Unimill 離子減薄儀

Unimill 離子減薄儀--用于 TEM/XTEM 樣品制備的全自動(dòng)離子束減薄系統(tǒng)

Technoorg Linda UniMill 離子減薄儀專為快速地制備具備高減薄率的、高質(zhì)量的 TEM/XTEM 樣品而設(shè)計(jì)。 Unimill 既可以使用超高能離子槍進(jìn)行快速研磨，也可以使用專用的低能離子槍進(jìn)行最終拋光和精修處理。

產(chǎn)品特色：

·可直接使用同一臺(tái)儀器進(jìn)行快速減薄和拋光/精細(xì)處理

·支持全自動(dòng)的離子槍參數(shù)設(shè)置和手動(dòng)調(diào)節(jié)離子束研磨參數(shù)

·具備最廣的離子槍能量范圍： 低能離子槍與超高能離子槍結(jié)合，能量范圍可達(dá) 100 eV ~ 16 keV

·具備高的切削率

·可選擇配備 LN2 液氮制冷

離子槍優(yōu)勢(shì)

UniMill 包括兩支獨(dú)立控制的離子槍：一支高能離子槍和一支低能離子槍。

高能離子槍

Unimill 的高能離子槍提供了最高的研磨率。高達(dá) 16 keV 的離子槍專為要求極低研磨速率的 TEM 樣品制備而設(shè)計(jì)。

低能離子槍

離子槍的特殊結(jié)構(gòu)可在整個(gè)制備過(guò)程中形成高束流密度。能量極低的離子束保證了表面損傷和離子束誘導(dǎo)非晶化效應(yīng)的最小化。

離子槍控制

所有離子槍參數(shù)，如加速電壓和離子束電流在內(nèi)均由智能反饋回路控制，但始終可以在樣品制備過(guò)程中進(jìn)行手動(dòng)調(diào)節(jié)。離子槍參數(shù)的初始值支持自動(dòng)設(shè)置或手動(dòng)調(diào)節(jié)，同時(shí)可在電腦上連續(xù)監(jiān)控和顯示。

性能參數(shù)

離子槍

更高能離子槍（可選）：

• 離子束能量：高達(dá)16 keV，連續(xù)可調(diào)

• 離子束電流：高達(dá) 500 μA

• 離子束直徑：1.6 - 1.8 mm (FWHM)

高能離子槍（標(biāo)配）：

• 離子束能量：高達(dá)10 keV，連續(xù)可調(diào)

• 離子束電流：高達(dá) 300 μA

• 離子束直徑：0.9 - 1.3 mm (FWHM)

低能離子槍：

• 離子束能量：100 eV - 2 keV，連續(xù)可調(diào)

• 離子束電流：7 - 80 μA

• 離子束直徑：1.5 - 2.2 mm (FWHM)

樣品臺(tái)

• 切削角度：0°- 40°，每 0.1° 連續(xù)可調(diào)

• 電腦控制的平面內(nèi)樣品旋轉(zhuǎn)和移動(dòng)：

• 360° 旋轉(zhuǎn)

• 從±10° 到±120° 移動(dòng)，每 10° 連續(xù)可調(diào)

• 可兼容的 TEM 樣品厚度范圍 (30 - 200 μm)

成像系統(tǒng)

• 用于全視覺(jué)控制和切削監(jiān)控/終止的 CMOS 相機(jī)圖像

• 高分辨率彩色 CMOS 相機(jī)

• 50 - 400 倍放大范圍的手動(dòng)變焦視頻鏡頭

電腦控制

• 內(nèi)置工業(yè)級(jí)計(jì)算機(jī)

• 簡(jiǎn)單便捷的圖形界面和圖像分析模塊

• 支持用戶手動(dòng)調(diào)節(jié)離子槍參數(shù)，包括氣流調(diào)節(jié)

• 用于自動(dòng)設(shè)置機(jī)械和切削參數(shù)的預(yù)編程方案（可以手動(dòng)調(diào)整）

• 自動(dòng)樣品加載

• 自動(dòng)終止：圖像分析模塊支持的切削過(guò)程的光學(xué)終止（ 通過(guò)檢測(cè)薄區(qū)穿孔或監(jiān)測(cè)表面形貌）

供氣系統(tǒng)

• 99.999% 純氬氣，絕對(duì)壓力為 1.3 - 1.7 bar

• 帶有電子出口壓力監(jiān)測(cè)功能的惰性氣體專用壓力調(diào)節(jié)器

• 工作氣體流量高精準(zhǔn)控制

真空系統(tǒng)

Pfeiffer 真空系統(tǒng)配備無(wú)油隔膜和渦輪分子泵，配備緊湊的全范圍 Pirani/Penning 真空計(jì)

電源要求

100 - 120 V/10 A/ 50-60 Hz 或 220 - 240 V/5 A/ 50-60 Hz

成像案例