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Nanoscribe 具備3D設(shè)計(jì)自由度的高級微納光學(xué)

品牌：nanoscribe
型號： 01
產(chǎn)地：歐洲德國
供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議

納糯三維科技（上海）有限公司更新時(shí)間：2025-03-07 14:28:50

銷售范圍售全國

入駐年限第7年

營業(yè)執(zhí)照已審核

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產(chǎn)品特點(diǎn)

微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的極限，借助雙光子聚合技術(shù)的優(yōu)秀性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形，非球形，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹：

具備3D設(shè)計(jì)自由度的高級微納光學(xué)

進(jìn)階增材制造微納光學(xué)

Nanoscribe的高精度3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)幾乎任何三維結(jié)構(gòu)的打印制作，并同時(shí)具備光學(xué)質(zhì)量表面。這有效規(guī)避了機(jī)械工具所施加的限制以及減材制造常見的幾何或工藝設(shè)計(jì)局限?？梢詫?shí)現(xiàn)打印單個(gè)微透鏡，自由曲面光學(xué)器件和復(fù)合透鏡系統(tǒng)等，無需對單個(gè)組件進(jìn)行打印后在組裝起來。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上最高分辨率的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速，超高精度的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。

anoscribe公司的的IP系列光刻膠配合使用并制作高級微納光學(xué)器件。IP-S光敏樹脂非常適合打印具有高形狀精度，光學(xué)質(zhì)量表面的微納結(jié)構(gòu)，例如，用IP-S可以滿足打印優(yōu)于1 μm形狀精度和小于10 nm Ra 表面粗糙度微透鏡陣列。此外，新型IP-n162光敏樹脂具有高折射率（1.62）和高阿貝數(shù)（25）的特點(diǎn)，其光學(xué)性能可與常規(guī)用于注塑成型的光學(xué)聚合物（例如聚碳酸酯和聚酯等）相媲美。這種材料可以用于微納光學(xué)原型制作，從而避免了耗時(shí)昂貴的金剛石研磨注模迭代。

3D微納加工創(chuàng)新科技

微納光學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用

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