美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機（Mask Aligner)，是全球領(lǐng)先的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗，全球售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國國家半導(dǎo)體公司、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)、臺塑、墨爾本大學(xué)、華盛頓州立大學(xué)、方大集團、大聯(lián)大集團、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。