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    日立 Q150V Plus 高真空離子濺射儀

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    產(chǎn)品特點(diǎn)

    1) 全新升級(jí)的用戶(hù)界面:電容式觸摸屏靈敏度高,更易觸控使用
    用戶(hù)界面軟件已廣泛更新,使用現(xiàn)代智能手機(jī)界面技術(shù)
    上下文相關(guān)的全面幫助頁(yè)面
    USB接口可輕松進(jìn)行軟件更新,也可將鍍膜程序文件備份/復(fù)制到U盤(pán)
    log文件可通過(guò)USB端口導(dǎo)出,文件格式為.csv,便于在Exce或類(lèi)似軟件中分析,
    log文件包括日期、時(shí)間和工作參數(shù)。
    16GB的閃存可儲(chǔ)存超過(guò)1000條鍍膜程序;雙核ARM處理器,可實(shí)現(xiàn)快速響應(yīng)的顯示。
    2) 允許多用戶(hù)輸入和儲(chǔ)存鍍膜參數(shù)程序,新功能可根據(jù)近期的使用情況來(lái)排列每個(gè)用戶(hù)的程序。
    3) 智能邏輯系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別插入頭.并顯示相應(yīng)的操作設(shè)置和控制1c
    4) 系統(tǒng)提示用戶(hù)確認(rèn)靶材,然后自動(dòng)為該材料選擇適當(dāng)?shù)膮?shù)。
    5) 直觀的軟件允許生手或偶用者快速輸入和存儲(chǔ)其處理參數(shù)。為方便起見(jiàn),系統(tǒng)已存儲(chǔ)一些典型的濺射和鍍碳程
    序,也允許用戶(hù)創(chuàng)建自己的操作程序。
    6) 如果軟件檢測(cè)到在一段時(shí)間內(nèi)無(wú)法達(dá)到一定真空,在真空泄漏的情況下會(huì)終止程序,以防真空泵過(guò)熱。

    詳細(xì)介紹

    QI 50V PLUS系列全自動(dòng)超精細(xì)鍍膜儀

    QI 50V Plus是一款高真空應(yīng)用的超精細(xì)鍍膜設(shè)備,其極限真空度為lxl0-6mbar。結(jié)合使用寬量程潘寧規(guī)和皮拉尼

    規(guī),可以濺射具有超細(xì)成膜顆粒尺寸的易氧化金屬,適用于高分辨率成像。更低的背底負(fù)壓去除了腔室中的氧氮和水

    汽,避免在濺射過(guò)程中發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以及在鍍膜過(guò)程中產(chǎn)生的雜質(zhì)或缺陷。同樣地,較低的散射可得到高純而致密的

    無(wú)定形碳膜。Q150VPIus除具有Q150TPIus的所有優(yōu)點(diǎn)外,還可獲得更細(xì)成膜顆粒尺寸和更薄的膜,適用于超高

    分辨率應(yīng)用(放大倍數(shù)高于200,000倍)。


    使用QI 50V E&ES Plus進(jìn)行碳棒蒸鍍;使用QI 50V S & ES Plus濺射貴金屬和易氧化金屬,適合SEM應(yīng)用。

    推薦放大倍數(shù):

    up to x 50k using Au鍍金可達(dá)5萬(wàn)倍

    up to x 100k using Pt鍍柏可達(dá)10萬(wàn)倍

    above x 100k using Cr, lr鍍銘、缽可達(dá)1。萬(wàn)倍以上

    非常適合薄膜應(yīng)用,例如鍍ITO, W, Al, Zn


    推薦應(yīng)用:

    超高分辨率放大SEM應(yīng)用

    TEM載網(wǎng)鍍碳

    F舊保護(hù)性銷(xiāo)層

    腐蝕,摩擦和磨損保護(hù)層的研發(fā)

    醫(yī)療設(shè)備上的保護(hù)層

    BSE成像

    EDX, WDS, EBSD 分析

    碳復(fù)型膜

    納米技術(shù),如:沸石,聚合物納米刷


    Q150V Plus功能特點(diǎn):

    1) 全新升級(jí)的用戶(hù)界面:電容式觸摸屏靈敏度高,更易觸控使用

           用戶(hù)界面軟件已廣泛更新,使用現(xiàn)代智能手機(jī)界面技術(shù)

           上下文相關(guān)的全面幫助頁(yè)面

           USB接口可輕松進(jìn)行軟件更新,也可將鍍膜程序文件備份/復(fù)制到U盤(pán)

          log文件可通過(guò)USB端口導(dǎo)出,文件格式為.csv,便于在Exce或類(lèi)似軟件中分析,

          log文件包括日期、時(shí)間和工作參數(shù)。

          16GB的閃存可儲(chǔ)存超過(guò)1000條鍍膜程序;雙核ARM處理器,可實(shí)現(xiàn)快速響應(yīng)的顯示。

    2) 允許多用戶(hù)輸入和儲(chǔ)存鍍膜參數(shù)程序,新功能可根據(jù)近期的使用情況來(lái)排列每個(gè)用戶(hù)的程序。

    3) 智能邏輯系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別插入頭.并顯示相應(yīng)的操作設(shè)置和控制1c

    4) 系統(tǒng)提示用戶(hù)確認(rèn)靶材,然后自動(dòng)為該材料選擇適當(dāng)?shù)膮?shù)。

    5) 直觀的軟件允許生手或偶用者快速輸入和存儲(chǔ)其處理參數(shù)。為方便起見(jiàn),系統(tǒng)已存儲(chǔ)一些典型的濺射和鍍碳程

    序,也允許用戶(hù)創(chuàng)建自己的操作程序。

    6) 如果軟件檢測(cè)到在一段時(shí)間內(nèi)無(wú)法達(dá)到一定真空,在真空泄漏的情況下會(huì)終止程序,以防真空泵過(guò)熱。

    7) 可互換的鍍膜插入頭:允許用戶(hù)將系統(tǒng)配置為濺射鍍膜儀、蒸發(fā)或輝光放電系統(tǒng)-所有這些都是在一臺(tái)設(shè)備中,

           節(jié)省空間。碳繩可選碳繩蒸發(fā)。更換插件時(shí)自動(dòng)檢測(cè)鍍膜插頭類(lèi)型。

    8) 可拆卸腔室,設(shè)有防爆罩:可拆卸式玻璃腔室,容易清潔底座和頂板。如有必要,用戶(hù)可以快速更換腔室,以避

           免敏感樣品的交叉污染。高腔室選項(xiàng)可用于碳蒸發(fā),避免樣品過(guò)熱,提高濺射的均勻性和承載較高尺寸的樣品。

    9) 多種樣品臺(tái)可選:Q150V Plus具有可滿足大多數(shù)要求的樣品臺(tái)。所有樣品臺(tái)都易于更換、插入式(無(wú)螺絲)和

            高度可調(diào)(旋轉(zhuǎn)行星級(jí)除外)。

    10)  QI 50V Plus符合行業(yè)CE標(biāo)準(zhǔn)

    11) 具有"適合TEM應(yīng)用的全自動(dòng)、厚度可控的碳棒精細(xì)蒸發(fā)"、"磁控冷濺射”、“脈沖清潔用于濺射AI”等獨(dú)特

    技術(shù)。


    Q150V Plus具有三種型號(hào):

    1)  Q150VS Plus全自動(dòng)濺射鍍膜儀,可濺射易氧化金屬,實(shí)現(xiàn)超精細(xì)鍍膜,可濺射的靶材包括珞、缽和所有貴金

            屬。

    2)  Q150VEPIUS全自動(dòng)蒸發(fā)鍍碳儀(碳棒、碳繩),適合TEM應(yīng)用,用于TEM柵網(wǎng)鍍碳。

    3)  Q150VES Plus是集成了離子濺射和熱蒸鍍兩種鍍膜方式的一體化鍍膜系統(tǒng),鍍膜頭可在數(shù)秒內(nèi)更換,可選金屬

           蒸發(fā)/光闌清潔。

    QI 50V Plus是Quorum Technologies出品的國(guó)際認(rèn)可的Q系列鍍膜儀的一部分,數(shù)千家客戶(hù)使用此類(lèi)鍍膜儀。

    Q系列旨在為SEM、TEM和薄膜應(yīng)用提供高質(zhì)量的鍍膜解決方案,Q系列功能多樣、價(jià)格合理且易于使用。


    主要操作性能:

    1) 離子濺射:濺射電流可設(shè)范圍寬,至預(yù)設(shè)厚度(需選用FTM) 終止或定時(shí)終止。可設(shè)濺射時(shí)間寬,無(wú)需破真空,

    自動(dòng)內(nèi)置冷卻占空比。

    2) 蒸鍍:可用碳棒(可選碳繩)蒸鍍碳膜;選用鋁籃或鑰舟進(jìn)行金屬熱蒸發(fā);選用標(biāo)準(zhǔn)鋁舟清潔TEM光闌

    3) 可視化狀態(tài)指示

    大而多色的LED指示燈,使用戶(hù)在一定距離就可輕松識(shí)別過(guò)程狀態(tài)。指示燈可顯示以下?tīng)顟B(tài):

    ?初始化中?程序運(yùn)行

    ?空閑狀態(tài)?正在鍍膜

    ?程序完成

    ?故障停機(jī)狀態(tài)

    程序完成后音頻聲音提示。


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