
氣相沉積系統(tǒng)
是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。是傳統(tǒng)的制備薄膜的技術(shù),其原理是利用氣態(tài)的先驅(qū)反應(yīng)物,通過原子、分子間化學(xué)反應(yīng),使得氣態(tài)前驅(qū)體中的某些成分分解,而在基體上形成薄膜。包括常壓化學(xué)氣相沉積、等離子體輔助化學(xué)沉積、激光輔助化學(xué)沉積、金屬有機(jī)化合物沉積等。
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