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日本 離子束刻蝕系統(tǒng)Elionix
- 品牌：日本ELIONIX
- 型號： EIS-200
- 產(chǎn)地：亞洲 日本
- 供應(yīng)商報價：面議
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深圳市科時達(dá)電子科技有限公司
更新時間：2025-04-29 06:40:25 -
銷售范圍售全國
入駐年限第4年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品日本Microphase 分子束外延系統(tǒng) (2件)
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詳細(xì)介紹
EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術(shù)（ECR）的小型離子束蝕刻系統(tǒng)，特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄，清洗、鍍膜等。
EIS-200原理：
利用ECR技術(shù)產(chǎn)生高能Ar+離子束，Ar+離子束通過電場加速到達(dá)樣品表面，對樣品進行物理的轟擊達(dá)到刻蝕作用。
EIS-200具有以下優(yōu)點：
? 方向性好，各向異性，陡直度高，側(cè)向刻蝕少
? 分辨率高
? 不受刻蝕材料限制，可對石英等材料進行蝕刻
? 可控制蝕刻Taper角
? 可以設(shè)定多樣的實驗條件
二、主要功能
l 主要應(yīng)用
納米圖案刻蝕
高深寬比蝕刻
表面清潔
離子減薄
l 技術(shù)能力
離子槍
ECR型離子槍
離子化氣體
Ar、Xe等、惰性離子氣體
N2、O2、CF4等、活性離子氣體
加速電壓
100V～3000V 連續(xù)可變（高加速電壓可選) (輸出電流20mA MAX)
離子束流密度
Ar:1.5mA/cm2以上 (2kV加速時）
O2:2.0mA/cm2以上 (2kV加速時）
離子束有效直徑
Φ20mm（FWHM35mm)
離子束穩(wěn)定度
±3％/2H
大樣品尺寸
Φ4英寸
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