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    韓國(guó)Nanobase 光電流成像系統(tǒng)PL_mapping_system

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    詳細(xì)介紹

    光電流成像系統(tǒng),同時(shí)可用于拉曼光譜成像,熒光光譜成像。

    u  獨(dú)特的激光掃描技術(shù),具有優(yōu)異的掃描分辨率和重復(fù)性

        激光掃描分辨率< 0.02 um & 重復(fù)性< 0.1 μm

    u  體相全息光柵光譜儀

        光透過(guò)率>90%,比反射式光柵高30%,信號(hào)傳輸效率更高

    u  具有Raman/PL/光電流等多種測(cè)量模式

    u  結(jié)構(gòu)緊湊,模塊化設(shè)計(jì)

    u  掃描速度快,掃描范圍大

    200μm x 200μm范圍內(nèi)高速成像 & 2D Mapping (x 40 objective)

     

    探針臺(tái),拉曼光譜成像,PL,熒光光譜成像,光電流光譜成像,拉曼 mapping,PL mapping,photocurrent mapping,光電流mapping,熒光mapping


    韓國(guó)Nanobase公司zui新推出的激光共聚焦光電流成像系統(tǒng)(光電流mapping)結(jié)合了探針臺(tái)和激光共聚焦成像系統(tǒng),不僅可以用作探針臺(tái),還可以用于光電流成像,同事擴(kuò)展支持拉曼光譜成像和熒光光譜成像,產(chǎn)品具有如下特點(diǎn):

     

    ? 客制化,可升級(jí)設(shè)計(jì)

    ? 200μm x 200μm 大面積快速掃描成像 & 2D Mapping (x 40 objective)

    ? 采用VPHG體相全息光柵,光通過(guò)率高。

    ? 易于使用和維護(hù)

    ? 可升級(jí)至拉曼光譜成像和熒光光譜成像

     

    光學(xué)參數(shù):

    激發(fā)光源

    445,532,635,808,1530nm等

    顯微鏡(標(biāo)配)

    X40,NA=0.75

    光譜范圍

    30cm-1到6000cm-1

    激光掃描

    分辨率< 0.02 um & 重復(fù)性< 0.1 μm

    FOV:200μm x 200μm@40X物鏡

    激光掃描光譜范圍

    VIS:450-700nm
      NIR 1:650-1050nm

    NIR   2: 1050-1550nm

     

    探針臺(tái)參數(shù):

    探針臺(tái)

    6寸真空吸附卡盤,

    光譜范圍

    30cm-1到6000cm-1

    XY方向移動(dòng)范圍

    150 x 150mm, 分辨率5um FOV:200μm x 200μm@40X物鏡

    Z方向移動(dòng)范圍

    上/下10mm, 分辨率1um

    探針頭

    金,鎢

    高精度定位器

    PH-C15, 10fA leakage current 4SET

     


    配備獨(dú)特的激光掃描裝置


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