲 奧地利
    • EVG720紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉(zhuǎn)移。EVG720自動(dòng)納米壓印系統(tǒng)允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。

    奧地利EVG雙面對準(zhǔn)單面曝光機(jī)
    • 品牌:奧地利EVG
    • 型號:EVG620
    • 產(chǎn)地:歐洲 奧地利
    • 雙面對準(zhǔn)單面曝光

    奧地利EVG單面/雙面光刻機(jī)(帶有壓印功能)EVG620
    • 品牌:奧地利EVG
    • 型號:EVG620
    • 產(chǎn)地:歐洲 奧地利
    • EVG620 單面/雙面光刻機(jī)(帶有壓印功能),EVG620 是一款非常靈活和可靠的光刻設(shè)備,可配置為半自動(dòng)也可以為全自動(dòng)形式。EVG620 既可以用作雙面光刻機(jī)也可以用作 150mm 硅片的精確對準(zhǔn)...

    奧地利EVG鍵合機(jī)EVG510
    奧地利EVG鍵合機(jī)EVG510
    價(jià)格:面議
    • 品牌:奧地利EVG
    • 型號:EVG510
    • 產(chǎn)地:歐洲 奧地利
    • 奧地利EVG鍵合機(jī):EVG510,是一款半自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng),可以處理Z大200mm的晶圓,非常適合于研發(fā)和小批量生產(chǎn)。EVG510提供了除上料和下料外的全自動(dòng)工藝處理過程,并配備了業(yè)界公認(rèn)的Z優(yōu)異的加...

    奧地利EVG掩膜光刻機(jī)EVG610
    • 品牌:奧地利EVG
    • 型號:EVG610
    • 產(chǎn)地:歐洲 奧地利
    • EVG610是一款非常靈活的適用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的對準(zhǔn)系統(tǒng),可處理Z大200mm之內(nèi)的各種規(guī)格的晶片。EVG610支持各種標(biāo)準(zhǔn)的光刻工藝,例如:真空、軟、硬接觸和接近曝光;也支持其他特殊的應(yīng)用,如鍵...

    奧地利EVG鍵合機(jī)EVG520IS
    奧地利EVG鍵合機(jī)EVG520IS
    價(jià)格:面議
    • 品牌:奧地利EVG
    • 型號:EVG520IS
    • 產(chǎn)地:歐洲 奧地利
    • EVG520IS是一款設(shè)計(jì)用于小批量生產(chǎn)的半自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng), Z大硅片允許尺寸為200mm。集EVGZ新技術(shù)及客戶反饋基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)的EVG520IS,配備了EVG公司的專利吸盤設(shè)計(jì)---這種吸盤可以提...

    奧地利SmartNIL紫外納米壓印機(jī)EVG7200
    • 品牌:奧地利EVG
    • 型號:EVG7200
    • 產(chǎn)地:歐洲 奧地利
    • 奧地利SmartNIL紫外納米壓印機(jī)EVG7200,LEDS 制作,LED PSS納米壓印工藝,LED納米透鏡陣列;微流體學(xué);芯片實(shí)驗(yàn)室;抗反射層; 納米壓印光柵; 蓮花效應(yīng);光子帶隙;光學(xué)及通訊:光...

    奧地利EVG

     
    奧地利EVG
    奧地利EV Group致力于在光刻技術(shù),EVG的卓越表現(xiàn)體現(xiàn)在其掩模同步器(EVG600,EVG6000,EVG IQ系列)和高度集成的涂層平臺(EVG100系列)的高通量接觸和近距離曝光能力。所有EVG的光刻設(shè)備平臺可以完全集成到它的HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并通過其計(jì)量工具進(jìn)行全面的底端比對驗(yàn)證。
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