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    荷蘭SCIL全自動(dòng)納米壓印光刻機(jī)

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    詳細(xì)介紹

    荷蘭SCIL公司簡(jiǎn)

      荷蘭SCIL公司是知名的納米壓印設(shè)備供應(yīng)商,是荷蘭飛利浦公司投資的高科技公司之一,其“SCIL基底保形壓印”技術(shù),結(jié)合了小面積硬壓與大面積軟壓的優(yōu)勢(shì),真正意義上實(shí)現(xiàn)了納米壓印技術(shù)的工業(yè)12寸wafer級(jí)量產(chǎn),已經(jīng)被國(guó)際上很多知名fab廠采用。

           “SCIL基底保形壓印光刻”是一種經(jīng)濟(jì)高效、穩(wěn)健、高產(chǎn)量的工藝,可在多種材料上實(shí)現(xiàn)納米分辨率圖案。SCIL可實(shí)現(xiàn)在達(dá) 300 毫米的晶圓區(qū)域上提供經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的高質(zhì)量壓印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻對(duì)齊精度小于 1 μm 的圖案。

      荷蘭SCIL公司同時(shí)開(kāi)發(fā)了無(wú)機(jī)玻璃納米壓印光刻膠,可直接作為功能層使用,可直接省去2個(gè)工藝步驟,大大降低了生產(chǎn)成本。

           SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圓手動(dòng)研發(fā)工具到全自動(dòng)系統(tǒng)的全方位解決方案,并可以幫助客戶(hù)優(yōu)化設(shè)備、耗材和流程,以實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)。

     SCIL 技術(shù)特色

      - 即使在非平坦和彎曲的表面上也可以保證保形接觸印刷(模板復(fù)制技術(shù))。

      - 獨(dú)特的 SCIL 壓印工藝可確保<10 nm 分辨率、低圖案變形和無(wú)顆粒損壞印模。

      - 套刻對(duì)齊精度:< 1 μm

      - -gel的優(yōu)異蝕刻特性可得到極高的蝕刻率。

      - Sol-gel的的熱穩(wěn)定性、光學(xué)透明度和(UV)穩(wěn)定性使其適合作為功能層。

      - 使用熱Sol-gel大大增加了母版壽命。

      - 總體而言,SCIL可將超高的壓印質(zhì)量和產(chǎn)量與高吞吐量和低總體擁有成本相結(jié)合。

     AutoSCIL全自動(dòng)納米壓印系統(tǒng)簡(jiǎn)介

    AutoSCIL型全自動(dòng)納米壓印系統(tǒng)包括所有基本工藝步驟:晶片處理、預(yù)對(duì)準(zhǔn)、旋涂、SCIL 壓印、烘烤和冷卻

    技術(shù)參數(shù)

    產(chǎn)能

    30 - 60 wafers/小時(shí)(取決于wafer尺寸,材料,pattern尺寸等因素)

    晶圓尺寸

    2” up to 8” (or 200 mm)

    Wafer thickness

    0.3 - 2.5 mm

    晶圓搬運(yùn)

    Cassette-to-cassette,帶robot

    光刻膠類(lèi)型

    Thermal sol-gel

    UV sol-gel

    UV organic

    光刻膠涂層

    集成了旋涂?jī)x

    壓印技術(shù)

    低力軟模基底保形納米壓印技術(shù)

    后處理

    烘烤與冷卻

    尺寸(WxLxH)

    1.9 x 1.6 x 2.2 m

    套刻精度

     < 1μm

    應(yīng)用

      納米圖案化是眾多納米光子應(yīng)用的關(guān)鍵工藝步驟。下面提到的應(yīng)用程序只是一個(gè)選擇。其他應(yīng)用包括:

      - 增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)和虛擬現(xiàn)實(shí) (AR/VR) 光學(xué)

          - MicroLED

          - MEMS和傳感器


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