Gatan SOLARUS (950)Plasma Cleaning System等離子清洗儀

產(chǎn)品綜合介紹：

產(chǎn)品功能介紹

等離子清洗技術(shù)起源于約30年前的半導體行業(yè),等離子清洗主要用于清洗樣品表面的碳氫化合物.等離子清洗的關(guān)鍵要點在于：不能改變樣品本身的化學組成;不能改變樣品的結(jié)構(gòu)特征;不能損傷樣品表面.

SOLARUS - 全新先進等離子體清洗系統(tǒng)，去除碳氫化合物對TEM和SEM樣品臺或樣品的污染。Solarus是新一代等離子系統(tǒng)，其改造的新概念和zui*技術(shù) 令它具有更佳的性能，操作簡便和良好的清洗效果。與市面上其他任何等離子清洗體系統(tǒng)相比，Solarus能提供最有效的清洗效果。

品牌介紹

美國GATAN公司成立于1964年并于70年代末進入ZG市場。GATAN公司以其產(chǎn)品的高性能及技術(shù)的先進性在全球電鏡界享有極高聲譽。

作為世界領(lǐng)xian的設(shè)計和制造用于增強和拓展電子顯微鏡功能的附件廠商，其產(chǎn)品涵蓋了從樣品制備到成像、分析等所有步驟的需求。產(chǎn)品應用范圍包括材料科學、生命科學、地球物理學、電子學，能源科學等領(lǐng)域， 客戶范圍涵蓋全球的科研院所，高校，各類檢測機構(gòu)及大型工業(yè)企業(yè)實驗室，并且在國際科學研究領(lǐng)域得到了廣泛認同。

經(jīng)銷商介紹

歐波同有限公司是ZG領(lǐng)xian的微納米技術(shù)服務供應商，是一家以外資企業(yè)作為投資背景的高新技術(shù)企業(yè)，總部位于香港，分別在北京、上海、遼寧、山東等地設(shè)有分公司和辦事處。作為蔡司電子顯微鏡、GATAN掃描電子顯微鏡制樣設(shè)備及附屬分析設(shè)備在ZG地區(qū)最重要的戰(zhàn)略合作伙伴，公司秉承“打造國內(nèi)影響力的儀器銷售品牌”的經(jīng)營理念，與蔡司，GATAN品牌強強聯(lián)合，正在為數(shù)以萬計的ZG用戶提供高品質(zhì)的產(chǎn)品與國際技術(shù)服務。

產(chǎn)品主要技術(shù)特點：

Solarus是一種獨特的清洗解決方案，它利用等離子配方，對于所有的樣品，包括Holey碳膜，都具有更快更徹底的清洗效果。該設(shè)備能安全地清洗掉表面沉積的污染物擴展了對已經(jīng)被污染的樣品的觀察時間。采用分子泵搭配多級隔膜泵的真空系統(tǒng)可確?？焖倏煽康某闅庑Ч２坏?/span>1分鐘的抽氣與放氣時間，30秒--2分鐘的清洗時間，整個過程不用2分鐘。

使用等離子清洗的好處：

增強成像能力

提高元素分析的準確性

在SEM中，延長EDX和EBSD的觀察和采集時間

可使用更小的束斑，這對于TEM/STEM中的STEM和EELS分析非常重要。

相比于傳統(tǒng)的等離子清洗儀，Solarus的主要優(yōu)勢：

1.)獨特的H2/O2配方

2.)更快的清洗周期（不到2分鐘）

3.)交互式的觸摸屏設(shè)計

4.)提供7種經(jīng)測試過的一鍵操作式配方

5.)2個用于裝載側(cè)插TEM和SEM樣品桿的前置裝樣口

6.)頂部裝樣口可裝載多個（>25）TEM微柵或者SEM樣品臺/樣品

7.)自動匹配功率的射頻源確保等離子源的長時間穩(wěn)定

8.)精確的氣體流量控制（質(zhì)量流量計）

9.)最小損傷的清洗Holey碳膜

10.)支持多種語言（英語、中文、日語、韓文、法語、德語）

產(chǎn)品主要技術(shù)參數(shù)：

射頻源: 50瓦的射頻電源，具有功率自動匹配功能

真空系統(tǒng)：70升/秒的分子泵搭配兩級隔膜泵

氣壓： 5E-6 Torr基本壓力，400mTorr工作壓力

真空規(guī)：緊湊的皮拉尼規(guī)

艙室

l 兩個前置接口能裝載TEM適配器，用于裝載側(cè)插TEM樣品桿和SEM樣品桿

l 頂部入口用于放入SEM樣品臺，顯微鏡鏡筒部件或者各種真空件

艙室尺寸為3.5”直徑 x 2.0” 深度

l 前置觀察窗能觀察工作時的等離子體發(fā)光

l 內(nèi)置的電磁閥將艙室與真空泵之間隔離開，抽真空時間不到1分鐘，放氣時間小于5秒。

氣體控制：采用精確的質(zhì)量流量計來測量及控制氣體流量

氣體種類：采用三路獨立氣體（H2，O2和Ar）

清洗配方：提供包含有H2/O2配方等一系列配方，同時支持用戶自定義配方

用戶界面：采用交互式觸摸屏，提供包含有中文、英文等多種語言界面

電源：通用電壓/頻率100VAC - 240VAC/50-60Hz/1000W

產(chǎn)品主要應用

去除碳氫化合物對TEM和SEM樣品臺或樣品的污染

碳膜被油滴污染

處理前，碳氫化合物污染 10min H2/O2配方清洗，污染消除，且沒有樣品本身損傷