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    反射光譜薄膜測厚儀

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    詳細介紹

    TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀是一款利用反射光譜測試薄膜厚度的儀器,可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度而不損傷樣品表面的薄膜,是一款無損測厚儀,其測量膜厚范圍為15nm-50um,測量膜厚范圍廣,尤其適用于超薄薄膜厚度的測量。儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm,波長范圍廣,因此,測試薄膜厚度的范圍廣。TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀測試系統(tǒng)的理論基礎為鏡面光纖反射探頭,該儀器尺寸小巧可節(jié)省實驗室空間,操作方便,讀數直觀,方便于在實驗室中擺放和使用。

    產品名稱

    TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀

    產品型號

    TFMS-LD

    測量膜厚范圍

    15nm-50um

    光譜波長

    400 nm - 1100 nm

    主要測量透明或半透明薄膜厚度

    氧化物

    氮化物

    光刻膠

    半導體(硅,單晶硅,多晶硅等)

    半導體化合物(ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等)

    硬涂層(碳化硅,類金剛石炭)

    聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

    金屬膜

    特點

    測量和數據分析同時進行,可測量單層膜,多層膜,無基底和非均勻膜

    包含了500多種材料的光學常數,新材料參數也可很容易地添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

    體積較小,方便擺放和操作

    可測量薄膜厚度,材料光學常數和表面粗糙度

    使用電腦操作,界面中點擊,即可進行測量和分析

    精度

    0.01nm或0.01%

    準確度

    0.2%或1nm

    穩(wěn)定性

    0.02nm或0.02%

    光斑尺寸

    標準3mm,可以小至3um

    要求樣品大小

    大于1mm

    分光儀/檢測器

    400 - 1100 nm 波長范圍

    光譜分辨率: < 1 nm

    電源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

    光源

    5W的鎢鹵素燈

    色溫:2800K

    使用壽命:1000小時

    反射探針

    光學纖維探針,400um纖維芯

    配有分光儀和光源支架

    載樣臺

    測量時用于放置測量的樣品

    通訊接口

    USB接口,方便與電腦對接

    TFCompanion軟件

    強大的數據庫包含兩500多種材料的光學常數(n:折射率,K:消失系數)

    誤差分析和模擬系統(tǒng),保證在不同環(huán)境下對樣品測量的準確性

    可分析簡單和復雜的膜系

    設備尺寸

    200x250x100mm

    重量

    4.5kg

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