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膜厚測量儀
- 品牌：日本HalfMoon
- 型號： -
- 產(chǎn)地：亞洲 日本
- 供應商報價：面議
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上海瞬渺光電技術(shù)有限公司
更新時間：2022-01-12 15:50:35 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照
- 同類產(chǎn)品半導體研發(fā)測試(9件)
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詳細介紹
產(chǎn)品特點：
?薄膜到厚膜的測量范圍、UV～NIR光譜分析。
?高性能的低價光學薄膜測量儀。
?藉由反射率光譜分析膜厚。
?完整繼承FE-3000高端機種90%的強大功能。
?無復雜設(shè)定，操作簡單，短時間內(nèi)即可上手。
?非線性最小平方法解析光學常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。
產(chǎn)品規(guī)格：
型號 FE-300V FE-300UV FE-300NIR 對應膜厚 標準型 薄膜型 厚膜型 超厚膜型 樣品尺寸 最大8寸晶圓（厚度5mm） 膜厚范圍 100nm~40μm 10nm~20μm 3μm~30μm 15μm~1.5mm 波長范圍 450nm~780nm 300nm~800nm 900nm~1600nm 1470nm~1600nm 膜厚精度 ±0.2nm以內(nèi) ±0.2nm以內(nèi) - - 重復再現(xiàn)性(2σ) 0.1nm以內(nèi) 0.1nm以內(nèi) - - 測量時間 0.1s～10s以內(nèi) 測量口徑 約Φ3mm 光源 鹵素燈 UV用D2燈 鹵素燈 鹵素燈 通訊界面 USB 尺寸重量 280（W）×570（D）×350（H）mm，約24kg 軟件功能 標準功能 波峰波谷解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乘法解析 選配功能 材料分析軟件、薄膜模型解析、標準片解析 應用范圍：
?半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
?光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)
應用范例：
?PET基板上的DLC膜
?Si基板上的SiNx
滬公網(wǎng)安備 31011502008050號