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2025-03-19 15:57:57反射內(nèi)存卡反射內(nèi)存: 反射內(nèi)存卡（Reflection Memory Card）及反射內(nèi)存技術(shù)是一種高性能的數(shù)據(jù)傳輸與共享解決方案。它利用專用的硬件和內(nèi)存架構(gòu)，實(shí)現(xiàn)不同計(jì)算機(jī)系統(tǒng)間的低延遲、高帶寬數(shù)據(jù)通信。該技術(shù)常用于實(shí)時(shí)控制系統(tǒng)、仿真環(huán)境及高性能計(jì)算領(lǐng)域，確保數(shù)據(jù)的一致性和實(shí)時(shí)性，適用于對數(shù)據(jù)傳輸速度和同步性要求極高的應(yīng)用場景。

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解讀 PCIE 轉(zhuǎn) PMC 載板轉(zhuǎn)接卡

美國進(jìn)口VMIC反射內(nèi)存卡GE公司測量和控制解決方案產(chǎn)業(yè)部在以傳感器為基礎(chǔ)的測量、檢驗(yàn)、資產(chǎn)狀態(tài)監(jiān)測、控制和輻射測量解決方案的方面是一個(gè)領(lǐng)先的變革者，解決方案在廣泛的行業(yè)里

 劉學(xué)民 24
2024-09-09
反射內(nèi)存卡反射內(nèi)存

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反射內(nèi)存卡反射內(nèi)存問答

2022-05-20 22:19:40明美透反射雙光路數(shù)字切片掃描儀: 近年來，隨著信息技術(shù)的快速發(fā)展，數(shù)字切片掃描已逐漸應(yīng)用于醫(yī)學(xué)教學(xué)、病理診斷、科研領(lǐng)域。目前市面上的數(shù)字切片掃描儀主要分為兩類：箱式和顯微鏡式，兩者對比的話優(yōu)點(diǎn)各異，箱式的結(jié)構(gòu)上會更簡便，但功能相對比較單一；顯微鏡式的相當(dāng)于是在普通顯微鏡上的升級改造，功能更加多樣性。接下來我們介紹的是明美光電顯微鏡式數(shù)字切片掃描儀，它通過自主設(shè)計(jì)的光源與電子手輪，完整保留了傳統(tǒng)顯微鏡的手動交互操作，在此基礎(chǔ)上新增了切片全景掃描的功能，而且支持透反射雙光路顯微系統(tǒng)掃描，既可以掃描透明的病理切片，亦可以掃描不透明的地質(zhì)礦石類標(biāo)本，應(yīng)用十分廣泛。20X物鏡病理切片全景掃描圖（透射光路）20X物鏡礦石標(biāo)本全景掃描圖（反射光路）明美數(shù)字切片掃描儀組成研究級正置顯微鏡機(jī)身，也可采用BX41、BX43、BX53等進(jìn)口主機(jī)；標(biāo)配透射光源，可選配反射照明模塊。高精度電動平臺，XY電動平臺行程80*50mm，閉環(huán)定位精度0.5μm；Z軸閉環(huán)定位精度0.1μm，步進(jìn)高幀率掃描相機(jī)，掃描幀率＞120fps，分辨率1920*1200，曝光時(shí)間＜7μs，由于標(biāo)配的是雙光路C接口，還預(yù)留一個(gè)接口可以用于安裝大靶面顯微相機(jī)，保留原顯微鏡單視野高分辨率拍照功能?？焖贌o縫拼接系統(tǒng)，采用特殊優(yōu)化的圖像拼接算法，針對月牙形，U型等各種異形切片樣品進(jìn)行過拼接優(yōu)化，能夠在掃描成像后秒出無縫全局大圖；15mm×15mm成像區(qū)域，10X物鏡掃描成像速度豐富的切片圖像管理功能，采用金字塔圖像數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)，在不同放大倍率的瀏覽需求下按需調(diào)用不同分辨率的圖像，縮放瀏覽毫無卡頓感；提供API可獲取圖像數(shù)據(jù)底層Raw Data用于AI計(jì)算。掃描成像之前，應(yīng)先通過顯微鏡閱片，快速確定切片是否可用于掃描以及需要掃描的區(qū)域（局部或全景），然后通過全自動顯微鏡系統(tǒng)掃描玻片采集得到高分辨率數(shù)字圖像，再用計(jì)算機(jī)軟件對這些圖像自動進(jìn)行無縫隙拼接和處理，并獲得全視野數(shù)字化切片，可以自由觀察切片的任意位置，進(jìn)行無限倍率放大、縮小或連續(xù)變倍觀察，這樣既能看到切片全貌，又能從細(xì)微處觀察病理變化，不再受鏡下單一視野的局限。顯微數(shù)字切片掃描儀的切片信息長期保存，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字化、信息化、網(wǎng)絡(luò)化，可以根據(jù)需求建立私有切片庫，在沒有顯微鏡和切片的條件下也能進(jìn)行觀察；在實(shí)際使用過程中，針對不同的工作目的，需要有取舍的來選擇是采用傳統(tǒng)顯微鏡觀察模式還是采用掃描采圖模式，才能發(fā)揮出顯微數(shù)字切片掃描儀的技術(shù)優(yōu)勢。來源：https://www.mshot.com/article/1367.html

2020-09-16 09:41:32【課程推薦】KLA Instruments | Webinar課程：反射和透射：兩個(gè)優(yōu)于一個(gè): 優(yōu)尼康課程推薦KLA Instruments | Webinar課程：反射和透射：兩個(gè)優(yōu)于一個(gè)?！m合新老客戶了解學(xué)習(xí)膜厚儀的使用；加深對產(chǎn)品的理解。 FILMETRICS同時(shí)測量光譜反射和透射對分析光學(xué)薄膜來講是非常重要的。歡迎來到F10-RT獨(dú)特的境界里。顯然這會限制我們只能用透明基底材料，但這會讓我們更準(zhǔn)確地測量光學(xué)系數(shù) （特別是消光系數(shù)）。除五彩繽紛的介電薄膜外我們還會討論上百納米厚的金屬薄膜。*點(diǎn)擊“立刻注冊”即可預(yù)約線上課程 Michelle Shi應(yīng)用工程師 @KLA InstrumentsMichelle Shi 是KLA Instrument Group Filmetrics 光學(xué)輪廓儀以及薄膜測量儀的應(yīng)用工程師。Michelle 于2019年5月加入KLA公司, 擔(dān)任Filmetrics薄膜測量以及光學(xué)輪廓產(chǎn)品的應(yīng)用，客戶支持以及業(yè)務(wù)開發(fā)，主要支持Profilm3D光學(xué)輪廓儀以及Filmetrics全系列薄膜測量產(chǎn)品。在加入KLA之前，Michelle在美國俄亥俄大學(xué)獲得物理學(xué)碩士學(xué)位并在NASA Ames硅谷研究ZX進(jìn)行科學(xué)研究，以及在高新科技初創(chuàng)企業(yè)kaiaTech擔(dān)任高級工藝工程師負(fù)責(zé)半導(dǎo)體薄膜材料的研發(fā)及新應(yīng)用。

2020-10-16 11:46:53伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術(shù)獲取高反射吸收Ta2: 伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術(shù)獲取高反射吸收Ta2O5薄膜為了獲取高性能紫外激光薄膜元件, 急需研制紫外高吸收薄膜, 某研究所采用伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射沉積技術(shù)鍍制 Ta2O5 薄膜進(jìn)行研究. 其系統(tǒng)工作示意圖如下：該研究所的離子束濺射鍍膜組成系統(tǒng)主要由濺射室、雙離子源、濺射靶、基片臺等部分組成. 其中雙離子源中的一個(gè)離子源適用于濺射靶材, 另個(gè)離子源是用于基材的預(yù)清洗. 用于濺射的離子源采用伯東的 KRI 聚焦型射頻離子源 380, 其參數(shù)如下: 伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù)：射頻離子源型號RFICP 380Discharge 陽極射頻 RFICP離子束流>1500 mA離子動能100-1200 V柵極直徑30 cm Φ離子束聚焦流量15-50 sccm通氣Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型壓力< 0.5m Torr長度39 cm直徑59 cm中和器LFN 2000 理由：聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染用于預(yù)清洗的離子源是采用伯東 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術(shù)參數(shù):離子源型號霍爾離子源eH3000eH3000LOeH3000MOCathode/NeutralizerHC電壓50-250V50-300V50-250V電流20A10A15A散射角度>45可充其他Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others氣體流量5-100sccm高度6.0“直徑9.7“水冷可選其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10-5Pa, 采用伯東分子泵組 Hicube 80 Pro, 其技術(shù)參數(shù)如下：進(jìn)氣法蘭氮?dú)獬樗?nbsp;N2,l/s極限真空 hpa前級泵型號前級泵抽速 m3/h前級真空安全閥DN 40 ISO-KF35< 1X10-7Pascal 202118AVC 025 MA 運(yùn)行結(jié)果：伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術(shù)可以制備不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜. 伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

2020-04-24 21:51:58AR增透抗反射減反膜基本原理瑞研光學(xué): 減反射膜是以光的波動性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個(gè)振幅相同，波長相同的光波疊加，那么光波的振幅增強(qiáng)；如果二個(gè)光波原由相同，波程相差，如果這二個(gè)光波疊加，那么互相抵消了。減反射膜就是利用了這個(gè)原理，在鏡片的表面鍍上減反射膜，使得膜層前后表面產(chǎn)生的反射光互相干擾，從而抵消了反射光，達(dá)到減反射的效果。1）振幅條件膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。2）位相條件膜層厚度應(yīng)為基準(zhǔn)光的 1/4 波長。d=λ/4 λ=555nm 時(shí)，d=555/4=139nm對于減反射膜層，許多眼鏡片生產(chǎn) 商采用人眼敏感度較高的光波（波長為555nm)。當(dāng)鍍膜的厚度過?。ā?39nm),反射光會顯出淺棕黃色，如果呈藍(lán)色則表示鍍膜的厚度過厚（〉139nm）。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射，但并不可能做到?jīng)]有反射光線。鏡片的表面也總會有殘留的顏色，但殘留顏色哪種是Z好的，其實(shí)并沒有標(biāo)準(zhǔn)，目前主要是以個(gè)人對顏色的喜好為主，較多為綠色的色系。我們也會發(fā)現(xiàn)殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同，因此在鏡片ZY部分呈綠色，而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。

2020-04-21 09:14:16顯微鏡的照明方式透射照明與反射照明（落射照明）: 透射式照明法分ZX照明和斜射照明兩種形式：（1） ZX照明：這是Z常用的透射式照明法，其特點(diǎn)是照明光束的中軸與顯微鏡的光軸同在一條直線上。它又分為“臨界照明”和“柯勒照明”兩種。 A．臨界照明（Critical illumination）:這是普通的照明法。這種照明的特點(diǎn)是光源經(jīng)聚光鏡后成像在被檢物體上，光束狹而強(qiáng)，這是它的優(yōu)點(diǎn)。但是光源的燈絲像與被檢物體的平面重合，這樣就造成被檢物體的照明呈現(xiàn)出不均勻性，在有燈絲的部分則明亮；無燈絲的部分則暗淡，不僅影響成像的質(zhì)量，更不適合顯微照相，這是臨界照明的主要缺陷。其補(bǔ)救的方法是在光源的前方放置乳白和吸熱濾色片，使照明變得較為均勻和避免光源的長時(shí)間的照射而損傷被檢物體。 B．柯勒照明：柯勒是十九世紀(jì)末蔡司廠的工程師,為了紀(jì)念他在光學(xué)領(lǐng)域的突出貢獻(xiàn),后人把他發(fā)明的二次成像叫做柯勒照明. 柯勒照明克服了臨界照明的缺點(diǎn)，是研究用顯微鏡中的理想照明法。這中照明法不僅觀察效果佳，而且是成功地進(jìn)行顯微照相所必須的一種照明法。光源的燈絲經(jīng)聚光鏡及可變視場光闌后，燈絲像*次落在聚光鏡孔徑的平面處，聚光鏡又將該處的后焦點(diǎn)平面處形成第二次的燈絲像。這樣在被檢物體的平面處沒有燈絲像的形成，不影響觀察。此外照明變得均勻。觀察時(shí)，可改變聚光鏡孔徑光闌的大小，使光源充滿不同物鏡的入射光瞳，而使聚光鏡的數(shù)值孔徑與物鏡的數(shù)值孔徑匹配。同時(shí)聚光鏡又將視場光闌成像在被檢物體的平面處，改變視場光闌的大小可控制照明范圍。此外，這種照明的熱焦點(diǎn)不在被檢物體的平面處，即使長時(shí)間的照明，也不致?lián)p傷被檢物體。2004年蔡司公司又在傳統(tǒng)柯勒式照明基礎(chǔ)上推出了帶有反光碗的全系統(tǒng)復(fù)消色差照明技術(shù)，消除照明色差，增強(qiáng)光的還原性，進(jìn)而提高分辨率，同時(shí)照明均勻而光效高。（2）斜射照明：這種照明光束的中軸與顯微鏡的光軸不在一直線上，而是與光軸形成一定的角度斜照在物體上，因此成斜射照明。相襯顯微術(shù)和暗視野顯微術(shù)就是斜射照明。 2．反射式照明這種照明的光束來自物體的上方通過物鏡后射到被檢物體上，這樣物鏡又起著聚光鏡的作用。這種照明法是適用于非透明物體，如金屬，礦物等。