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    X射線圖

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    詳細介紹

    簡介

    NTT的X射線圖的大特點是高耐X射線輻射性、超清晰圖案和低邊緣粗糙度。本公司基于Ta吸收體圖的SiC膜較為其精確,能為用戶的X射線分析系統(tǒng)評估提供清晰的圖像

    有三種X射線圖可應用于各種方面:標準型、高分辨率和高對比度型以及超高分辨率型??蔀橛脩舻南到y(tǒng)定制圖案布局和基板尺寸。

    項目

    標準型

    XRESO-100

    高分辨率型

    帶較厚Ta

    吸收體

    XRESO-50HC

    新?。?/p>

    超高分辨率

    XRESO-20

    基板

    材料、尺寸

    Si 10 mm2

    厚度

    1mm

    1mm

    0.625mm

    材料、

    厚度

    Ru 20 nm

    SiN 2μm

    Ru 20 nm

    SiC 200 nm

    SiN 50 nm

    Ru 20 nm

    SiC 200 nm

    SiN 50 nm

    圖案

    吸收體、

    厚度

    Ta 1μm

    Ta 500 nm

    Ta 100 nm

    小圖案尺寸

    100 nm

    50 nm

    20 nm

    放射形圖案

    圖案區(qū)域

    250μm×350μm

    300μm2

    300μm2



     -  X射線顯微鏡

     -  XUV / X射線相干成像

     - 超細X射線檢查


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