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    德國Sentech 等離子刻蝕機(jī) SI 500 RIE

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    產(chǎn)品特點(diǎn)

    德國Sentech 等離子刻蝕機(jī) SI 500 RIE,RIE 蝕刻機(jī),最大 8 英寸晶圓, 帶可選的 ICP 源擴(kuò)展

    詳細(xì)介紹

    德國Sentech 等離子刻蝕機(jī) SI 500 RIE

    SI 500 RIE

    帶 He 背面冷卻的襯底電極

    基板的背面冷卻保證了 +/-1K的溫度穩(wěn)定性和/或?qū)悠返臏囟缺3衷诘椭怠?/p>

    SI 500 CCP

    RIE 蝕刻機(jī),帶可選的 ICP 源擴(kuò)展

    技術(shù)和特點(diǎn):

    SI  500  RIE

    ·600 瓦,13.56 MHz
    ·360 升/秒渦輪分子泵
    ·旋轉(zhuǎn)前級(jí)泵
    ·磁電機(jī)氣動(dòng)負(fù)載鎖
    ·12/16 根燃?xì)夤芫€
    ·帶機(jī)械晶圓夾緊的電極
    ·最 大 8 英寸晶圓
    ·OES、SLI 可選

    SI 500 CCP

    1360 l/s 渦輪分子泵

    SI 500 RIE.png

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