CMP化學(xué)機(jī)械拋光機(jī) AP200型

韓國CTS公司的AP200型CMP拋光機(jī)是一款科研級的CMP系統(tǒng)，采用CTS公司工業(yè)級的設(shè)計理念，為科研工作者及先進(jìn)制程開發(fā)公司提供了一套研究級別的高端設(shè)備，可兼容4寸，6寸，8寸樣品。

第二、產(chǎn)品主要特色：

1、CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，核心區(qū)，邊緣區(qū)，保持環(huán)三區(qū)壓力控制，可得到良好的工業(yè)級拋光效果；

2、自動上下片，自動拋光，干進(jìn)濕出；

3、拋光墊修整器：擺臂式設(shè)計，由10個傳感器分別控制10個區(qū)域的下壓力，可保證拋光墊高水平修整；

4、拋光墊修整器：具有在線修整與離線修整兩種模式；

5，工藝數(shù)據(jù)可實時監(jiān)測；

6、可存儲多個Recipe.