IXRF磁控離子濺射儀 MSP-2S/MSP-Mini

產品簡介

IXRF磁控離子濺射儀 MSP-2S/MSP-Mini

IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對樣品濺射金屬靶材，為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層，方便電鏡觀察，而MSP-mini是一款體積小巧，操作簡便，無需通入特殊氣體，使用時只需設置噴鍍時間即可。

主要特點：

1.      陽極磁控型靶材水平裝入：極低的放電電壓減弱樣品受到的例子損傷和熱損傷；

2.      浮動樣品臺設計：使電流不通過樣品，溫度上升很少，同時減弱離子碰撞引起的損傷；

3.      操作簡便：通過定時器控制從真空排氣到啟動放電電壓的整個過程。

應用領域：

離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳，實現(xiàn)不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。