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小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)
- 品牌:英國Durham Magneto Optic
- 型號: Microwriter ML3
- 產(chǎn)地:歐洲 英國
- 供應(yīng)商報價:面議
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QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司
更新時間:2025-06-09 09:41:33
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銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品樣品制備(54件)
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產(chǎn)品特點
- Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設(shè)計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。
詳細(xì)介紹
- 小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設(shè)計開發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計電子掩膜板 的方法,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān),在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設(shè)計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。
產(chǎn)品特點 Focus Lock自動對焦功能
Focus Lock技術(shù)是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,并通過Z向調(diào)整和補償,以保證曝光分辨率。光學(xué)輪廓儀
Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。Z向 高精度100 nm,方便快捷。直寫前預(yù)檢查
軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實時調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。標(biāo)記物自動識別 點擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。簡單的直寫軟件
MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導(dǎo)使用者進行簡單的布局設(shè)計、基片對準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行。Clewin 掩模圖形設(shè)計軟件
? 可以讀取多種圖形設(shè)計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
? 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
? 書寫范圍只由基片尺寸決定Microwriter ML3 基本型 增強型 旗艦型 大樣品尺寸 155×155×7mm 155×155×7mm 230×230×15mm 大直寫面積 149mm x 149mm 149mm x 149mm 195mm x 195mm 曝光光源 405 nm LED 1.5W 405 nm LED 1.5W 385 nm LED 適用于SU-8
(365+405nm雙光源可選)直寫分辨率 1μm 1μm and 5 μm 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm 直寫速度 20mm2/min @ 1μm 20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm對準(zhǔn)顯微鏡鏡頭 x10 x3 and x10 自動切換 x3, x5, x10, x20 自動切換 多層套刻精度 ±1μm ±1μm ±0.5μm 小柵格精度 200nm 200nm 100nm 樣品臺小步長 100nm 100nm 50nm 光學(xué)輪廓Z分辨率 無(可升級) 300nm 100nm 樣品表面自動對焦 是 是 是 灰度直寫(255級) 是 是 是 自動晶片檢查工具 無(可升級) 有 有 溫控樣品腔室 無 (可升級) 無 (可升級) 有 虛擬模板校準(zhǔn)工具 無(可升級) 無(可升級) 有 氣動減震光學(xué)平臺 無(可升級) 無(可升級) 有 直寫分辨率1μm
直寫分辨率0.6μm微電極制備光刻膠上的圖形 Au電極 (SEM) Au電極(SEM)設(shè)計圖 光刻膠上的圖 形 放大圖的顯微結(jié)構(gòu)微結(jié)構(gòu)制備微流通道制備 相關(guān)資訊
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