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Nanoscribe IP系列光刻膠

品牌：nanoscribe
型號： IP
產地：歐洲德國
供應商報價：面議

納糯三維科技（上海）有限公司更新時間：2025-03-07 14:28:50

銷售范圍售全國

入駐年限第7年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產品IP系列光刻膠(3件)

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產品特點

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于超高分辨率微納加工的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有超高形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。

詳細介紹

Nanoscribe 光刻膠

Nanoscribe為客戶提供自主研發(fā)的IP系列負光刻膠。專用于優(yōu)化雙光子光固化過程，以及優(yōu)異的高精度增材制造中的細節(jié)表達性能：

最小特征尺度：160nm （一般情況下）
高速的微納制造
各種基板的良好附著力
優(yōu)化的機械穩(wěn)定性和超高的形狀精度
簡潔的流程，簡便的工藝
無須勻膠，無須曝光后烘干

Nanoscribe的光刻膠專門優(yōu)化PPGT2 3D打印機和Quantum X無掩模光刻系統(tǒng)的打印過程。

Nanoscribe公司的IP系列光刻膠非常實用。借助IP-Dip，我們可以用IP-S微型噴嘴生產用于復制的模具。我們通過使用Photonic Professional GT打印系統(tǒng)實現了運用其他材料作為水凝膠或硅氧烷。

廣泛的打印材料選擇

Nanoscribe的微納加工系統(tǒng)秉承了開放式理念，適用于加工多種不同的材料。市面上大部分現有的紫外波段感光的光刻膠，水凝膠，還有特定納米顆粒的復合樹脂，或客戶自主研發(fā)的打印材料均可以完美的適用于該系統(tǒng)。

為了滿足各應用領域的材料性能需求，一些光刻膠的諸如光學，機械學，電子學和生物學特性等性能經過工程設計，從而更加適合用于光學，光電和生物醫(yī)學工程等領域。

打印后處理，比如，鍍膜處理，原子層沉積，化學氣相沉積，或電鍍。通過以上的這些手段，本來基于光刻膠的三維微納米結構可以被加上或者置換為多種其它材料，如陶瓷、金屬、玻璃或者其它塑料等材料。

更多材料和工

IP系列光刻膠

光刻膠	特性	可能用于應用領域
新型 IP-PDMS光刻膠	2PP打印的具有柔軟度，柔韌性和高彈性的結構	材料工程，生命科學，細胞和組織工程，微流控，微機電系統(tǒng)（MEMS）
全新 IP-n162	n=1.62高折射率材料；在紅外范圍內低吸收率；非常適合2.5D和3D微納結構的直接打印和原型制造。	3D折射微納光學和自由曲面微納光學元件集成
IP-Visio	符合ISO 10993-5/USP87要求，具有生物兼容性，無生物毒素，細胞顯微鏡下低自發(fā)熒光的特點。	多細胞支架，組織工程，生物醫(yī)學設備，生命科學。
IP-Q	高速加工可達到100立方毫米總打印體積?？捎糜贒ip-in激光光刻技術(DiLL)。	生物醫(yī)學工程，機械零件，高精度手板激光快速成型。
IP-S	符合ISO 10993-5/USP87要求，具有生物兼容性，無生物毒素的特點。用于加工具備光學質量表面和形狀精度的微米和中尺度器件。專為DiLL設計。	力學超材料，微光學，集成光電子，微流道，細胞支架。
IP-Dip	我們的客戶在比ISO 10993-5更嚴格的要求下經過驗證，該材料具有生物兼容性和無生物毒素的特點，具備亞微米特征和高縱橫比。專為DiLL設計。	光學超材料，衍射光學元件，微納機器人。
IP-G	復雜的三維設計，例如，懸垂的結構。亞微米的細節(jié)尺度和低收縮率收縮。適合應用于oil immersion模式。	在仿生學、光子學、微型機器人中具有外懸結構的零件。
IP-L	我們的客戶在比ISO 10993-5更嚴格的要求下經過驗證，該材料具有生物兼容性和無生物毒素的特點，具備亞微米特征和低收縮率。專為油浸配置而設計，與DiLL兼容。	表面等離子體光子學、光學超表面和仿生表面。

玻璃印刷

光刻膠	優(yōu)勢	可能用于應用領域
新型 GP-Silica	具有高機械穩(wěn)定性、熱穩(wěn)性和化學穩(wěn)定性特點的熔融石英玻璃結構 3D 微納加工。	微流控、材料工程、生命科學、微機電系統(tǒng) (MEMS)

可適用第三方光刻膠