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2025-01-10 17:05:48真空式滅菌器: 真空式滅菌器是一種高效滅菌設(shè)備，通過抽真空降低腔內(nèi)氣壓，再注入高溫蒸汽進(jìn)行滅菌處理。其優(yōu)勢(shì)在于能徹底殺滅包括芽孢在內(nèi)的微生物，保證物品的無菌狀態(tài)。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于醫(yī)療、制藥、生物實(shí)驗(yàn)等領(lǐng)域，適用于對(duì)耐熱、耐濕物品的滅菌。真空式滅菌器操作簡(jiǎn)便，滅菌效果可靠，且能有效防止蒸汽冷凝造成的二次污染，是科研和生產(chǎn)中不可或缺的重要工具。

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日本原裝進(jìn)口的TOMY滅菌鍋，是典型的下排氣式滅菌器。獨(dú)有的腳踏上掀蓋設(shè)計(jì)，讓滅菌操作更便利。

天美儀拓實(shí)驗(yàn)室設(shè)備（上海）有限公司 622
2022-07-04
滅菌器真空式滅菌器下排氣式滅菌鍋 TOMY滅菌鍋

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真空式滅菌器問答

2022-12-26 17:00:36真空磨制試樣|行星式球磨機(jī)JX-2G對(duì)活性炭研磨實(shí)驗(yàn)效果: 　　行星式球磨機(jī)是混合、細(xì)磨、小樣制備、納米材料分散、新產(chǎn)品研制和小批量生產(chǎn)高新技術(shù)材料的必備裝置。該產(chǎn)品體積小、功能全、效率高是科研單位、高等院校、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室獲取微顆粒研究試樣（每次實(shí)驗(yàn)可同時(shí)獲得四個(gè)樣品）的理想設(shè)備，配用真空球磨罐，可在真空狀態(tài)下磨制試樣?！　?shí)驗(yàn)要求：　　1、進(jìn)料粒度：200目，要求出料粒度：大于325目　　2、單次處理量：10g～20g　　使用儀器和樣品：　　樣品：活性炭　　儀器：1臺(tái)凈信（行星式球磨機(jī)）　　配件：不銹鋼球磨罐，不銹鋼球磨珠若干　　實(shí)驗(yàn)步驟：　　1、將提前準(zhǔn)備好的活性炭分為兩份　　2、分別放入兩個(gè)不銹鋼球磨罐中后加入不銹鋼球磨珠若干蓋上蓋子　　3、將其2個(gè)罐子對(duì)稱放在儀器中，旋蓋上扣子，蓋上儀器蓋子　　4、設(shè)置主機(jī)參數(shù)，根據(jù)要求設(shè)備研磨時(shí)間及頻率后啟動(dòng)設(shè)備　　5、待球磨機(jī)停止運(yùn)行后打開設(shè)備即可獲得研磨后的樣品　　實(shí)驗(yàn)效果：樣品處理前后效果圖　　研磨結(jié)果：此次實(shí)驗(yàn)樣品（活性炭）經(jīng)過行星式球磨機(jī)球磨后的觸感比球磨前粉末更細(xì)膩，且可以過325目篩。實(shí)驗(yàn)效果優(yōu)。

2021-11-25 15:58:55滅菌器使用方法你知道嗎？: 滅菌器：滅菌器是一種可以殺死或去除傳播介質(zhì)上的所有微生物，包括細(xì)菌孢子和非致病性微生物的儀器。通常有三種方式: 濕熱消毒滅菌、干熱消毒滅菌、化學(xué)消毒滅菌。滅菌器使用壓力蒸汽滅菌器向外筒加水，并將消毒過的物品放入內(nèi)筒。蓋上蓋并擰緊螺絲使其緊緊密封。滅菌器用煤氣或電爐加熱，同時(shí)打開排水管以排出其中冷空氣。否則，壓力表上顯示的壓力并不全是蒸汽壓力，滅菌將不完整。在所有冷空氣排出后 (即，當(dāng)水蒸氣不斷從排氣閥排出時(shí))，關(guān)閉排氣閥。繼續(xù)加熱，當(dāng)壓力表逐漸上升到所需壓力 (通常為101.53 kPa，即15鎊/英寸2，溫度為 ℃) 時(shí)，調(diào)解火勢(shì)，保持壓力和溫度 (注意不要壓力過大，以免發(fā)生事故)，保持15 ~ 30分鐘。滅菌時(shí)間到達(dá)后，停止加熱。當(dāng)壓力降至零時(shí)，慢慢打開排氣閥以除去殘留氣體，并打開蓋子以獲取物料。當(dāng)壓力沒有降至零時(shí)，不要突然打開排水龍頭，以免液體從消毒器中噴出。干熱滅菌器將培養(yǎng)皿、吸管、試管和其他玻璃設(shè)備裝入盒子，并在門關(guān)閉的情況下加熱。當(dāng)溫度上升到160 ~ 170 ℃ 時(shí)，保持溫度2小時(shí)。到達(dá)時(shí)間后，停止加熱。當(dāng)溫度自然下降到40 ℃ 以下時(shí)，你可以打開門拿起物體。否則，冷空氣會(huì)突然進(jìn)入，很容易導(dǎo)致玻璃破裂; 并且熱空氣溢出，這經(jīng)常會(huì)灼傷提取器的皮膚。一般秸稈、試管、培養(yǎng)皿、凡士林、液體石蠟等可以用這種方法進(jìn)行滅菌。在選擇滅菌鍋時(shí)沒有頭緒，千挑萬選后發(fā)現(xiàn)Yamato滅菌鍋是個(gè)不錯(cuò)的選擇。Yamato滅菌鍋優(yōu)勢(shì)1. 更快冷卻：標(biāo)準(zhǔn)裝備有冷卻風(fēng)葉，大幅縮短冷卻時(shí)間。2.降低腐蝕：內(nèi)腔采用3mm鏡面不銹鋼，減少液滴附著可能，降低腐蝕性物質(zhì)對(duì)腔體的侵蝕。3.持久耐用：設(shè)計(jì)使用壽命20年。上海爾迪儀器科技有限公司代理日本Yamato滅菌鍋，如果需要更多詳細(xì)資料，可聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司，撥打電話021-62211270！021-62211270！

2023-07-29 11:31:59真空BNC連接器產(chǎn)品優(yōu)勢(shì): 同軸真空BNC接頭是一種常見的射頻連接器，廣泛應(yīng)用于射頻和微波通信、數(shù)據(jù)處理及測(cè)量設(shè)備。BNC（Bayonet Neill-Concelman）接頭是由美國(guó)的Paul Neill和Carl Concelman于1945年發(fā)明的。以下是同軸真空BNC接頭的一些特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)：1. 易于連接和斷開：BNC接頭采用了快速卡口式結(jié)構(gòu)，使得連接和斷開變得非常方便。用戶只需將插頭插入座子，然后旋轉(zhuǎn)90度即可完成連接。2. 較低的插損：同軸真空BNC接頭的設(shè)計(jì)使得在連接過程中的信號(hào)損失較低，提高了設(shè)備的性能。3. 良好的屏蔽性能：BNC接頭具有良好的屏蔽性能，能有效阻止外部電磁干擾，確保信號(hào)的穩(wěn)定傳輸。4. 兼容性強(qiáng)：BNC接頭廣泛應(yīng)用于各種設(shè)備之間的連接，具有很強(qiáng)的通用性和兼容性。5. 經(jīng)濟(jì)實(shí)用：同軸真空BNC接頭的生產(chǎn)成本相對(duì)較低，使得它在許多應(yīng)用場(chǎng)景中成為主要的連接器。6. 頻率范圍：BNC接頭的工作頻率范圍可達(dá)到4 GHz，適用于多種射頻和微波通信場(chǎng)景。7. 真空兼容性：同軸真空BNC接頭經(jīng)過特殊處理，可在真空環(huán)境中使用，適用于高真空和超高真空系統(tǒng)。需要注意的是，隨著通信技術(shù)的發(fā)展，BNC接頭的頻率范圍可能不足以滿足一些高性能應(yīng)用的需求。在這種情況下，可以考慮使用其他更高頻率的同軸連接器，如SMA、N型等。

2023-02-15 14:54:00真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)原理: 真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)原理一、蒸發(fā)鍍膜簡(jiǎn)述：真空蒸發(fā)鍍膜（簡(jiǎn)稱真空蒸鍍）是指在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到固體（稱為襯底或基片）表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。由于真空蒸發(fā)法或真空蒸鍍法主要物理過程是通過加熱蒸發(fā)材料而產(chǎn)生，所以又稱熱蒸發(fā)法或者熱蒸鍍，所配套的設(shè)備稱之為熱蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)。這種方法zui早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。盡管后來發(fā)展起來的濺射鍍和離子鍍?cè)谠S多方面要比蒸鍍優(yōu)越，但真空蒸發(fā)技術(shù)仍有許多優(yōu)點(diǎn)，如設(shè)備與工藝相對(duì)比較簡(jiǎn)單，即可鍍制非常純凈的膜層，又可制備具有特定結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的膜層等，仍然是當(dāng)今非常重要的鍍膜技術(shù)。近年來，由于電子轟擊蒸發(fā)，高頻感應(yīng)蒸發(fā)及激光蒸發(fā)等技術(shù)在蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的廣泛應(yīng)用，使這一技術(shù)更趨完善。近年來，該法的改進(jìn)主要是在蒸發(fā)源上。為了抑制或避免薄膜原材料與蒸發(fā)加熱器發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，改用耐熱陶瓷坩堝，如 BN坩堝。為了蒸發(fā)低蒸氣壓物質(zhì)，采用電子束加熱源或激光加熱源。為了制造成分復(fù)雜或多層復(fù)合薄膜，發(fā)展了多源共蒸發(fā)或順序蒸發(fā)法。為了制備化合物薄膜或抑制薄膜成分對(duì)原材料的偏離，出現(xiàn)了反應(yīng)蒸發(fā)法等。二、熱蒸鍍工作原理：真空蒸發(fā)鍍膜包括以下三個(gè)基本過程∶（1）加熱蒸發(fā)過程。包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀啵ü滔嗷蛞合唷鷼庀啵┑南嘧冞^程。每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同溫度時(shí)有不相同的飽和蒸氣壓;蒸發(fā)化合物時(shí)，其組分之間發(fā)生反應(yīng)，其中有些組分以氣態(tài)或蒸氣進(jìn)入蒸發(fā)空間。（2）氣化原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間的輸運(yùn)過程，即這些粒子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。飛行過程中與真空室內(nèi)殘余氣體分子發(fā)生碰撞的次數(shù)，取決于蒸發(fā)原子的平均自由程，以及從蒸發(fā)源到基片之間的距離，常稱源-基距。（3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面上的沉積過程，即是蒸氣凝聚、成核、核生長(zhǎng)、形成連續(xù)薄膜。由于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度，因此，沉積物分子在基板表面將直接發(fā)生從氣相到固相的相轉(zhuǎn)變過程。將膜材置于真空鍍膜室內(nèi)，通過蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于真空鍍膜室的線性尺寸時(shí)，蒸汽的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，在飛向基片表面過程中很少受到其他粒子（主要是殘余氣體分子）的碰撞阻礙，可直接到達(dá)被鍍的基片表面，由于基片溫度較低，便凝結(jié)其上而成膜，為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力，對(duì)基片進(jìn)行適當(dāng)?shù)募訜崾潜匾?。為使蒸發(fā)鍍膜順利進(jìn)行，應(yīng)具備蒸發(fā)過程中的真空條件和制膜過程中的蒸發(fā)條件。蒸發(fā)過程中的真空條件：真空鍍膜室內(nèi)蒸汽分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離（稱做蒸距）時(shí)，就會(huì)獲得充分的真空條件。為此，增加殘余氣體的平均自由程，借以減少蒸汽分子與殘余氣體分子的碰撞概率，把真空鍍膜室抽成高真空是非常必要的。否則，蒸發(fā)物原子或分子將與大量空氣分子碰撞，使膜層受到嚴(yán)重污染，甚至形成氧化物；或者蒸發(fā)源被加熱氧化燒毀；或者由于空氣分子的碰撞阻擋，難以形成均勻連續(xù)的薄膜。三、真空蒸鍍特點(diǎn): 優(yōu)點(diǎn)：設(shè)備比較簡(jiǎn)單、操作容易；制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚度可較準(zhǔn)確控制；成膜速率快，效率高；薄膜的生長(zhǎng)機(jī)理比較簡(jiǎn)單；缺點(diǎn)：不容易獲得結(jié)晶結(jié)構(gòu)的薄膜；所形成的薄膜在基板上的附著力較小；工藝重復(fù)性不夠好等。四、蒸發(fā)源的類型及選擇：蒸發(fā)源是用來加熱膜材使之氣化蒸發(fā)的裝置。目前所用的蒸發(fā)源主要有電阻加熱，電子束加熱，感應(yīng)加熱，電弧加熱和激光加熱等多種形式。電阻加熱蒸發(fā)裝置結(jié)構(gòu)較簡(jiǎn)單，成本低，操作簡(jiǎn)便，應(yīng)用普遍。電阻加熱式蒸發(fā)源的發(fā)熱材料一般選用W、Mo、Ta、Nb等高熔點(diǎn)金屬，Ni、Ni-Cr合金。把它們加工成各種合適的形狀，在其上盛裝待蒸發(fā)的膜材。一般采用大電流通過蒸發(fā)源使之發(fā)熱，對(duì)膜材直接加熱蒸發(fā)，或把膜材放入石墨及某些耐高溫的金屬氧化物（如Al2O3，BeO）等材料制成的坩堝中進(jìn)行間接加熱蒸發(fā)。采用電阻加熱法時(shí)應(yīng)考慮的問題是蒸發(fā)源的材料及其形狀，主要是蒸發(fā)源材料的熔點(diǎn)和蒸氣壓，蒸發(fā)源材料與薄膜材料的反應(yīng)以及與薄膜材料之間的濕潤(rùn)性。因?yàn)楸∧げ牧系恼舭l(fā)溫度（平衡蒸氣壓為1. 33 Pa時(shí)的溫度）多數(shù)在1 000 ~2 000 K之間，所以蒸發(fā)源材料的熔點(diǎn)需高于這一溫度。而且．在選擇蒸發(fā)源材料時(shí)必須考慮蒸發(fā)源材料大約有多少隨蒸發(fā)而成為雜質(zhì)進(jìn)入薄膜的問題。因此，必須了解有關(guān)蒸發(fā)源常用材料的蒸氣壓。為了使蒸發(fā)源材料蒸發(fā)的分子數(shù)非常少，蒸發(fā)溫度應(yīng)低于蒸發(fā)源材料平衡蒸發(fā)壓為1. 33×10-6Pa時(shí)的溫度。在雜質(zhì)較多時(shí)，薄膜的性能不受什么影響的情況下，也可采用與1. 33×10-2Pa對(duì)應(yīng)的溫度。綜上所述，蒸發(fā)源材料的要求：1、高熔點(diǎn)：必須高于待蒸發(fā)膜材的熔點(diǎn)（常用膜材熔點(diǎn)1000～2000℃）2、飽和蒸氣壓低：保證足夠低的自蒸發(fā)量，不至于影響系統(tǒng)真空度和污染膜層3、化學(xué)性能穩(wěn)定：在高溫下不應(yīng)與膜材發(fā)生反應(yīng)，生成化合物或合金化4、良好的耐熱性5、原料豐富、經(jīng)濟(jì)耐用蒸發(fā)材料對(duì)蒸發(fā)源材料的“濕潤(rùn)性”：選擇蒸發(fā)源材料時(shí)，必須考慮蒸鍍材料與蒸發(fā)材料的“濕潤(rùn)性”問題。蒸鍍材料與蒸發(fā)源材料的濕潤(rùn)性”與蒸發(fā)材料的表面能大小有關(guān)。高溫熔化的蒸鍍材料在蒸發(fā)源上有擴(kuò)展傾向時(shí)，可以認(rèn)為是容易濕潤(rùn)的;如果在蒸發(fā)源上有凝聚而接近于形成球形的傾向時(shí)，就可以認(rèn)為是難干濕潤(rùn)的在濕潤(rùn)的情況下，材料的蒸發(fā)是從大的表面上發(fā)生的且比較穩(wěn)定，可以認(rèn)為是面蒸發(fā)源的蒸發(fā);在濕潤(rùn)小的時(shí)候，一般可認(rèn)為是點(diǎn)蒸發(fā)源的蒸發(fā)。如果容易發(fā)生濕潤(rùn)，蒸發(fā)材料與蒸發(fā)源十分親和，蒸發(fā)狀態(tài)穩(wěn)定;如果是難以濕潤(rùn)的，在采用絲狀蒸發(fā)源時(shí)，蒸發(fā)材料就容易從蒸發(fā)源上掉下來。五、合金與化合物的蒸發(fā)： 1、合金的蒸發(fā)：采用真空蒸發(fā)法制作預(yù)定組分的合金薄膜，經(jīng)常采用瞬時(shí)蒸發(fā)法、雙蒸發(fā)源法。分餾現(xiàn)象：當(dāng)蒸發(fā)二元以上的合金及化合物時(shí)，蒸發(fā)材料在氣化過程中，由于各成分的飽和蒸氣壓不同，使得其蒸發(fā)速率也不同，得不到希望的合金或化合物的比例成分，這種現(xiàn)象稱為分餾現(xiàn)象。（1）瞬時(shí)蒸發(fā)法：瞬時(shí)蒸發(fā)法又稱“閃爍”蒸發(fā)法。將細(xì)小的合金顆粒，逐次送到非常熾熱的蒸發(fā)器中，使一個(gè)一個(gè)的顆粒實(shí)現(xiàn)瞬間完全蒸發(fā)。關(guān)鍵以均勻的速率將蒸鍍材料供給蒸發(fā)源粉末粒度、蒸發(fā)溫度和粉末比率。如果顆粒尺寸很小，幾乎能對(duì)任何成分進(jìn)行同時(shí)蒸發(fā)，故瞬時(shí)蒸發(fā)法常用于合金中元素的蒸發(fā)速率相差很大的場(chǎng)合。優(yōu)點(diǎn)：能獲得成分均勻的薄膜，可以進(jìn)行摻雜蒸發(fā)等。缺點(diǎn)：蒸發(fā)速率難以控制，且蒸發(fā)速率不能太快。（2）雙源蒸發(fā)法：將要形成合金的每一成分，分別裝入各自的蒸發(fā)源中，然后獨(dú)立地控制各個(gè)蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率，使達(dá)到基板的各種原子與所需合金薄膜的組成相對(duì)應(yīng)。為使薄膜厚度分布均勻，基板常需要進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。2、化合物的蒸發(fā)：化合物的蒸發(fā)方法：（1）電阻加熱法（2）反應(yīng)蒸發(fā)法（3）雙源或多源蒸發(fā)法（4）三溫度法（5）分子束外延法反應(yīng)蒸發(fā)法主要用于制備高熔點(diǎn)的絕緣介質(zhì)薄膜，如氧化物、氮化物和硅化物等。而三溫度法和分子外延法主要用于制作單晶半導(dǎo)體化合物薄膜，特別是III-V族化合物半導(dǎo)體薄膜、超晶格薄膜以及各種單晶外延薄膜等。將活性氣體導(dǎo)入真空室，使活性氣體的原子、分子和從蒸發(fā)源逸出的蒸發(fā)金屬原子、低價(jià)化合物分子在基板表面淀積過程中發(fā)生反應(yīng)，從而形成所需高價(jià)化合物薄膜的方法。不僅用于熱分解嚴(yán)重，而且用于因飽和蒸氣壓較低而難以采用電阻加熱蒸發(fā)的材料。經(jīng)常被用來制作高熔點(diǎn)的化合物薄膜，特別是適合制作過渡金屬與易分解吸收的02， N2等反應(yīng)氣體所組成的化合物薄膜（例如SiO2、ZrN、AlN、SiC薄膜）。在反應(yīng)蒸發(fā)中，蒸發(fā)原子或低價(jià)化合物分子與活性氣體發(fā)生反應(yīng)的地方有三種可能，即蒸發(fā)源表面、蒸發(fā)源到基板的空間和基板表面。

2023-10-11 18:02:43請(qǐng)教質(zhì)譜儀真空腔體的表面處理!: 最近有接觸到質(zhì)譜的真空腔體，拆機(jī)后發(fā)現(xiàn)腔內(nèi)（鋁合金基材)表面像做了鏟花一樣的紋路，見附圖，請(qǐng)教各位大神，這是什么表面處理？有什么益處？謝謝指點(diǎn)！