無掩膜光刻機(jī) 激光直寫系統(tǒng)

無掩膜光刻機(jī)/激光直寫系統(tǒng)

MLW-100型

市場上使用405納米激光器的最高分辨率600納米的結(jié)構(gòu)

405納米激光源，可用于要求更高的應(yīng)用

緊湊型光學(xué)模塊：使用備用光學(xué)模塊減少革命性的機(jī)器停機(jī)時(shí)間

用戶友好操作

獨(dú)特的研發(fā)機(jī)會

405nm光學(xué)模塊將允許系統(tǒng)最小線寬達(dá)到600納米

能力

-市場上使用壽命長的405納米激光器的最高分辨率。

-最小線寬達(dá)到600納米

-高達(dá)4095級的直寫灰度

-375納米激光可用于要求更高的應(yīng)用(選配：375納米激光)。

-光柵模式和矢量模式可用。

-軟件可控制的寫入模式選擇。

-實(shí)時(shí)自動聚焦成為可能。

-支持從5mm x 5mm到125mm x 125mm的基板

操作

-現(xiàn)代的基于Microsoft Windows的用戶界面允許用戶友好的操作。

-高度自動化的處理，一鍵操作。

-遠(yuǎn)程互聯(lián)網(wǎng)支持

安裝和維護(hù)

- MLW-100是一個(gè)緊湊的桌面系統(tǒng)，需要最小的清潔空間。

-緊湊型光學(xué)模塊：使用備用光學(xué)模塊來減少機(jī)器停機(jī)時(shí)間。

-安裝快速方便：除操作PC和真空泵外，所有主要部件

安裝在外殼內(nèi)。

-維護(hù)成本zuidi，無需定期維護(hù)。

緊湊型光學(xué)模塊，具有卓越的穩(wěn)定性和革命性的短停機(jī)時(shí)間

完整的光學(xué)路徑包含在一個(gè)小的可更換模塊（光學(xué)模塊）中。通過盡可能短的優(yōu)化路徑，與傳統(tǒng)的優(yōu)化設(shè)置相比，點(diǎn)穩(wěn)定性大大提高。光學(xué)模塊包含壽命長的405 nm激光和**光斑形狀的光束整形光學(xué)元件。

特征：

-市場上最小的高品質(zhì)激光束光斑。

-集成的650納米紅色激光控制自動對焦系統(tǒng)自動糾正高度變化。

-綜合劑量控制。

-選項(xiàng)：對于要求較低的任務(wù)，可以使用全自動NA開關(guān)選擇較大的光斑尺寸。此開關(guān)允許系統(tǒng)使用更大的點(diǎn)以提高速度。

光學(xué)特性

激光源405納米，GaN激光器

壽命>10000小時(shí)

寫入模式：0.6μm，可選1.2μm和2.0μm FWHM。

工作距離0.9毫米

最大強(qiáng)度為3 mW，軟件可控。

灰度控制4095級

自動對焦800 Hz band寬，650nm 紅光激光控制

-0.3…x…+0.3 mm高度變化，帶自動高度跟蹤。

快速的音圈執(zhí)行器，精確的實(shí)時(shí)Z校正。

焦距可通過軟件控制進(jìn)行調(diào)整。

正面對準(zhǔn)

光學(xué)模塊配備高分辨率攝像機(jī)，用于需要多層的應(yīng)用。相機(jī)圖像由高級成像軟件處理。自動標(biāo)記識別使用戶很容易找到標(biāo)記。用戶可以設(shè)定任何形狀作為標(biāo)記。當(dāng)在相機(jī)的視場中找不到標(biāo)記時(shí)，軟件支持區(qū)域掃描，以便在更大的區(qū)域中自動搜索標(biāo)記。對齊和圖像補(bǔ)償可以基于一個(gè)、兩個(gè)或三個(gè)標(biāo)記。

正面對準(zhǔn)指標(biāo)：

校準(zhǔn)照相機(jī)單色520萬像素。

像素分辨率1μm

對準(zhǔn)精度 <0.5μm

修正算法通過掃描和步進(jìn)軸之間的插值運(yùn)動進(jìn)行位置、比例（最大5%）、傾斜、旋轉(zhuǎn)（最大+/-5度）旋轉(zhuǎn)修正。

MLW-100配備了用于X和Y運(yùn)動的高精度軸和一個(gè)用于Z運(yùn)動的可選軸。掃描軸（Y）包含一個(gè)高精度燕尾形空氣軸承，該軸承由帶納米分辨率編碼器的直線電機(jī)驅(qū)動。步進(jìn)軸（X）采用帶直線電機(jī)和高分辨率光學(xué)編碼器的精密滾子軸承。該系統(tǒng)允許極低的機(jī)械誤差和快速掃描運(yùn)動?？蛇x的電動控制Z軸具有12 mm行程，以支持各種基板厚度。

用真空吸盤夾緊基板。真空吸盤易于更換，以支持不同的基板尺寸。

機(jī)械性能

行程和階梯最大115 mm

重復(fù)性<50 nm RMS

分辨率10納米

掃描速度最大200 mm/s

直線度軸 <1μm，在100 mm范圍

樣品厚度：0-10 mm手動調(diào)整；12 mm，安裝可選電動Z軸。

樣品襯底厚度變化最大值+/-0.2mm

樣品襯底尺寸：5mm x 5mm到125mm x 125mm

曝光區(qū)域： 100mm x 100mm