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    小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)

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    產(chǎn)品特點

    Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設(shè)計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

    詳細(xì)介紹

    小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設(shè)計開發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。
     
      傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計電子掩膜板 的方法,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān),在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
      Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設(shè)計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

     

    產(chǎn)品特點


    Focus Lock自動對焦功能
    Focus Lock技術(shù)是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,并通過Z向調(diào)整和補償,以保證曝光分辨率。

    光學(xué)輪廓儀
    Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。Z向 高精度100 nm,方便快捷。


    直寫前預(yù)檢查
    軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實時調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。 

    標(biāo)記物自動識別
    點擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。

    簡單的直寫軟件
    MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導(dǎo)使用者進行簡單的布局設(shè)計、基片對準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行。

    Clewin 掩模圖形設(shè)計軟件
    ?  可以讀取多種圖形設(shè)計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
    ?  可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
    ?  書寫范圍只由基片尺寸決定

     

    Microwriter ML3基本型增強型旗艦型
     大樣品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm
     大直寫面積149mm x 149mm149mm x 149mm195mm x 195mm
     曝光光源405 nm LED 1.5W405 nm LED 1.5W385 nm LED 適用于SU-8 
    (365+405nm雙光源可選)
     直寫分辨率1μm1μm and 5 μm0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
     直寫速度20mm2/min @ 1μm20mm2/min @ 1μm
    120mm2/min @ 5μm
    25mm2/min @ 0.6μm
    50mm2/min @ 1μm
    100mm2/min @ 2μm
    180mm2/min @ 5μm
     對準(zhǔn)顯微鏡鏡頭x10x3 and x10 自動切換x3, x5, x10, x20 自動切換
     多層套刻精度±1μm±1μm±0.5μm
     小柵格精度200nm200nm100nm
     樣品臺小步長100nm100nm50nm
     光學(xué)輪廓Z分辨率無(可升級)300nm100nm
     樣品表面自動對焦
     灰度直寫(255級)
     自動晶片檢查工具無(可升級)
     溫控樣品腔室無 (可升級)無 (可升級)
     虛擬模板校準(zhǔn)工具無(可升級)無(可升級)
     氣動減震光學(xué)平臺無(可升級)無(可升級)


    直寫分辨率1μm

    直寫分辨率0.6μm
     
    微電極制備
           光刻膠上的圖形                                 Au電極 (SEM)                                   Au電極(SEM)
         
           設(shè)計圖                                                 光刻膠上的圖 形                                        放大圖的顯微結(jié)構(gòu)
          
     
    微結(jié)構(gòu)制備
       
     
       
     
    微流通道制備
       


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