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    IG2型離子源

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    ※ 廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、材料等領(lǐng)域;一般應(yīng)用在濺 射清洗 /表面準(zhǔn)備、表面科學(xué)、MBE 、高真空濺射過程 中。 

    ※ 典型應(yīng)用是氬離子濺射清洗表面。 

    ※ 離子束輔助沉積。 

    ※ 離子束濺射清洗。 

    ※ 反應(yīng)離子刻蝕。

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