Gatan SmartEMIC 電子束感應(yīng)電流測(cè)量系統(tǒng)

產(chǎn)品功能介紹

        EBIC分析系統(tǒng)，可以實(shí)時(shí)軟件控制全自動(dòng)采集電子束感生電流（EBIC）信號(hào)，獲得EBIC圖像信息，還可以獲得IV曲線信息，可以測(cè)試PN結(jié)位置，寬度，少子擴(kuò)散長(zhǎng)度，材料或器件的失效點(diǎn)定位，廣泛應(yīng)用于電子半導(dǎo)體領(lǐng)域。

產(chǎn)品系統(tǒng)特點(diǎn)：

        高性能、地噪聲EBIC系統(tǒng)，進(jìn)行定量EBIC測(cè)量。界面友好的智能分析軟件運(yùn)行于DigitalMicrograph軟件平臺(tái)。

        用于SEM的SmartEBIC 系統(tǒng)包括：

        ?計(jì)算機(jī)控制的、充電電池供電的EBIC放大器

        ?高級(jí)EBIC樣品座(ASH)，并配有可調(diào)節(jié)的鎢探針以進(jìn)行臺(tái)式接觸。配以適當(dāng)?shù)?/span>Gatan適配器還可以通過空氣鎖來裝載試樣*

        ? 與SEM樣品臺(tái)接口

        ?鏈接插座及4個(gè)BNC型的電纜鏈接，低噪聲這空饋通，適于EBIC和電子束流的測(cè)量

        ?具有Fireware技術(shù)的DigiScan II數(shù)字電子束控制系統(tǒng)。它包括兩個(gè)模擬輸入，可同時(shí)采集攝影質(zhì)量的圖像，并可靈活控制像素強(qiáng)度、每點(diǎn)駐留時(shí)間、掃描旋轉(zhuǎn)等。對(duì)于某些SEM，它還可以通過軟件通訊SEM的操作參數(shù)。

        ?配有先進(jìn)的SmartEBIC應(yīng)用插件的Digital Micrography軟件，以進(jìn)行定量測(cè)量、線性輪廓的實(shí)時(shí)和后處理分析

        產(chǎn)品主要技術(shù)參數(shù)：

        SmartEBIC可以對(duì)EBIC信號(hào)進(jìn)行自動(dòng)控制采集和定量分析:

        掃描控制系統(tǒng):

  1、1-, 2- or 4-比特?cái)?shù)據(jù)采集提供了超大的動(dòng)態(tài)范圍

  2、從 16 x 1 至 8000 x 8000 像素掃描分辨率

  3、電子束停留時(shí)間，在0.5毫秒/像素到300毫秒/像素之間可調(diào)

  4、自動(dòng)調(diào)節(jié)圖像顯示大小，使得EBIC實(shí)驗(yàn)過程變得更方便

*5、配置Digi-Scan控制器，實(shí)時(shí)軟件控制全自動(dòng)采集，可以在EBIC信號(hào)的采集時(shí)就對(duì)信號(hào)進(jìn)行定量分析，無需附加的后處理，

*6、不僅獲得EBIC圖像信息，還可以獲得IV曲線信息。

        噪音控制:

  1. 特別設(shè)計(jì)的EBIC附屬樣品臺(tái)

  2. 同軸繞線方式

  3. 可重復(fù)使用的鉛酸電池 (15小時(shí)續(xù)航時(shí)間)

  4. 可以改變放大器的增益，從而優(yōu)化數(shù)據(jù)采集的信噪比和帶寬

  5. 兩種可選的一階RC濾波器 ，低通或高通濾波

  6. 低漂移放大模式

  7. 在與PC通訊的時(shí)間以外，系統(tǒng)的微處理器會(huì)自動(dòng)切換到睡眠狀態(tài)

  8. 豐富的圖像處理工具。包含銳化工具、平滑工具和傅立葉變換工具等。  

  9. 可以適配與Lock-in技術(shù)（本系統(tǒng)并不提供，這樣的配置系統(tǒng)將不會(huì)對(duì)EBIC信號(hào)定量分析）

        追蹤:

        通過軟件實(shí)現(xiàn)。在12bit（1.22mV）采集分辨率模時(shí)為+/-5V。

        自動(dòng)化:

        即使在放大器參數(shù)設(shè)定欠佳的條件下，系統(tǒng)也能自動(dòng)優(yōu)化圖像的顯示大小，從而提供更方便的圖像瀏覽

        可以對(duì)放大器的偏移/增益進(jìn)行自動(dòng)設(shè)置

        軟件:

        流程式一維擴(kuò)散長(zhǎng)度測(cè)量

        廣泛的面掃/線掃描分析工具，包括數(shù)學(xué)分析工具，濾波應(yīng)用等

        廣泛的圖像顯示方案選項(xiàng)，包括二次電子圖像與EBIC圖像的疊加

        編程語言可助您為自己的實(shí)驗(yàn)編寫定制化軟件

        產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域：

        測(cè)試PN結(jié)位置，寬度，少子擴(kuò)散長(zhǎng)度金屬材料

        材料或器件的失效點(diǎn)定位

        測(cè)試半導(dǎo)體材料的位錯(cuò)密度

        IV特性測(cè)試

        應(yīng)用實(shí)例：

        應(yīng)用一：測(cè)試PN結(jié)位置，寬度，少子擴(kuò)散長(zhǎng)度

應(yīng)用二：材料或器件的失效點(diǎn)定位

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