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    賽默飛 Talos F200X G2 透射電子顯微鏡 S/TEM

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    產(chǎn)品特點

    可搭配眾多高分辨率場發(fā)射槍 (FEG)
    選擇高亮度 X-FEG 或超高亮度冷場發(fā)射槍 (X-CFEG)。X-CFEG 將極佳 (S)/TEM 成像及極佳能量分辨率相結(jié)合。

    直觀的軟件
    Thermo Scientific Velox 軟件可實現(xiàn)對多模式數(shù)據(jù)的快速、輕松的采集和分析。

    更短的化學(xué)成分獲得周期
    快速、精確的定量 EDS 分析可在 2D 和 3D 中揭示納米級細節(jié),同時保持高潔凈度。

    更好的圖像數(shù)據(jù)
    高通量 STEM 成像采用同步多信號檢測,可為高質(zhì)量圖像提供更高的對比度。

    更多空間
    為動態(tài)實驗添加特定用途的原位樣品桿。

    高質(zhì)量 (S)TEM 圖像和準(zhǔn)確的 EDS
    通過創(chuàng)新且直觀的 Velox 軟件用戶界面采集高質(zhì)量的 TEM 或 STEM 圖像。Velox 軟件中獨特的 EDS 吸收校正功能可實現(xiàn)極準(zhǔn)確的定量。

    高度可重復(fù)的數(shù)據(jù)采集
    所有日常 TEM 調(diào)整、例如聚焦、共心高度、電子束移位、冷凝器光闌、電子束傾斜樞軸點和旋轉(zhuǎn)中心都是自動進行的,確保您始終從Z佳成像條件開始工作。實驗可以能夠再現(xiàn)的方式重復(fù)進行,從而使您能夠?qū)W⒂谘芯慷莾x器操作。

    提高了生產(chǎn)率
    超穩(wěn)定的色譜柱、借助 SmartCam 的遠程操作和恒定功率物鏡,可進行快速模式和高電壓 (HT) 切換。多用戶環(huán)境的快速輕松切換。

    詳細介紹


    Talos F200X G2 透射電子顯微鏡

    Thermo Scientific Talos F200X STEM 是一款掃描透射電子顯微鏡,其將出色的高分辨率 STEM 和 TEM 成像與業(yè)界領(lǐng)先的能量色散 X 射線光譜 (EDS) 信號檢測相結(jié)合。采用構(gòu)合映射的 2D/3D 化學(xué)表征由具有獨特清潔度的 4 個柱內(nèi) SDD Super-X 探頭執(zhí)行。Talos F200X 掃描透射電子顯微鏡在所有維度下均可實現(xiàn)極快速精準(zhǔn)的 EDS 分析,以及在進行動態(tài)顯微鏡檢查時實現(xiàn)導(dǎo)航快速的高分辨率 TEM 和 STEM(HRTEM 和 HRSTEM)成像。Talos F200X 掃描透射電子顯微鏡還具有較低的環(huán)境敏感度;儀器外殼可調(diào)節(jié) TEM 室中空氣壓力波、氣流和細微溫度變化的影響。


    STEM 成像與化學(xué)分析

    Talos F200X (S)TEM 可在多維度下對納米材料進行快速、精確的定量表征。由于具有旨在提高通量、精度和易用性的創(chuàng)新功能,Talos F200X (S)TEM 是院校、政府、半導(dǎo)體以及工業(yè)環(huán)境高級研究和分析的理想選擇。

    最近對在高分辨率下進行大面積相關(guān)性成像的需求有所增加,因為這使研究人員在獲得統(tǒng)計學(xué)上穩(wěn)定的數(shù)據(jù)的同時也能保留其觀測結(jié)果的背景。Thermo Scientific Maps 軟件(由 Thermo Scientific Velox 軟件啟用)自動采集樣品的一系列圖像,并將它們拼接在一起以形成一幅大尺寸最終圖像。甚至可以在無人值守的情況下進行圖像采集。 APW(自動化 顆粒工作流程) 包具有本節(jié)所述的所有優(yōu)點,并利用  Thermo Scientific Avizo2D軟件在專用處理 PC 上添加了獨特的處理功能。您可以自動獲取大小、面積、周長、形狀、因子、接觸點等納米顆粒參數(shù)。全自動且無人值守軟件包可使您全天候使用 Talos F200X (S)TEM ,獲得更好的統(tǒng)計數(shù)據(jù)并顯著改善可重復(fù)性(因為不存在操作員偏差)。

    Align Genie 自動化軟件減輕了新手操作員的學(xué)習(xí)負擔(dān),減少了多用戶環(huán)境中的緊張氣氛,并為經(jīng)驗豐富的操作員縮短了數(shù)據(jù)獲得周期。


    性能數(shù)據(jù)

    HRTEM 線分辨率
    • ≤0.10 nm

    STEM 分辨率
    • ≤0.16 nm (X-FEG)

    • ≤0.14 nm ,100 pA (X-CFEG)

    Super-X EDS 系統(tǒng)
    • 4 SDD 對稱設(shè)計、無窗、遮光板保護

    電子能量損失光譜 (EELS) 能量分辨率
    • ≤0.8 eV (X-FEG)

    • ≤0.3 eV (X-CFEG

    200 kV 下的槍亮度  
    • 1.8×109 A /cm2 srad (X-FEG)

    • 2.4×109 A /cm2 srad (X-CFEG)

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