基恩士 控制器 VK-X3000

類型

控制器

綜合倍率

42 至 28800 倍*1

視野范圍

11 至 7398 μm

測量原理

激光共聚焦、聚焦變化、白光干涉、分光干涉

激光光源波長

VK-X3100: 半導體激光 404 nm
VK-X3050: 半導體激光 661 nm

最 高激光測量速度

面 ：125 Hz、線 ：7900 Hz*2

激光最 大輸出

0.9 mW

激光等級

2 類激光產(chǎn)品（GB7247.1）

激光受光元件

16 bit 感應光電倍增器

白色光源

白色 LED

白色光受光元件

超高精細彩色 CMOS

激光共聚焦

高度顯示分辨率

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

高度重復精度 σ

VK-X3100: 10 倍 ：100 nm、20 倍 ：40 nm、50 倍 ：12 nm
VK-X3050: 10 倍 ：100 nm、20 倍 ：40 nm、50 倍 ：20 nm

高度準確性

0.2+L/100 μm 以下*3

寬度顯示分辨率

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

寬度重復精度 3σ

VK-X3100: 10 倍 ：200 nm、20 倍 ：100 nm、50 倍 ：40 nm
VK-X3050: 10 倍 ：400 nm、20 倍 ：100 nm、50 倍 ：50 nm

寬度準確性

測量值 ±2% 以內(nèi)*3

聚焦變化

高度顯示分辨率

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

高度重復精度 σ

VK-X3100: 5 倍 ：500 nm、10 倍 ：100 nm、
20 倍 ：50 nm、50 倍 ：20 nm
VK-X3050: 5 倍 ：500 nm、10 倍 ：100 nm、
20 倍 ：50 nm、50 倍 ：30 nm

高度準確性

0.2+L/100 μm 以下*3

寬度顯示分辨率

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

寬度重復精度 3σ

VK-X3100: 5 倍 ：400 nm、10 倍 ：400 nm、20 倍 ：120 nm、
50 倍 ：50 nm
VK-X3050: 5 倍 ：400 nm、10 倍 ：400 nm、20 倍 ：120 nm、
50 倍 ：65 nm

寬度準確性

測量值 ±2% 以內(nèi)*3

白光干涉

高度顯示分辨率

0.01 nm

寬度顯示分辨率

0.1 nm

Surface Topography Repeatability

0.08 nm*4

Repeatability of RMS

0.008 nm*4

分光干涉膜厚測量

重復精度 σ

0.1 nm*4

準確性

±0.6%*4

光學觀察

像素數(shù)

560 萬

轉(zhuǎn)換器

6 孔電動鏡頭轉(zhuǎn)換器

適用于環(huán)形照明的鏡頭

2.5 倍、5 倍、10 倍

光學變焦

1 至 8 倍

XY 載物臺結構

手動運行范圍

70 × 70 mm

電動運行范圍

100 × 100 mm

電源

電源電壓

100 至 240 VAC、50/60 Hz

消耗功率

150 VA

環(huán)境抗耐性

環(huán)境溫度

+15 至 28°C

相對濕度

20 至 80% RH（無凝結）

重量

約 3 kg