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    產(chǎn)品中心

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    探針式輪廓儀 Tencor? P-7 Stylus Profiler

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    產(chǎn)品特點(diǎn)

    Tencor P-7支持從幾納米到一毫米的臺階高度測量,適用于生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)境。該系統(tǒng)可以對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測量,其掃描可達(dá)150mm而無需圖像拼接。

    詳細(xì)介紹


    QQ截圖20220613152441.png

    產(chǎn)品描述

    Tencor P-7建立在市場領(lǐng)先的Tencor P-17臺式探針輪廓分析系統(tǒng)的成功基礎(chǔ)之上。 它保持了Tencor P-17技術(shù)的卓 越測量性能,并作為臺式探針輪廓儀平臺提供了極高的性價(jià)比。Tencor P-7可以對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測量,其掃描可達(dá)150mm而無需圖像拼接。


    QQ截圖20220613152735.png

    主要功能

    • 臺階高度:幾納米至1000μm

    • 微力恒力控制:0.03至50mg

    • 樣品全直徑掃描,無需圖像拼接

    • 視頻:500萬像素高分辨率彩色攝像機(jī)

    • 圓弧校正:消除由于探針的弧形運(yùn)動(dòng)引起的誤差

    • 軟件:簡單易用的軟件界面

    • 生產(chǎn)能力:通過測序,模式識別和SECS / GEM實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化


    QQ截圖20220613152741.png

    主要應(yīng)用

    • 臺階高度:2D和3D臺階高度

    • 紋理:2D和3D粗糙度和波紋度

    • 形狀:2D和3D翹曲和形狀

    • 應(yīng)力:2D和3D薄膜應(yīng)力

    • 缺陷復(fù)檢:2D和3D缺陷表面形貌


    QQ截圖20220613152748.png

    工業(yè)應(yīng)用

    • 大學(xué)、研究實(shí)驗(yàn)室和研究所

    • 半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體

    • LED:發(fā)光二極管

    • 太陽能

    • MEMS:微機(jī)電系統(tǒng)

    • 數(shù)據(jù)存儲

    • 汽車

    • 醫(yī)療設(shè)備

    • 還有更多:請與我們聯(lián)系以滿足您的要求


    應(yīng)用

    QQ截圖20220613152907.png

    臺階高度

    Tencor P-7可以提供納米級到1000μm的2D和3D臺階高度的測量。 這使其能夠量化在蝕刻,濺射,SIMS,沉積,旋涂,CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料。Tencor P-7具有恒力控制功能,無論臺階高度如何都可以動(dòng)態(tài)調(diào)整并施加相同的微力。這保證了良好的測量穩(wěn)定性并且能夠精確測量諸如光刻膠的軟性材料。


    QQ截圖20220613152912.png

    紋理:粗糙度和波紋度

    Tencor P-7提供2D和3D紋理測量并量化樣品的粗糙度和波紋度。軟件濾鏡功能將測量值分為粗糙度和波紋度部分,并計(jì)算諸如均方根(RMS)粗糙度之類的參數(shù)。


    QQ截圖20220613152918.png

    外形:翹曲和形狀

    Tencor P-7可以測量表面的2D形狀或翹曲。這包括對晶圓翹曲的測量,例如半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中的多層沉積期間由于層與層的不匹配是導(dǎo)致這種翹曲的原因。Tencor P-7還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。


    QQ截圖20220613152925.png

    應(yīng)力:2D和3D薄膜應(yīng)力

    Tencor P-7能夠測量在生產(chǎn)包含多個(gè)工藝層的半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件期間所產(chǎn)生的應(yīng)力。 使用應(yīng)力卡盤將樣品支撐在中性位置并精確測量樣品翹曲。 然后通過應(yīng)用Stoney方程,利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來計(jì)算應(yīng)力。2D應(yīng)力通過在直徑達(dá)200mm的樣品上通過單次掃描測量,無需圖像拼接。3D應(yīng)力的測量采用多個(gè)2D掃描,并結(jié)合θ平臺在掃描之間的旋轉(zhuǎn)對整個(gè)樣品表面進(jìn)行測量。


    QQ截圖20220613152930.png

    缺陷復(fù)檢

    缺陷復(fù)查用于測量如劃痕深度之類的缺陷形貌。缺陷檢測設(shè)備找出缺陷并將其位置坐標(biāo)寫入KLARF文件。 “缺陷復(fù)檢”功能讀取KLARF文件、對準(zhǔn)樣本,并允許用戶選擇缺陷進(jìn)行2D或3D測量。



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