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    德國Sentech 多晶圓等離子體反應(yīng)刻蝕機(jī) Etchlab 380

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    產(chǎn)品特點(diǎn)

    德國Sentech 多晶圓等離子體反應(yīng)刻蝕機(jī) Etchlab 380,最大 300 mm 晶圓,用于多個(gè)晶圓的 380 mm 載體

    詳細(xì)介紹

    德國Sentech  多晶圓等離子體反應(yīng)刻蝕機(jī) Etchlab 380

    主要特點(diǎn)

    ·打開蓋子

    ·300 mm 晶圓

    ·380 毫米托架

    ·多片加工


    應(yīng)用特點(diǎn)

    ·硅及相關(guān)材料的蝕刻

    ·金屬濺射

    ·亞微米蝕刻


    技術(shù)特點(diǎn)

    ·600 瓦/1100 瓦,13.56 MHz

    ·360 升/秒渦輪分子泵

    ·旋轉(zhuǎn)前級(jí)泵

    ·打開蓋子

    ·多達(dá) 12 條燃?xì)夤芫€

    ·最 大 300 mm 晶圓

    ·用于多個(gè)晶圓的 380 mm 載體

    ·設(shè)計(jì)緊湊,占地面積小

    Etchlab 380.png

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