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離子濺射儀EMS150T
- 品牌:美國EMS
- 型號(hào): EMS150T
- 產(chǎn)地:美洲 美國
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià):面議
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海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司
更新時(shí)間:2018-10-31 10:02:42
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銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品常用儀器(6件)
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- 離子濺射儀EMS150T 核心參數(shù)
詳細(xì)介紹
EMS150T 鍍膜儀
EMS150T鍍膜儀的機(jī)殼是整體成型的,結(jié)構(gòu)堅(jiān)固耐用,配有氣冷的70L/S的渦輪分子泵,自動(dòng)進(jìn)氣控制保證了濺射期間**的真空水平,真空腔室直徑為165mm并帶有防爆裝置。EMS150T具有“真空閉鎖”功能,可在設(shè)備不工作時(shí)維持腔室的真空度,從而保證高真空的性能。
EMS150T鍍膜儀系列全自動(dòng)高真空離子濺射/熱蒸發(fā)一體化鍍膜儀給用戶以類似傻瓜相機(jī)的簡(jiǎn)單操作、ding級(jí)的鍍膜質(zhì)量和對(duì)熟手/新手都很理想的用戶界面,讓用戶真正領(lǐng)略至臻wan美的鍍膜品質(zhì)!
根據(jù)不同的應(yīng)用方向,EMS150T細(xì)分為三個(gè)型號(hào):
l EMS150TS:高分辨率濺射鍍膜儀High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater,可濺射易氧化和不易氧化金屬,可選各種濺射靶材,包括場(chǎng)發(fā)射電鏡常用的銥和鉻。
l EMS150TE:高真空鍍碳儀,可制作高穩(wěn)定的碳膜和表面覆形膜,是TEM應(yīng)用最理想的選擇。
l EMS150TES:集合了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空沉積鍍膜方式,鍍膜頭可在幾秒內(nèi)快速更換,只能邏輯系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別所裝的鍍膜頭類型,并顯示相應(yīng)的操作模式。
注:上述各型號(hào)都可配備如下可選的附件:金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測(cè)量等
觸摸屏控制:
EMS150T鍍膜儀操作十分簡(jiǎn)單,直觀的觸摸屏,即使最不熟練的操作者也可以自由操作,同時(shí)可方便的鍵入和存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。為了方便使用,設(shè)備中已經(jīng)預(yù)存一些了典型的濺射和蒸發(fā)鍍膜參數(shù)資料。
鍍膜插入頭選項(xiàng):
l 具有一系列可互換、即插即用的鍍膜插入頭
l 濺射插入頭適用于易氧化和不易氧化金屬材料,直徑57mmX0.3mm厚鉻靶為標(biāo)準(zhǔn)靶材,可用另外的濺射插入頭來快速更換鍍膜材料(僅為TS和TES型號(hào))
l 適用于3.05mm碳棒蒸發(fā)插入頭
l 適用于6.15mm碳棒蒸發(fā)頭,建議使用3.05mm直徑的碳棒,它們更容易控制、更經(jīng)濟(jì)
l 碳絲蒸發(fā)插入頭
l 金屬蒸發(fā)和光闌潔凈頭,包括向上蒸發(fā)或向下蒸發(fā)(僅為TE和TES型號(hào))
樣品臺(tái)選項(xiàng):
l EMS150T鍍膜儀具有各種易更換的樣品臺(tái),drop-in落入式設(shè)計(jì)具高度可調(diào)(除旋轉(zhuǎn)行星臺(tái))。
l 標(biāo)準(zhǔn)配置為旋轉(zhuǎn)臺(tái), 直徑為50mm
l 可預(yù)設(shè)傾斜角度的旋轉(zhuǎn)臺(tái)(可選)
l 可變角度旋轉(zhuǎn)行星臺(tái)(可選)
l 可用于4〞晶圓的平面旋轉(zhuǎn)臺(tái)(可選)
l 顯微鏡載玻片樣品臺(tái)(可選)
其它選項(xiàng):
l 用于高樣品的加高腔室
l 膜厚監(jiān)測(cè)器(FTM)
l 用于測(cè)量低和高真空的全范圍真空計(jì)
特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn):
l 金屬濺射或碳蒸發(fā)或兩者兼?zhèn)洌阂惑w化設(shè)計(jì),節(jié)約空間
l 精細(xì)顆粒濺射:高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)制樣的精細(xì)鍍膜應(yīng)用
l 渦輪分子泵高真空系統(tǒng):允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜,大大拓寬了可濺射靶材范圍,既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應(yīng)用,也為許多薄膜應(yīng)用等材料科研領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺(tái)
l 全自動(dòng)觸摸屏控制:快速數(shù)據(jù)輸入,簡(jiǎn)單操作
l 可儲(chǔ)存多個(gè)客戶自定義鍍膜方案:對(duì)多用戶實(shí)驗(yàn)室十分理想
l 與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預(yù)編程自動(dòng)真空控制
l 精細(xì)的厚度控制:使用膜厚監(jiān)控選項(xiàng)
l “智能”式系統(tǒng)識(shí)別:自動(dòng)感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型
l 高真空碳蒸鍍:對(duì)SEM和TEM鍍碳膜應(yīng)用非常理想
l 蒸發(fā)電流波形控制
l Drop-in落入式快換樣品臺(tái)(標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺(tái))
l 真空閉鎖功能:可讓工作腔室處于真空狀態(tài),改善后續(xù)真空效果,或在真空條件下保存樣品
l 鍍制厚膜能力:一次真空條件下的濺射時(shí)間可長達(dá)60分鐘(材料科研領(lǐng)域的應(yīng)用)
l 人體工程學(xué)設(shè)計(jì)的整體成型機(jī)殼:易維護(hù)和易拆裝
l 帶有本地FTP服務(wù)器連接的以太網(wǎng)端口:簡(jiǎn)單的程序更新
l 設(shè)有功率因素補(bǔ)償,有效利用電能,降低運(yùn)行成本
l 符合當(dāng)前電器法規(guī)(CE認(rèn)證)
EMS150T儀器參數(shù):
儀器尺寸
585mm寬*470mm*410mm高(總高650mm)
重量
33.4KG
工作腔室
150mm(內(nèi)徑)*127mm(高)硼硅酸鹽玻璃腔室,并帶整體安全防護(hù)罩
觸摸屏用戶界面
帶有觸摸按鈕的全圖像界面,包含多達(dá)十個(gè)鍍膜程序,可提醒何時(shí)需要維護(hù)
工作腔室
150mm(內(nèi)徑)*127mm(高)硼硅酸鹽玻璃腔室,并帶整體安全防護(hù)罩
? 樣品臺(tái)
轉(zhuǎn)速為8-20rpm的旋轉(zhuǎn)臺(tái)
真空系統(tǒng)
渦輪子分子泵:帶有內(nèi)部空氣卻的渦輪分子泵,抽速為70L/s
旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵:抽速為50L/m的兩級(jí)旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵,帶有油污過濾器
真空測(cè)量
皮拉尼真空計(jì)作為標(biāo)配
極限真空度
10-5mbar兩級(jí)
電源需求
90-250V~50/60Hz 1400VA( 包括旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵電壓240V)
氣體
濺射工作氣體氬氣,99.999%(TS和TES版本);氮?dú)?,放氣破真空氣體(可選)
金屬蒸發(fā)和光闌清潔頭
用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)??膳鋫湟粋€(gè)標(biāo)準(zhǔn)鉬舟用于清潔SEM或TEM光闌
碳蒸發(fā)
穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā),確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳
電流脈沖
1-90安培
濺射
0-150mA。可預(yù)設(shè)膜厚(需FTM選項(xiàng))或使用內(nèi)置定時(shí)器
濺射工作真空范圍
5*10-3到5*10-1mbar
濺射靶材和碳耗材供應(yīng)
EMS150TS和EMS150TES標(biāo)配鉻靶,但可選用的其它靶材范圍很寬,包括那些廣泛用于SEM制樣的靶材,如:Au金靶,Au/pd金鈀,Pt鉑靶,和Iridium銥靶。對(duì)非SEM應(yīng)用,可選用的靶材包括:AI鋁,Ta鉭,ITO氧化銦錫,Fe鐵,W鎢,Ti鈦,等等:碳制品包括高純度碳棒和碳絲纖維
樣品室尺寸 | Dia150MM | 靶材料 | 金、鉑金、鉻、銀等 |
靶尺寸 | Dia57mm | 濺射面積 | Dia57MM |
真空度 | 5*10-3到5*10-1mbar |