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VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀
- 品牌：沈陽科晶
- 型號： VTC-600-3HD-1000
- 產(chǎn)地：遼寧 沈陽
- 供應(yīng)商報價：面議
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沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
更新時間：2025-06-16 08:18:02 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品磁控濺射鍍膜(18件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
- VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個靶槍和三個電源，一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
詳細(xì)介紹
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個靶槍和三個電源，一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
1、配置三個靶槍，兩個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
產(chǎn)品名稱 VTC-600-3HD-1000雙靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號 VTC-600-3HD-1000 主要參數(shù) 1、輸入電源：220V/50Hz
2、濺射靶數(shù)量：3
3、腔體內(nèi)徑：?300mm
4、靶槍冷卻方式：水冷
5、極限真空度：7.4E-5pa
6、真空室規(guī)格：Φ300×330 mm
7、真空系統(tǒng)：VRD-16機(jī)械泵 FF-100/150渦輪分子泵
8、恢復(fù)真空：系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統(tǒng)短時間暴露大氣）
9、充氣系統(tǒng)：2路質(zhì)量流量計（１路氬氣100scc、1路氬氣200scc）特殊氣體可定制
10、濺射靶規(guī)格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
11、樣品臺：Φ70mm//可加熱（室溫～1000℃）產(chǎn)品規(guī)格 主機(jī)尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm
滬公網(wǎng)安備 31011502008050號