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    Nanonex光刻機(jī)

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    詳細(xì)介紹

    Lumina-200 多功能高精度光刻機(jī)
    Lumina-200高分辨率光刻機(jī)加對準(zhǔn)系統(tǒng)經(jīng)過了大量的實(shí)時實(shí)地驗(yàn)證,質(zhì)量可靠,性能優(yōu)越穩(wěn)定。Lumina系列是一款具有高性能,高可靠性,高性價(jià)比,兼具接觸和近程光刻的高分辨率,高對準(zhǔn)精度全功能光刻機(jī)和模板基板對準(zhǔn)機(jī)。Lumina系列在電子,光電子,MEMS,生物芯片等諸多領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用。Lumina-200具有的用戶界面,高精度的機(jī)械平臺,高精度光學(xué),緊湊的系統(tǒng)設(shè)計(jì)。
    主要特點(diǎn):
    高光刻分辨率;高精度對準(zhǔn)機(jī)械平臺;zuixin高精度對準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng);精確的間距控制
    的計(jì)算機(jī)用戶界面;緊湊的系統(tǒng)設(shè)計(jì);高性價(jià)比設(shè)計(jì);可附加背面對準(zhǔn)功能
    應(yīng)用:
    半導(dǎo)體器件;光電子器件;MEMS;高端封裝;功率器件
    生物芯片
    基于超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗(yàn)的自動化操作
    Nanonex經(jīng)過大量實(shí)時實(shí)地驗(yàn)證,質(zhì)量可靠,性能優(yōu)越穩(wěn)定
    系統(tǒng)參數(shù):
    主平臺
    手動控制 X-Y-;馬達(dá)控制 Z;
    調(diào)節(jié)范圍:X和Y:1英寸;:10度;Z:0.25英寸
    模板加載能力
    5”標(biāo)配模板;其他尺寸可提供
    基板加載能力
    4”標(biāo)配基板;其他尺寸可提供
    對準(zhǔn)模式
    近程,軟,硬接觸
    對準(zhǔn)光學(xué)
    分場光學(xué);5X物鏡,1到7X ZOOM;2軸獨(dú)立手動X,Y,Z顯微鏡調(diào)節(jié)
    粗略和精細(xì)對焦;通過CCD相機(jī)成像
    曝光系統(tǒng)
    紫外:水銀燈G或I線可選;紫外燈功率:500瓦
    均勻紫外曝光;馬達(dá)帶動紫外光源

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