PVA TePla America - 等離子表面清洗系統(tǒng)

產(chǎn)品簡介

全新!

INLINE高產(chǎn)量PECVD系統(tǒng) (Inline High Capacity PECVD Systems)

ILHC是一個連續(xù)的高速真空等離子系統(tǒng)。它提供了等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PECVD)，蝕刻，清洗和活化在高生產(chǎn)環(huán)境全過程控制。

ILHC是為了滿足廣大客戶的高產(chǎn)能量的要求。它提供了快速的工藝處理時間，卓越的均勻性和精確的厚度控制。它提供先進的過程控制，故障安全報警和完整的數(shù)據(jù)采集和報告軟件系統(tǒng)。

ILHC使用射頻(RF)產(chǎn)生的等離子體，結(jié)合獨特的傳送系統(tǒng)中清楚地闡明和完全集成封裝。該設(shè)計便于安裝和維護。

特性:

? 連續(xù)流處理
? 定制托盤和基板夾具
? 可配置的等離子源設(shè)計從小到大可擴展
? 三維零件或超高容量小零件加工
? 根據(jù)工藝要求，靈活地用RF功率發(fā)生器和AMU
? GUI圖形用戶界面軟件符合CFR第21部分11和Semi E95-1101
? 自家開發(fā)的用戶訪問控制系統(tǒng)
? 可準(zhǔn)確地控制Lot-to-Lot的重復(fù)性
? 通過以太網(wǎng)遠(yuǎn)程統(tǒng)計過程控制監(jiān)控
? 具即時診斷功能和警報記錄
? 配方編輯器提供了快速和靈活的步控制功能
? 大LCD觸摸設(shè)置，Windows?的控制面板和鍵盤
? 免人手操作

可進行多種類界面

* 輸出功率高達(dá) ： 每月500,000 devices （基本尺寸 ：1” x 1” Devices）

* 根據(jù)界面的形狀： ?非均勻性降低至5%

IoN 3B特性:

腔室尺寸(W x D x H): 140mm x 200mm x 110mm
功率: 100 Watts
氣體噴淋: Integrated door
單個氣體管路: Mass Flow Controller for gas control, 50 sccm
可視窗口: 45mm dia.
顯示屏: 7" touch screen, PC Interface
編程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can
壓力測量: Pirani Gauge

特性:

腔室尺寸(W x D x H): 200mm x 220mm x 160mm
功率: 200 Watts
氣體噴淋: Integrated door
單個氣體管路: Mass Flow Controller for gas control, 100 sccm
可視窗口: 45mm dia.
顯示屏: 7" touch screen, PC Interface
編程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can
壓力測量: Pirani Gauge