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    微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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    微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-MPCVD

    寶石級大尺寸單晶金剛石制備系統(tǒng)



    微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)(MPCVD), 通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率,降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。

    MPCVD是制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國iplas公司ZL的 CYRANNUS 等離子技術(shù)解決了傳統(tǒng)等離子技術(shù)的局限,可以在10mbar到室壓范圍內(nèi)激發(fā)高穩(wěn)定度的等離子團(tuán),大限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動引起的等離子體狀態(tài)的變化,從而確保單晶生長的持續(xù)性,為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。



    iplas CYRANNUS系列產(chǎn)品特點(diǎn):


    1. CYRANNUS技術(shù)無需在樣品腔內(nèi)安裝內(nèi)部電極,在沉積腔內(nèi),沒有工作氣體以外的任何物質(zhì),潔凈,無污染源。等離子發(fā)生器可以保持長壽命,并可以確保腔內(nèi)的等離子體的均勻分布,進(jìn)一步生成晶體的純凈度和生長周期。


    2. CYRANNUS技術(shù)的腔外多電極設(shè)置,確保等離子團(tuán)穩(wěn)定生成于腔內(nèi)中心位置,對腔壁、窗口等無侵蝕作用,減少雜質(zhì)來源,提高晶體純度。由CYRANNUS系統(tǒng)合成的金剛石,純度均在VVS級別以上。


    3. 電子溫度和離子溫度對中性氣體溫度之比非常高,運(yùn)載氣體保持合適的溫度,因此可使基底的溫度不會過高。


    4. 微波發(fā)生器穩(wěn)定易控,能在從10mbar到室壓的高壓強(qiáng)環(huán)境下維持等離子體,在氣流、氣壓、氣體成分、電壓出現(xiàn)波動時,確保等離子體狀態(tài)的穩(wěn)定,保證單晶生長的過程不被上述干擾而中斷,有利于獲得大尺寸單晶金剛石。


    5. 可以采用磁約束的方法,約束在等離子團(tuán)在約定的空間內(nèi),微波結(jié)和磁路可以兼容。


    6. 安全因素高。高壓源和等離子體發(fā)生器互相隔離,微波泄漏小,容易達(dá)到輻射安全標(biāo)準(zhǔn)。


    7. 可搭配多種功率微波源和不同尺寸腔體,滿足從實(shí)驗(yàn)室小型設(shè)備到工業(yè)大型裝置的不同需要。大可以對300mm直徑的襯底沉積金剛石薄膜。






    化學(xué)機(jī)理概要:
    碳?xì)浠衔铮禾峁┏练e材料
    氫氣:生成sp3
    氧:對石墨相/sp2鍵侵蝕
    惰性氣體:緩沖氣體,或生成納米晶體。
    適用合成材料:
    大尺寸寶石級單晶鉆石
    高取向度金剛石晶體
    納米結(jié)晶金剛石
    碳納米管/類金剛石碳(DLC)


    金剛石薄膜

    寶石級鉆石

    vvs1,~1 carrat, E grade



    多種等離子發(fā)生器選擇:


    頻率:2.45GHz, 915MHz:


    功率:1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW,5-30kW


    等離子團(tuán)直徑:70mm, 145mm, 250mm, 400mm


    工作其他范圍:0-1000mBar


    其他應(yīng)用:



    MPCVD同樣適用于平面基體,或曲面顆粒的其它硬質(zhì)材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德國iplas公司憑借幾十年在等離子技術(shù)領(lǐng)域的積累,可以為用戶提供高度定制的設(shè)備,滿足用戶不同的應(yīng)用需要。



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