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鑲嵌壓力、溫度、時(shí)間可任意調(diào)整，隨材質(zhì)的不同變化 進(jìn)料-鑲嵌-加熱-冷卻-出樣全自動(dòng)化運(yùn)行 出樣定位精準(zhǔn)，可搭配本公司全自動(dòng)磨拋系統(tǒng)或其他自動(dòng)化設(shè)備聯(lián)動(dòng)

包含定位載料盤、研磨拋光單元、清洗單元以及供料單元，可以實(shí)現(xiàn)從取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動(dòng)流程，通過(guò)觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數(shù)，并能進(jìn)行參數(shù)設(shè)定存檔，并可一鍵啟動(dòng)

UNIPOL-1500M-16自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、巖樣、礦樣、復(fù)合材料、有機(jī)高分子材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋

UNIPOL-1502TS自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)適用于各種材料的研磨與拋光，本機(jī)設(shè)置了?381mm的研磨拋光盤和三個(gè)加工工位，可用于研磨拋光≤?110mm的平面。UNIPOL-1502自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)若

至多可選配四個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。 可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。 體積小，操作簡(jiǎn)便。 整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)，...

適用于難熔金屬（鎢、鉬、鋯、鉿、鉭、鈮、鈦、錸、鈹）等合金的熔煉。

VTC-1HD-Z F2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設(shè)備，含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜

UNIPOL-1210S自動(dòng)壓力研磨拋光系統(tǒng)主要用于材料研究領(lǐng)域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，也可用于工廠的小規(guī)模生產(chǎn)。該機(jī)具有加工精度高，性能穩(wěn)定可靠，操作簡(jiǎn)單，適用

SYJ-50A金相試樣切割機(jī)是利用高速旋轉(zhuǎn)的薄片砂輪截取金相試樣，是實(shí)驗(yàn)室切割金屬試樣的專用設(shè)備,磨削切割可提高切削端面的光潔度，本機(jī)附有冷卻裝置，用于冷卻切削是產(chǎn)生的熱量，避免試樣過(guò)熱改變金相組織。

SP-MSM-8八工位吸鑄熔煉爐是一款8工位的電弧熔煉吸鑄系統(tǒng)，專門針對(duì)于合金的結(jié)構(gòu)和相圖研究。一次可熔煉吸鑄8組樣品，其熔煉溫度上限可達(dá)到3500℃。

該自動(dòng)鈣鈦礦涂膜系統(tǒng)采用自動(dòng)吸液注液方式，注液后在基片表面自動(dòng)旋涂出一層薄膜，旋涂后移動(dòng)基片至烤膠機(jī)表面進(jìn)行薄膜烘干。液體可進(jìn)行攪拌防止沉淀，如需加熱可對(duì)液體進(jìn)行加熱操作。整個(gè)操作過(guò)程在11寸觸摸屏上...

MSK-4680電池拆殼機(jī)是一款適用于實(shí)驗(yàn)室分析柱狀電池內(nèi)部狀態(tài)的專用拆殼機(jī)，適用電池型號(hào)范圍有18650，26650，32650，4680等。本設(shè)備，體積小，操作簡(jiǎn)單，置于實(shí)驗(yàn)室桌面之上即可使用。

PCE-66是一款小型紫外臭氧清洗機(jī)，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤(rùn)濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。內(nèi)置加熱管，可加熱基片，加熱溫度上...

PCE-66是一款小型紫外臭氧清洗機(jī)，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤(rùn)濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。內(nèi)置加熱管，可加熱基片，加熱溫度上...

SP-MSM800A高真空電弧熔煉爐是一款大型的高真空電弧熔煉系統(tǒng)，3個(gè)熔煉工位（3坩堝）。一個(gè)工位帶有磁力攪拌系統(tǒng)（熔煉量為80g）,一個(gè)熔煉工位帶有真空吸注裝置（熔煉量為150g）,Z后一個(gè)工位Z...