原子層沉積ALD/BENEQ P400

                                   BENEQ原子層沉積系統(tǒng)

1. 產(chǎn)品概述：

   Beneq P400A 為以優(yōu)化的批量大小涂覆不同類型的基材而設(shè)計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環(huán)時間內(nèi)保持出色的均勻性。我們的客戶將 P400A 用于光學(xué)鍍膜和在玻璃或金屬板上使用 ALD 的應(yīng)用。
   

2.產(chǎn)品配置:

Beneq P400A 通常用于直徑范圍為 20 毫米至 300 毫米的基板批次。批量設(shè)置可針對特定零件、片材、晶圓或其他基板進(jìn)行優(yōu)化。

扁平基板的總批量大小可達(dá) 8米

設(shè)計和設(shè)置

讓我們選擇和設(shè)計佳的工具設(shè)置和原子層沉積工藝，以適應(yīng)您的基材和應(yīng)用。

P400A 的多功能設(shè)計使其易于在反應(yīng)室和底物支架的不同設(shè)置之間切換。這意味著您可以使用相同的原子層沉積系統(tǒng)從研發(fā)順利過渡到批量生產(chǎn)。Beneq 提供量身定制的應(yīng)用開發(fā)以及試生產(chǎn)支持，因此您可以在建立自己的 ALD 制造能力之進(jìn)行測試。

厚膜疊層

用于厚膜堆疊 （> 1 μm） 的理想 ALD 工具。 大批量的厚膜堆疊需要大量的驅(qū)體，同時會產(chǎn)生大量的殘留物和副產(chǎn)品。為了應(yīng)對這些挑戰(zhàn)，P400A 配備了高容量驅(qū)體源以及驅(qū)體滅活和過濾系統(tǒng)。

Beneq P400A 是 35+ 年工業(yè)生產(chǎn)發(fā)展的結(jié)果，擁有大批量 >1μm 厚膜堆疊，。

3.產(chǎn)品優(yōu)勢：

Beneq P400A 的溫度范圍從室溫到 550°C，可輕松處理氣體、液體和固體驅(qū)體，包括有毒、自燃和腐蝕性驅(qū)體材料。

維護(hù)更簡單、頻率更低。 沉積厚膜堆疊的原子層沉積工具通常需要每月清潔一次。P400A 的高容量泵管路過濾器使該工具即使在大批量生產(chǎn)中也能運行數(shù)月而無需維護(hù)。

由于需要冷卻 ALD 反應(yīng)室，更換 ALD 反應(yīng)室可能需要一整天的時間，但 P400A 將時間縮短到幾分鐘。它的設(shè)計使操作員只需拉出反應(yīng)室和其他需要清潔的部件。

避免因維護(hù)而造成不必要的停機(jī)時間。Beneq P400A 使用多個反應(yīng)室，這些反應(yīng)室在每次運行之間連續(xù)切換。這使您可以大限度地減少與維護(hù)相關(guān)的生產(chǎn)停機(jī)時間。

Beneq 有的預(yù)熱器。我們可選的預(yù)熱烤箱可縮短加熱時間，進(jìn)一步提高您的吞吐量。