
激光濺射沉積系統(tǒng)
是一種利用激光對(duì)物體進(jìn)行轟擊,然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。四個(gè)階段:1、激光輻射與靶的相互作用;2、熔化物質(zhì)的動(dòng)態(tài);3、熔化物質(zhì)在基片的沉積;4、薄膜在基片表面的成核與生成。將在半導(dǎo)體薄膜、超晶格、超導(dǎo)、生物涂層等功能薄膜的制備方面發(fā)揮重要的作用。
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