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Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer 180-2-PLD

品牌：美國(guó)Neocera
型號(hào)： Pioneer 180-2-PL
產(chǎn)地：美洲美國(guó)
供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議

深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司更新時(shí)間：2025-04-29 08:43:18

銷售范圍售全國(guó)

入駐年限第7年

營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品美國(guó)Neocera(1件)

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Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer 180-2-PLD

產(chǎn)品特點(diǎn)

美國(guó)Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer 180-2-PLD,一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法

詳細(xì)介紹

美國(guó)Neocera PLD 脈沖激光沉積系統(tǒng) Pulsed Laser Deposition System :Pioneer 180-2-PLD

高性能的離子輔助沉積系統(tǒng) 離子輔助沉積已經(jīng)成為在無(wú)規(guī)取向的襯底或非晶襯底上沉積雙軸結(jié)構(gòu)薄膜的一種重要技術(shù)。Neocera 開(kāi)發(fā)了離子輔助的 PLD 系統(tǒng)，該系統(tǒng)將 PLD 在沉積復(fù)雜材料方面的優(yōu)勢(shì)與 IBAD 能力結(jié)合在一起。

。Neocera 在 PLD 設(shè)備與工藝開(kāi)發(fā)方面具有不可超越的經(jīng)驗(yàn)。

? Pioneer 系列 PLD 系統(tǒng)是全球研發(fā)領(lǐng)域最為廣泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)。

? Neocera不僅可以為客戶提供最基本的PLD系統(tǒng)，還可以提供完善的PLD解決方案。

? PLD 實(shí)驗(yàn)室一站式方案。

脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD）一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法

PLD 是一種復(fù)雜材料沉積的有效方法脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組分相同的薄膜。PLD 的獨(dú)特之處是能量源（脈沖激光）位于真空腔室的外面。這樣，在材料合成時(shí)，工作氣壓的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達(dá)到 10-10 Torr ~ 100 Torr。通過(guò)控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨(dú)特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外，PLD 是一種 “ 數(shù)字 ” 技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（埃 /pulse）。

Neocera Pioneer 系列 PLD 系統(tǒng) - 基于卓越經(jīng)驗(yàn)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)

Neocera 利用 PLD 開(kāi)展了深入廣泛的研究，建立了獲得最佳薄膜質(zhì)量的臨界參數(shù)，特別適用于沉積復(fù)雜氧化物薄膜。這些思考已經(jīng)應(yīng)用于 Pioneer 系統(tǒng)的設(shè)計(jì)之中。

? 很多復(fù)雜氧化物薄膜在相對(duì)高的氧壓（>100 Torr）下冷卻可獲得更高的質(zhì)量。所有 Pioneer 系統(tǒng)都具備此功能（氣壓范圍可從額定初始?jí)簭?qiáng)到大氣壓）。這也有益于生成納米粒子。

? Pioneer PLD系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的最大均勻性，同時(shí)避免使用復(fù)雜而昂貴的光學(xué)元件。更小的入射角會(huì)拉長(zhǎng)靶材上的激光斑點(diǎn)，導(dǎo)致密度均勻性的損失。

? 為了消除油的回流對(duì)薄膜質(zhì)量的影響，所有 Pioneer 系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置都采用無(wú)油泵系統(tǒng)。

? 我們的研究表明：靶材和襯底的距離是獲得最佳薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)采用可變的靶材和襯底的距離，對(duì)沉積條件進(jìn)行最大的控制。

? 獨(dú)立的一站式方案 PLD 系統(tǒng)。

? 用于沉積外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)。

? 高溫襯底加熱器，具有氧氣兼容性，可用于氧化物薄膜的沉積。

? 自動(dòng)多靶材旋轉(zhuǎn)器，可實(shí)現(xiàn)超晶格的沉積和 CCS（連續(xù)成分生長(zhǎng)）功能。

? 升級(jí)：離子輔助 PLD、組合優(yōu)化 PLD、靶材 - 襯底 Load-Lock。

? 額外的沉積源：射頻 / 直流濺射、直流離子槍。

? 原位診斷：高壓 RHEED、小角 X 射線譜儀（ LAXS ）和離子能譜儀（IES）。

設(shè)備簡(jiǎn)介

沉積腔室

沉積腔室沉積腔室為電拋光 304 不銹鋼的直徑 18 英寸球形室。該腔體是超高真空的，并配有許多端口用于將來(lái)升級(jí)。這些端口經(jīng) 過(guò)理想的設(shè)計(jì)和配置，可用于 PLD、高壓 RHEED、直流離子源、射頻 / 直流濺射、小角 X 射線譜儀（LAXS）和襯底的裝載卸載（Load-Lock）等。激光以相對(duì)于靶材表面的 45° 角入射。該真空腔室集成了一個(gè)用于沉積外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié) 構(gòu)和超晶格的自動(dòng)化 6 靶材旋轉(zhuǎn)器（Labview 2018），以及用于直徑為 2 英寸晶圓片的可編程旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)。

真空泵浦系統(tǒng)

腔室由 Pfeiffer HiPace 渦輪分子泵抽真空，分子泵之后配備一個(gè) Edwards 渦旋泵。這兩種泵都是無(wú)油的干泵。腔室的本底真空可以達(dá)到 5×10-7 Torr 或更低。集成了高真空規(guī)（熱絲極離子真空計(jì)）和中等真空規(guī)（Convectron）來(lái)測(cè)量真空。

多靶材旋轉(zhuǎn)器

自動(dòng)多靶材旋轉(zhuǎn)器

? 六個(gè)直徑 1 英寸的靶材或三個(gè)直徑 2 英寸的靶材。

? 靶材旋轉(zhuǎn)，360° 連續(xù)（1 ~ 20 轉(zhuǎn) / 分鐘）。

? 靶材搖擺技術(shù)（最大 100 °/s）用于均勻消融整個(gè)靶材表面。

? 靶材索引用于制備多層。

? 靶材高度可調(diào)（非超高真空系統(tǒng)可手動(dòng)調(diào)節(jié)）。

? 由 LabVIEW 2018 軟件控制靶材索引、靶材搖擺技術(shù) 和靶材旋轉(zhuǎn)，促進(jìn)多層和超晶格的沉積。

? 軟件控制激光器的外部觸發(fā) - 便于納米級(jí)薄膜的生長(zhǎng) 控制。

? 軟件提供了二元相擴(kuò)展和三元相擴(kuò)展的 CCS（連續(xù) 成分生長(zhǎng)）（可選）

。全干式真空泵：基于干式機(jī)械泵的渦輪分子泵。

? 最低本底真空：標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng) 5×10-7 Torr，超高真空系統(tǒng) 7.5×10-9 Torr。

? 渦輪轉(zhuǎn)速由軟件控制。

? 靶材擋板保護(hù)靶材不受交叉污染。

? 完美地用于沉積外延薄膜、多層和超晶格。

? 獨(dú)有的靶材搖擺技術(shù) - 反比速率協(xié)議。

? 可用于 CCS（連續(xù)成分生長(zhǎng)）/ 組合 PLD。

襯底加熱器

氧氣兼容襯底加熱器 / 基片臺(tái)

不論是在真空中，還是在一個(gè)大氣壓的氧氣中，輻射加熱基片臺(tái)均可將襯底加熱達(dá) 850 ℃。最大襯底尺寸為直徑 2 英寸，并且樣品夾持器可以容納更小的襯底。樣品夾持器可以在 Load-Lock 上使用。襯底 360° 旋轉(zhuǎn)由電機(jī)驅(qū)動(dòng)，可由計(jì)算機(jī)控制。這種襯底旋轉(zhuǎn)特性對(duì)于 RHEED 分析至關(guān)重要，可以促進(jìn)襯底的晶體結(jié)構(gòu)對(duì)準(zhǔn) RHEED 電子束。

技術(shù)參數(shù)：

? 襯底溫度：最高 850 ℃。

? 襯底旋轉(zhuǎn)器：1 ~ 30 轉(zhuǎn) / 分鐘（360° 襯底旋轉(zhuǎn)器，與將來(lái)的 RHEED 升級(jí)兼容）。

? 襯底尺寸：最大直徑 2 英寸，最小尺寸：10 mm × 10 mm。

? 樣品夾持器與 Load-Lock 升級(jí)兼容。

? 加熱器溫度由可編程的 PID 控制器控制。

? 加熱器與氧氣兼容，高達(dá) 1 個(gè)大氣壓。

? 加熱器安裝在頂部，襯底平行于地面且表面向下。

? 配有預(yù)濺射擋板。

? 配有 K 型熱電偶將數(shù)據(jù)輸入到 PID 控制器中。

? 控制器裝有 Neocera 系統(tǒng)軟件（Labview 2018）。

氣壓測(cè)量與控制

? 寬范圍的真空壓力表用于從大氣壓到 5×10-9 Torr 的氣壓測(cè)量。

? 配有 MKS 質(zhì)量流量控制器，可由 PLD 系統(tǒng)軟件控制，氧氣最大流量約為 100 SCCM。

? 沉積氣壓閉環(huán)控制。

工藝氣體流量控制

配有用于工藝氣體控制的質(zhì)量流量控制器（最大流量 200 sccm）。工藝氣體是氧氣。利用該系統(tǒng)軟件可以控制分子泵轉(zhuǎn)速，利用 MFC 可以控制工藝氣體流量，確定最佳工藝氣體壓力。

準(zhǔn)分子激光器

? 型號(hào)：COMPex 102

? 激光介質(zhì)：KrF 氣體

? 輸出波長(zhǎng)：248 nm 光學(xué)系統(tǒng) 準(zhǔn)分子激光器后續(xù)工藝氣壓控制激光器外部觸發(fā)

? 最大脈沖頻率：20 Hz ? 最大脈沖能量：400 mJ ? 最大功率：8 W

光學(xué)系統(tǒng)

PLD 光學(xué)組件（用于 KrF 準(zhǔn)分子激光器）

? 直徑 2 英寸，45° 入射角，248 nm 激光反射鏡。

? 直徑 2 英寸，22.5° 入射角，248 nm 激光反射鏡。

? 直徑 2 英寸，焦距為 50 cm，248 nm 平凸透鏡。

? 可調(diào)節(jié)的光闌。

? 陽(yáng)極氧化鋁面包板用于安裝光路。

? 穩(wěn)定的可活動(dòng)基座用于安裝2英寸激光反射鏡和透鏡，具有最大的清晰光圈和寬角度范圍。

? 反射鏡安裝在靶材表面提供精確的定位激光點(diǎn)。

? 安轉(zhuǎn)有穩(wěn)定的直徑 2 英寸透鏡。

? 包含一套完整的安裝桿和底座。

? 配有光學(xué)紫外線安全外殼，保護(hù)使用者免受激光輻射。

激光光束掃描系統(tǒng)

提供激光光束掃描功能，在靶材上保持固定的光通量（J/cm2 ）。光束掃描可以使薄膜在襯底上均勻地沉積，厚度均勻性為 5% 或更好。當(dāng)激光光束進(jìn)行掃描時(shí)，反射鏡和透鏡同步運(yùn)動(dòng)，以確保激光光束在靶材上有固定的光通量。激光掃描使用反比速率協(xié)議，以確保在沉積薄膜時(shí)，靶材表面消融均勻。

反比速率協(xié)議（Inverse Velocity Protocol）

? Neocera 激光光束掃描系統(tǒng)采用反比速率掃描。

? 激光光束掃描的速率與到參照點(diǎn)的距離成反比。

? 對(duì)激光掃描做了調(diào)整，使它在到達(dá)靶材中心時(shí)掃描更快，但在接近靶材邊緣時(shí)減慢。這促進(jìn)了靶材表面的均勻消融，對(duì)于厚度均勻性也很重要。

? 8 英寸晶圓片的中心總是沉積來(lái)自 PLD 羽輝的材料。通過(guò)控制掃描長(zhǎng)度、掃描速率、激光羽輝在襯底邊緣的時(shí)間和激光羽輝在襯底中心的時(shí)間，可以確保整個(gè)8英寸襯底上薄膜的均勻性。這些都可以通過(guò)調(diào)整激光光束掃描的參數(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)。

? 用戶可以存儲(chǔ)和重新取回參數(shù)，也可以編輯參數(shù)。

靶材搖擺技術(shù)（Target Raster）

靶材搖擺：搖擺意味著掃描。靶材旋轉(zhuǎn)器上有兩個(gè)直流電機(jī)。一個(gè)直流電機(jī)控制靶材圍繞自己的軸旋轉(zhuǎn)（RPM）。當(dāng)這個(gè) 電機(jī)打開(kāi)時(shí)，旋轉(zhuǎn)器上的 6 個(gè)靶材都以給定的 RPM 旋轉(zhuǎn)（如：20 RPM）。還有第二個(gè)直流電機(jī)，可以在兩個(gè)用戶選擇的值之間對(duì)靶材旋轉(zhuǎn)器進(jìn)行搖擺。如果我們的主靶材在 60° 位置，搖擺將被設(shè)置在大約 55° 和 65° 之間。

PLD 軟件控制系統(tǒng)

Windows 10，Labview 2018。

襯底加熱平臺(tái) ? 反比速率協(xié)議 ? 激光器的外部觸發(fā)。襯底旋轉(zhuǎn)器 ? 氣壓控制 - 通過(guò)質(zhì)量流量控制器（MFC） ? 多層薄膜和超晶格的 recipe 和沉積 ? 靶材轉(zhuǎn)換器 ? 靶材搖擺技術(shù) ? 控制抽真空速率

系統(tǒng)主機(jī)框架

PLD 系統(tǒng)主機(jī)有 4 英寸的旋轉(zhuǎn)腳輪和調(diào)平腳；框架中的一個(gè)面板上有冷卻風(fēng)扇，防止熱量積聚。電子設(shè)備安裝在框架上一個(gè)完整的電子機(jī)架上。一個(gè)歧管面板用來(lái)安裝所有氣體歧管和控制器。電氣分配和互連集成在主框架內(nèi)。

系統(tǒng)配置

PLD 系統(tǒng)配置 - 電力、工藝氣體和壓縮空氣

? 電力： 2 英寸 - 220 V/20 A/ 單相電（標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)） 4 英寸 - 380 V/40 A/ 三相電（標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)）

? 水： 1 ~ 2 L/min, 室溫（25 ℃）在 20 ℃ 條件下每分鐘 1 加侖

? 氣壓： 5 psi（磅每平方英寸） 1/4 英寸 Swagelock 配件

可升級(jí) 功能

襯底的裝載卸載（Load-Lock）

磁耦合線性饋通通過(guò)邊緣夾持裝置在襯底加熱器 “ 支架 ” 之間插入和收回襯底基座板。Load-Lock 是手動(dòng)操作裝置，它的腔室有一個(gè)閘閥，將其與主要的超高真空腔室分開(kāi)。配備一臺(tái) 70 L/s 的渦輪分子泵，用于對(duì) Load-Lock 腔室進(jìn)行抽真空。 Load-Lock 腔室的本底真空可達(dá) 5×10-7 Torr 或更好。泵組（渦輪泵和前級(jí)泵）均為無(wú)油的干泵。Load-Lock 腔室有一個(gè)入口，便于基座板的插入和移除。真空計(jì)會(huì)顯示出真空度。

靶材 Load-Lock 升級(jí)

靶材 Load-lock 升級(jí)，對(duì)于靶材的裝載 - 鎖定，整個(gè)靶材旋轉(zhuǎn)器安裝在 Z 平臺(tái)上，以便于裝載 - 鎖定。

超高真空升級(jí)

超高真空升級(jí)可將本底真空提高到 5×10-9 Torr。這些升級(jí)包括對(duì)泵的升級(jí)，金屬密封閘閥，將所有氟化橡膠密封更換為銅密封，并在適用的情況下使用所有與超高真空兼容的玻璃 - 金屬窗（這包括激光窗口和所有觀察窗口）。

5×10-7 Torr → 7.5×10-9 Torr

6.67×10-5 Pa → 1.0×10-6 Pa

6.67×10-7 mbar → 1.0×10-8 mbar

襯底 Z 平臺(tái)

這使得靶基距可做 100 mm 的調(diào)節(jié)。距離可以調(diào)整為 50 mm 到 150 mm 之間的任何值（共 100 mm 調(diào)整距離）。

激光窗口更換系統(tǒng)

激光窗口更換系統(tǒng)提供了清潔的光束路徑，延長(zhǎng)了工作時(shí)間。

? 一個(gè)紫外級(jí)硅窗 - 手動(dòng)旋轉(zhuǎn)襯板，從涂覆位置到未涂覆位置，以提供清潔的激光束路徑。

? 硅襯板提供 45 個(gè)無(wú)涂層位置（取決于現(xiàn)有的光學(xué)配置）。

? 硅襯板可以拆卸清洗并重復(fù)使用。

? 主激光窗口由硅襯板保護(hù)不受鍍層的影響。

全自動(dòng)激光窗口更換系統(tǒng)

全自動(dòng) “ 窗口更換系統(tǒng) ” 集成有一個(gè)裝有 6 片硅片的盒子，為長(zhǎng)時(shí)間的操作提供清潔的光束路徑。客戶可設(shè)置在特定數(shù)量的激光脈沖后，涂層窗口自動(dòng)替換為無(wú)涂層窗口，在長(zhǎng)時(shí)間的操作中保持光束路徑的清潔。

激光加熱器升級(jí)（Laser Heater upgrade）

在這次升級(jí)中，Pioneer 180 PLD 系統(tǒng)現(xiàn)有的 2 英寸直徑的輻射加熱臺(tái)將被激光加熱臺(tái)取代。 LSH-100 激光加熱器能夠產(chǎn)生高于 1000℃ 的襯底溫度。襯底的背面與由 140 瓦光纖耦合激光器輻射加熱的吸收器直接熱接觸。吸收器的溫度由集成光學(xué)高溫計(jì)持續(xù)監(jiān)控，為加熱器溫度 PID - 控制回路提供反饋。Neocera 專用軟件（LabView 2018）為用戶提供了許多選項(xiàng)，用于編程自定義溫度配置文件、加熱模式和創(chuàng)建配置文件庫(kù)。整個(gè) LSH-100 加熱器組件完全集成，以實(shí)現(xiàn)可靠和安全的運(yùn)行。

850℃ → 1000℃

技術(shù)參數(shù)：

? 光纖耦合二極管激光器，最大輸出功率：140 W

? 激光波長(zhǎng)：930 ~ 960 nm

? 最大襯底尺寸：10 mm × 10 mm

? 高溫計(jì)讀數(shù)范圍：300 ~ 1300 ℃

? 最大吸收器溫度：1050 ℃

? 溫度不均勻性：<10 ℃

? 溫度穩(wěn)定性：1 %

? 最大升溫速率：30 ℃/s

射頻濺射源系統(tǒng)

? 6 英寸 CF 法蘭安裝

? 濺射源直徑：2 英寸

? 最大射頻功率：300 W

? 包含射頻優(yōu)化網(wǎng)絡(luò)，手動(dòng)調(diào)優(yōu)。

直流濺射源系統(tǒng)

? 6 英寸 CF 法蘭安裝

? 濺射源直徑：2 英寸

? 最大直流功率：500 W

? 含 1 KV 電源

CCS（連續(xù)成分生長(zhǎng)）/ 組合

PLD CCS（連續(xù)成分生長(zhǎng)）功能可在單次沉積中沉積多種不同組分的材料，大大縮短了沉積不同組分材料及合成新材料的時(shí)間，實(shí)現(xiàn)合成材料組分的優(yōu)化。PLD-CCS 系統(tǒng)能以連續(xù)的方式改變沉積的材料，沒(méi)有必要使用掩模?？梢栽诿恳淮窝h(huán)中，以小于一個(gè)單分子層的速率，快速連續(xù)沉積每一種組分，其結(jié)果類似于共沉積法。該法無(wú)需在沉積后進(jìn)行退火促進(jìn)內(nèi)部擴(kuò) 散或結(jié)晶，對(duì)于生長(zhǎng)溫度是關(guān)鍵參數(shù)的研究或者被沉積的材料或襯底不適合高溫退火的情況非常有幫助。Neocera 公司的 PLD 系統(tǒng)在同一個(gè)系統(tǒng)上既可以實(shí)現(xiàn)帶有 CCS（連續(xù)成分生長(zhǎng)）功能的 PLD（CCS-PLD）, 也可以實(shí)現(xiàn)基本的 PLD 功能。

高壓 RHEED 系統(tǒng)

激光分子束外延（Laser MBE）

激光 MBE 是普遍采用的術(shù)語(yǔ)，該法是一種納米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的 PLD 與在線工藝監(jiān)測(cè)的反射高能電子衍射（RHEED）的聯(lián)合應(yīng)用，為用戶提供了類似于 MBE 的薄膜生長(zhǎng)的單分子水平控制。

? 高壓 RHEED 用于原位薄膜生長(zhǎng)控制。

? 提供原子級(jí)薄膜生長(zhǎng)控制 / 生長(zhǎng)模式控制。（例如：通過(guò) RHEED 振蕩實(shí)現(xiàn)的 2D 生長(zhǎng)模式）

? RHEED 是一種衍射技術(shù)。從屏上產(chǎn)生的衍射圖樣中，可以實(shí)時(shí)地破譯結(jié)構(gòu)信息。

? 厚度和沉積速率信息。

? 薄膜襯底界面的應(yīng)力 / 其它結(jié)構(gòu)缺陷、第二相均可檢測(cè)。

? 這些信息對(duì)于各種納米結(jié)構(gòu)的高質(zhì)量外延薄膜生長(zhǎng)至關(guān)重要。

技術(shù)參數(shù)：

? 最大束流電壓：30 KeV。

? 兩組磁線圈，用于襯底平面內(nèi)和垂直于襯底平面的束流運(yùn)動(dòng)。

? 雙差動(dòng)泵（氧氣的兼容性高達(dá) 500 mTorr ）。

? 配有光閥的凹形 RHEED 屏。

? 12 位 CCD 相機(jī)。

? K-space 數(shù)據(jù)采集和軟件。

? 與 PLD 系統(tǒng)完全集成。

Low Angle X-ray Spectroscopy - 小角 X 射線譜儀

? LAXS 用于實(shí)時(shí)成分診斷。

? LAXS 實(shí)時(shí)檢測(cè)薄膜成分。

? 在薄膜沉積過(guò)程中，利用 Neocera 專有算法將高能電子束產(chǎn)生的各種元素的 X 射線強(qiáng)度轉(zhuǎn)化為元素成分。

? LAXS 是一種動(dòng)態(tài) X 射線光譜技術(shù)。

? 實(shí)時(shí)提供薄膜的定量成分信息。

? LAXS 提供了成分 / 化學(xué)信息，與 RHEED（結(jié)構(gòu)）相輔相成。

? 這些綜合信息對(duì)材料研究人員來(lái)說(shuō)至關(guān)重要。

技術(shù)參數(shù)：

? X 射線源：30 KeV 電子束（使用 RHEED 的 X 射線源）。

? 電子束入射角：<10°。

? X 射線探測(cè)器：硅漂移探測(cè)器。

? X 射線能量范圍：1 ~ 20 KeV。

? 能量分辨率：130 eV。

? 最小薄膜厚度：2 nm。

? 成分準(zhǔn)確度：+/-5%。

? 沉積氣壓范圍：10-8 Torr to 500 mTorr。

? 軟件：Windows 10，Labview 2018。

Ion Energy Spectrometer - 離子能譜儀

技術(shù)參數(shù)：

? 操作氣壓范圍：本底真空（5×10-7 Torr）到工藝氣壓的 200 mTorr。

? 離子能量范圍：0 ~ 200 eV

? 最小能量分辨率：1 eV

? 掃描步長(zhǎng)：0.2 ~ 10 V

? 離子電流振幅范圍：10-3 ~ 10 A ? 最大傳感器直徑：3.5 cm

? 數(shù)字轉(zhuǎn)換器帶寬：50 MHz

。時(shí)間分辨率：20 ns

? 與激光同步的精度：30 ns

? 最大脈沖重復(fù)頻率：5 Hz

? 氣體壓力范圍：0 ~ 200 mTorr

? 最大等離子體濃度（最大）：~1×1013 /cm3

? TOF 能量范圍：10 ~ 1500 eV

離子輔助沉積（IBAD）

高性能的離子輔助沉積系統(tǒng)

離子輔助沉積已經(jīng)成為在無(wú)規(guī)取向的襯底或非晶襯底上沉積雙軸結(jié)構(gòu)薄膜的一種重要技術(shù)。Neocera 開(kāi)發(fā)了離子輔助的 PLD 系統(tǒng)，該系統(tǒng)將 PLD 在沉積復(fù)雜材料方面的優(yōu)勢(shì)與 IBAD 能力結(jié)合在一起。

脈沖電子束沉積系統(tǒng)（PED）

脈沖電子束沉積（Pulsed Electron Deposition）是指高能脈沖（100 ns）的電子束（約 1000 A，15 KeV）在靶材上穿透大約 1 μm，使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對(duì)靶材的非平衡提?。疲┦沟入x子體的組分與靶材的化學(xué)計(jì)量比組分一致。在最佳條件下，靶材的化學(xué)計(jì)量比與沉積薄膜保持一致。所有的固態(tài)材料如金屬、半導(dǎo)體和絕緣體等都可以用 PED 技術(shù)沉積各自的薄膜。