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電子束曝光系統(tǒng) ELS-F125/F100/HS50
- 品牌：納騰
- 型號： ELS-F125/F100/HS50
- 產(chǎn)地：上海 徐匯區(qū)
- 供應(yīng)商報價：面議
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上海納騰儀器有限公司
更新時間：2025-03-17 17:30:12 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照
- 同類產(chǎn)品電子束曝光(1件)
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產(chǎn)品特點
- ELS-F125是Elionix推出的加速電壓達(dá)125KV的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm的精細(xì)圖形。(以下參數(shù)基于ELS-F125)
詳細(xì)介紹
簡介
ELS-F125是Elionix推出的加速電壓達(dá)125KV的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm的精細(xì)圖形。(以下參數(shù)基于ELS-F125)
ELS-F125具有以下優(yōu)點：
超高書寫精度
- 5 nm 線寬精度 @125 kV
- 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應(yīng)小化 @125 kV
大通量、均勻性好
- 寬視野書寫:500um視場下10 nm線寬
- 高束流下電子束直徑依然很小，大通量而不影響分辨率，2 nm電子束直徑@1 nA
界面用戶友好
基于Windows系統(tǒng)的CAD和SEM界面:
-簡單易用的圖案設(shè)計功能
-易于控制的電子束條件
二、主要功能
主要應(yīng)用
納米器件的微結(jié)構(gòu)
集成光學(xué)器件，如光柵，光子晶體等
NEMS結(jié)構(gòu)，復(fù)雜精細(xì)結(jié)構(gòu)
光刻掩模板，壓印模板
技術(shù)能力
三、應(yīng)用
相關(guān)產(chǎn)品
滬公網(wǎng)安備 31011502008050號