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離子束刻蝕/沉積系統(tǒng) EIS-200
- 品牌：納騰
- 型號(hào)： EIS-200
- 產(chǎn)地：上海 徐匯區(qū)
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議
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上海納騰儀器有限公司
更新時(shí)間：2025-03-17 17:30:12 -
銷(xiāo)售范圍售全國(guó)
入駐年限第10年
營(yíng)業(yè)執(zhí)照
- 同類(lèi)產(chǎn)品沉積設(shè)備(6件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
- EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術(shù)（ECR）的小型離子束蝕刻系統(tǒng)，特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄，清洗、沉積等。
詳細(xì)介紹
簡(jiǎn)介
EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術(shù)（ECR）的小型離子束蝕刻系統(tǒng)，特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄，清洗、沉積等。
EIS-200原理：
利用ECR技術(shù)產(chǎn)生高能Ar+離子束，Ar+離子束通過(guò)電場(chǎng)加速到達(dá)樣品表面，對(duì)樣品進(jìn)行物理的轟擊達(dá)到刻蝕作用。
EIS-200具有以下優(yōu)點(diǎn)：
方向性好，各向異性，陡直度高，側(cè)向刻蝕少
分辨率高
不受刻蝕材料限制，可對(duì)石英等材料進(jìn)行蝕刻
可控制蝕刻Taper角
可以設(shè)定多樣的實(shí)驗(yàn)條件
NPD(納米圖案成膜單元)選項(xiàng)（如下圖）
主要功能
納米級(jí)圖案刻蝕
高深寬比蝕刻
離子束沉積
表面清潔
離子減薄
技術(shù)能力
應(yīng)用
納米級(jí)圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等
SiO2 on Si substrate
Diamond Substrate（金剛石）
Quartz (Mask)
Oriented PET film
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滬公網(wǎng)安備 31011502008050號(hào)