- 2025-01-21 09:33:41兆聲清洗技術
- 兆聲清洗技術利用高頻聲波在液體中產(chǎn)生微小氣泡，這些氣泡在破裂時釋放能量，有效清洗物體表面。該技術廣泛應用于半導體制造、精密機械、光學元件等領域，能夠去除微小顆粒、油脂等污染物。兆聲清洗技術具有清洗效率高、對基材損傷小、可適用于復雜結(jié)構等優(yōu)勢，是現(xiàn)代精密制造中不可或缺的重要技術。
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兆聲清洗技術問答
- 2022-11-02 23:50:36兆聲清洗技術原理、優(yōu)勢及應用
- 1 兆聲清洗技術背景Schwartzman等人，1993在SC1、SC2清洗時使用了兆頻超聲技術，獲得前所未有的清洗效果，使得該方法在清洗工藝中被廣泛采用，也引發(fā)了對超聲波增強清洗效果的規(guī)律與機理的研究。1995年Busnaina的研究表明，兆頻超聲波去除粒子的能力與溶液的組成、粒子的大小、超聲波的功率及處理時間有關。1997年Olim發(fā)現(xiàn)兆頻超聲去除粒子的效率與粒子直徑的立方成正比，并由此推斷兆頻超聲無法去除0.1μm以下的粒子。但是，兆聲波清洗拋光片可去掉晶片表面上＜0.2μm的粒子，起到超聲波起不到的作用。這種方法能同時起到機械擦片和化學清洗兩種方法的作用。兆聲波清洗方法已成為拋光片清洗的一種有效方法。但是，隨著頻率升高，聲傳播的效率會降低，所以兆聲波清洗技術效果并不是頻率越高越好。目前，一般用的頻率范圍是（700～1000）kHz。2 兆聲波清洗原理簡介聲能在液體內(nèi)傳播時，液體會沿聲傳播的方向運動，形成聲學流（Acousticstreaming），聲學流是由聲波生產(chǎn)的力和液體的聲學阻力以及其他的氣泡阻力形成的液體的流動的效果，兆聲波清洗就是利用聲能產(chǎn)生的液體流動來去除硅片表面的污染物，其原理見圖1。兆聲波清洗是由高頻（700～1000kHz）的波長短（1.5μm左右）的高能聲波推動溶液做加速運動，使溶液以加速的流體形式連續(xù)沖擊硅片表面，使硅片表面的顆粒等污染物離開硅片進入溶液中，達到去除污染物的目的。隨著聲能的增高，表面張力會下降，這可改善浸潤效果及小顆粒的浸潤。而且，能量越高，聲學流的速度越快，硅片表面被帶走的顆粒也隨之增多反應速率也會升高，這可降低反應時間，同時，也可以降低化學液的濃度。隨著頻率升高，空洞現(xiàn)象的閥值會升高，所以兆聲不會像超聲一樣會產(chǎn)生氣泡而損傷硅片表面。而根據(jù)超聲頻率的高低對應的去除污染物顆粒大小的能力，選用的頻率見表1。3 兆聲波清洗技術的特點（1）美國VEＲTEQ公司的M.Olesen.Y.Fan等人研究發(fā)現(xiàn)，兆聲技術有如下特點。能大大降低邊界層的厚度，使其具有清除深亞微米顆粒的能力，可滿足現(xiàn)行工藝以及0.1μm（線寬）技術對清洗工藝的需求。有兆聲時邊界厚度的對比（見圖2）。（2）可以極大的提高清洗效率，從圖3有無兆聲時的清洗效率對比圖中可以看到，當兆聲關閉時，用30s的時間清洗效率只能達到20%，有兆聲時，只需10s的時間清洗效率就可達到99.99%。（3）由于兆聲波清洗可以使用稀釋倍數(shù)大的化學液，從而大大減少了化學藥品的用量和消耗，降低了清洗工序的工藝成本，有效減少了化學液的污染，保護環(huán)境。圖3是在極低濃度的化學液中有無兆聲的清洗效果對比圖。由于兆聲波清洗具備以上諸多優(yōu)點，因此使得兆聲波清洗很快成為硅片清洗行業(yè)中廣泛應用于去除微細顆粒的重要手段。4 兆聲波清洗技術在清洗設備中的應用結(jié)合常規(guī)的濕法清洗工藝開發(fā)出適合相關工藝階段的兆聲清洗設備，按照這些設備的不同結(jié)構，大體可分為兩類，一類是融匯在濕法清洗機兆聲清洗槽或兆聲漂洗槽，它們作為設備的一部分，只完成單個的清洗或漂洗過程。另一類則是以獨立的設備形式出現(xiàn)。這就是兆聲清洗機，該種設備通常配備兩個槽體，一個清洗槽和一個沖洗槽，清洗槽是在兆聲環(huán)境下用化學液來去除硅片表面的微細顆粒及化學污染物等，沖洗槽則是對清洗完的硅片用去離子水進行沖洗，從而達到生產(chǎn)需要的潔凈度。但是由于兆聲傳播是一種介質(zhì)傳播，聲音傳播中的能量會轉(zhuǎn)化成介質(zhì)的動能，因此在使用兆聲清洗的同時會產(chǎn)生兆聲能量的衰減。導致能量衰減的因素，首先是兆波的反射，如圖4所示。兆聲能量的衰減可通過以下公式計算：衰減系數(shù)γ可表示為：γ=γ吸收+γ分散；γ分散在液體中，不在計算內(nèi)。在水液體中，γ吸收系數(shù)（dB/m）=0.2F2（MHz）。由此計算可得，在頻率為950kHz時，衰減度約為0.002dB/m；在頻率為40kHz時，衰減度約為0.000003dB/m，在水液體中，兆聲波衰減約為低頻超聲波衰減的1000倍，如圖5所示。因此，在兆聲清洗中，液位不能超過500mm。而在低頻超聲波中，超聲波能量可傳至（1.5～2）m高。安裝時，石英缸底部有一定傾斜角度更利于高頻兆聲波的傳播，由圖7中角度與聲壓的關系可知，當θ=2°時，最有利于兆聲波的傳播。由于聲波傳播時一種介質(zhì)傳播，因此在不同的頻率下石英缸作為傳遞介質(zhì)，它的厚度也對兆聲的傳播有一定影響。通過下面公式可以計算出不同介質(zhì)中聲波的傳播率D：從圖8可見，當厚度t=3mm時，兆聲波在石英中具備更好的傳播率。兆聲發(fā)生器在石英循環(huán)溢流槽中的安裝原理見圖9。5 兆聲清洗技術應用領域由于兆聲波能去除硅片表面的微小顆粒，并且不會對硅片表面造成損傷，近幾年兆聲波清洗被大量的應用在清洗工藝中。兆聲波用在SC－1中，可提高去除顆粒尤其是小顆粒的效果；用在DHF，臭氧水、純水中都能起到增強清洗效果的作用。目前兆聲清洗技術被廣泛應用于液晶、手機鏡片、光學器件照相機鏡頭制造業(yè)，汽車、摩托車制造業(yè)，電子、微電子、電子電器元器件制造業(yè)，五金業(yè)、機械的零件業(yè)，航天、航空清洗精密零部件業(yè)，鐘表、眼境、珠寶制造業(yè)，家電產(chǎn)品制造業(yè)，電鍍業(yè)，鐵路機車造業(yè)等各個行業(yè)。（轉(zhuǎn)）具體應用涉及：帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗CMP處理后的晶圓片清洗晶圓框架上的切粒芯片清洗等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗帶保護膜的分劃版清洗掩模版空白部位或接觸部位清洗X射線及極紫外掩模版清洗光學鏡頭清洗ITO涂覆的顯示面板清洗兆聲輔助的剝離工藝
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- 2025-01-15 12:00:16密度儀怎么清洗
- 密度儀怎么清洗：保持儀器性與長久使用的關鍵 密度儀作為實驗室中常用的測量工具，其清洗和保養(yǎng)至關重要。清洗不當不僅會影響測量結(jié)果的準確性，還可能導致儀器故障，降低其使用壽命。本文將詳細介紹密度儀的正確清洗方法和注意事項，以確保儀器始終保持佳性能。無論是常規(guī)使用還是特殊情況下的清潔，我們將為您提供全面的解決方案，幫助您維護儀器的穩(wěn)定性和精度。 1. 密度儀清洗的必要性 密度儀在長時間使用過程中，可能會受到液體、氣體或者其他物質(zhì)的污染。如果清洗不及時或清洗方法不當，殘留的雜質(zhì)會導致測量誤差、設備磨損或腐蝕。因此，保持密度儀的清潔是確保測量準確性和延長儀器使用壽命的必要步驟。 2. 清洗步驟 2.1 斷電與準備工具 在開始清洗密度儀之前，首先需要確保儀器已經(jīng)斷電，并準備好必要的清潔工具。常用的清潔工具包括軟布、無纖維擦拭紙、清潔刷和合適的清潔液。避免使用過于粗糙的物品，以免劃傷儀器表面。 2.2 清潔儀器外部 使用軟布或無纖維擦拭紙輕輕擦拭密度儀外部，清除灰塵和雜質(zhì)。此時避免使用含有強烈化學成分的清潔劑，以免損害外殼的材質(zhì)。對于難以清除的污漬，可以使用少量的中性清潔劑并輕輕擦拭。 2.3 清潔探頭和測量區(qū)域 密度儀的探頭和測量區(qū)域為關鍵，需特別小心處理。使用適合的清潔液（如去離子水或?qū)Ｓ们逑磩┣逑刺筋^表面。清洗時應避免水或液體滲入內(nèi)部，確保電路部分的干燥。對于頑固的污漬，可以使用清潔刷輕輕刷洗，但要確保不會對敏感部件造成損傷。 2.4 內(nèi)部清洗 如果儀器內(nèi)部發(fā)生污染或有固體沉積物，可以打開儀器的維修口或使用專用工具進行內(nèi)部清潔。這個步驟需要由專業(yè)人員操作，避免因不當操作導致儀器損壞。 3. 清洗后的保養(yǎng) 清洗完成后，務必檢查密度儀的各個部件，確保沒有松動或損壞的現(xiàn)象?？梢允褂酶蓛舻牟紝⑻筋^輕輕擦干，再放回儀器原位。定期進行校準和檢查，確保儀器的測量精度。 4. 注意事項 避免使用腐蝕性清潔劑：清潔時應避免使用含有強烈酸堿性或腐蝕性物質(zhì)的清潔劑，以免損壞儀器表面。 避免擦拭：過度用力擦拭可能會對儀器造成劃痕或其他物理損傷，使用輕柔的手法進行清潔。 定期保養(yǎng)：除了清潔外，定期的保養(yǎng)和校準是確保密度儀性能穩(wěn)定的重要手段。 結(jié)語 通過以上方法，您可以有效地清潔密度儀，保持其精確測量的能力和長期穩(wěn)定的性能。對于任何專業(yè)設備來說，良好的維護和保養(yǎng)不僅是提高效率的保障，也是延長設備使用壽命的關鍵所在。
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- 2025-02-14 14:30:15脂肪測定儀怎么清洗
- 脂肪測定儀作為健康管理中的重要工具，幫助用戶測量身體脂肪含量，從而為日常飲食和運動提供科學依據(jù)。為了保證其測量精度與長期使用的穩(wěn)定性，脂肪測定儀的清洗和維護顯得尤為重要。本文將詳細介紹脂肪測定儀清洗的正確方法及注意事項，確保您能夠在使用過程中保持設備的佳狀態(tài)。 脂肪測定儀的清洗工作并不復雜，但需要一定的專業(yè)性與細心。我們需要區(qū)分脂肪測定儀的不同部件，常見的脂肪測定儀一般包括電極、顯示屏、外殼等多個部分。每個部件的清潔方式都有所不同，不正確的清潔方法可能會對設備的性能造成影響，甚至導致測量結(jié)果的偏差。 電極清潔 電極是脂肪測定儀為關鍵的部分，它與人體皮膚直接接觸，確保電極部分干凈是至關重要的。使用前后，應先用柔軟的干布擦拭電極表面，避免油污、灰塵及汗液等污染物積累。如果電極部位有較為頑固的污漬，可以使用輕微濕潤的布進行擦拭，但要確保擦拭后完全干燥，避免電極腐蝕。 顯示屏清潔 顯示屏是脂肪測定儀的操作界面，保持屏幕清潔不僅影響操作體驗，也能避免細菌滋生。清潔時，可使用微濕的布或?qū)I(yè)的屏幕清潔布，輕輕擦拭屏幕表面。避免使用含有酒精、溶劑等化學成分的清潔劑，以免損壞屏幕保護膜。 外殼清潔 脂肪測定儀的外殼表面常常積累灰塵與油污，影響外觀與舒適使用感。外殼清潔可以使用溫和的清潔劑，避免過于的化學清潔劑。使用干凈的濕布擦拭后，再用干布擦干，確保表面干爽。 注意事項 避免浸泡：脂肪測定儀應避免浸泡在水中，尤其是電子元件所在部分，水分進入可能損壞設備。 溫和清潔：清潔時應使用柔軟布料和溫和的清潔劑，避免劃傷或腐蝕設備表面。 定期保養(yǎng)：除了日常清潔外，還需定期檢查電池與連接部件，確保設備長時間穩(wěn)定使用。 正確的清潔與維護不僅能延長脂肪測定儀的使用壽命，還能確保測量數(shù)據(jù)的準確性。因此，定期對設備進行科學保養(yǎng)，了解不同部件的清潔需求，是每一位使用者應遵守的基本原則。
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- 2025-02-11 12:30:15牛奶分析儀怎么清洗
- 牛奶分析儀是一種廣泛應用于乳制品檢測行業(yè)的重要儀器，它能夠幫助乳品生產(chǎn)企業(yè)準確分析牛奶的質(zhì)量成分，如脂肪、蛋白質(zhì)、乳糖等。由于牛奶的成分較為復雜且含有脂肪等物質(zhì)，分析儀在使用過程中容易積累污垢，影響檢測精度。因此，定期對牛奶分析儀進行清洗，確保其長期穩(wěn)定運作，對于提高檢測準確性和延長設備使用壽命具有重要意義。本文將詳細介紹牛奶分析儀的清洗方法與注意事項，幫助操作人員正確掌握清潔技巧，避免操作失誤。 牛奶分析儀清洗的必要性 牛奶分析儀在每次檢測后，都可能殘留一些牛奶中的成分，特別是脂肪和蛋白質(zhì)。這些殘留物若不及時清潔，會隨著使用時間的推移逐漸積聚，可能導致儀器測量誤差，甚至損壞儀器部件。因此，保持設備的清潔是每位操作員的基本職責。 牛奶分析儀清洗的步驟 關閉電源，拔掉電源線：確保設備已斷電，避免在清洗過程中發(fā)生電擊或損壞儀器。 拆卸可拆部件：根據(jù)分析儀的型號，將可拆卸的部件（如取樣管、傳感器、過濾器等）拆卸下來，準備進行清洗。 使用溫和的清潔劑：選擇適用于儀器的清潔劑，避免使用強酸或強堿性清潔劑，這些可能會對設備的材料造成腐蝕。 清洗儀器內(nèi)部和外部：使用軟布或海綿輕輕擦拭設備的外殼，確保不劃傷表面；對于內(nèi)部管道和儀器零部件，可以使用專門的清洗液或溫水進行沖洗。 消毒：部分牛奶分析儀需要定期消毒，以確保設備的衛(wèi)生狀態(tài)?？梢允褂镁凭蚱渌线m的消毒液擦拭設備。 晾干與組裝：清洗完成后，確保所有部件都已晾干再重新組裝，并確保沒有水分殘留在設備內(nèi)部，防止電路受潮。 測試儀器：重新啟動設備進行測試，確認其清洗后的工作狀態(tài)是否正常。 清洗頻率與維護 不同型號的牛奶分析儀在清洗頻率上可能有所不同。通常情況下，建議每次使用后進行簡易清潔，每周或每月進行一次深度清洗與保養(yǎng)。定期檢查設備的密封性和傳感器的準確性，是確保設備長時間穩(wěn)定運行的重要舉措。 清洗過程中需要注意的問題 避免高溫：清洗時避免使用過熱的水，過高的溫度可能對設備的傳感器和電子元件造成損害。 選擇合適的清潔工具：使用不含硬物的清潔工具，避免刮傷設備表面，影響儀器的外觀和使用壽命。 定期校準：即使清洗了設備，也要定期對牛奶分析儀進行校準，確保其檢測結(jié)果的準確性。 正確清潔牛奶分析儀不僅能保證其檢測精度，還能有效延長設備的使用壽命。在清洗時，操作人員應遵循相關操作規(guī)范，使用合適的清潔工具和清潔劑，確保儀器的性能不受損害。
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- 2025-04-18 18:00:16粒度分析儀怎么清洗
- 粒度分析儀怎么清洗 粒度分析儀作為一種用于測量顆粒物質(zhì)大小和分布的重要設備，其清洗和維護直接關系到測量結(jié)果的準確性和設備的使用壽命。正確的清洗方法不僅能夠防止樣品交叉污染，還能有效避免儀器故障和數(shù)據(jù)誤差。因此，了解如何正確清洗粒度分析儀，尤其是在使用不同樣品或長時間運行之后的清潔步驟，對于保證儀器性能和延長設備壽命至關重要。本文將從清洗粒度分析儀的必要性、常見的清洗方法以及注意事項三個方面進行詳細闡述，幫助用戶正確操作，確保測量數(shù)據(jù)的準確性和儀器的長期穩(wěn)定運行。 為什么需要清洗粒度分析儀？ 粒度分析儀用于精確測量粉末、顆粒、顆粒懸浮液等物質(zhì)的粒徑分布。在每次測試后，儀器內(nèi)部通常會殘留部分樣品。這些殘留物不僅可能影響到下一次的測試結(jié)果，導致交叉污染，還可能對儀器內(nèi)部組件造成損害，特別是在精密儀器上，長期積累的殘留物可能導致檢測誤差增大，甚至影響設備的正常運行。定期的清洗能夠去除這些殘留物，確保測量結(jié)果的準確性和儀器的持久性。 粒度分析儀的清洗方法 初步清潔： 在每次使用后，首先應使用軟布或無纖維的紙巾輕輕擦拭儀器表面，去除多余的粉塵和顆粒物，避免這些物質(zhì)進入儀器的內(nèi)部系統(tǒng)。 清潔傳感器和探頭： 粒度分析儀通常配備激光傳感器、探頭等敏感部件，清潔時應使用專用的刷子或氣吹設備輕輕去除傳感器和探頭上的顆粒物。避免使用濕布或化學溶劑，以免損壞精密傳感器。 清洗樣品艙和容器： 每次測試樣品后，必須徹底清潔樣品艙和樣品容器?？梢允褂脺睾偷娜軇ㄈ缛ルx子水、異丙醇等）清洗，這有助于去除粘附的樣品殘留物。如果使用的是濕式分析儀，還應特別注意清潔和干燥流體系統(tǒng)，避免水分殘留導致微生物滋生。 深度清潔： 如果儀器在長時間使用后需要進行深度清潔，可以使用專用的清潔劑對儀器內(nèi)部進行徹底清洗。此時需要注意，使用的清潔劑必須是針對分析儀的材料和部件安全的，避免腐蝕或損害。 定期檢查和維護： 除了日常的清洗工作，用戶還應定期對粒度分析儀進行專業(yè)的維護檢查。包括檢查儀器的電氣系統(tǒng)、數(shù)據(jù)傳輸系統(tǒng)等，確保其運行狀態(tài)良好。 清洗粒度分析儀時的注意事項 避免使用強腐蝕性化學品： 在清洗時，應避免使用可能對儀器內(nèi)部零部件產(chǎn)生腐蝕作用的化學品，特別是對于密封性較強的設備，要使用適合的清潔劑。 避免過度擦拭： 對于精密儀器的表面，尤其是光學鏡頭和傳感器部件，清潔時應避免過度擦拭，減少對表面涂層的損傷。 保證徹底干燥： 清洗完后，務必保證設備完全干燥，尤其是濕式分析儀。水分殘留可能導致腐蝕或影響下次使用。 定期校準： 清潔后的儀器應進行必要的校準，確保測量結(jié)果準確無誤。 總結(jié) 粒度分析儀的正確清洗方法對于確保測量數(shù)據(jù)的準確性和延長設備壽命至關重要。通過定期和專業(yè)的清洗，不僅能避免樣品交叉污染，還能保護設備免受長期使用中的損害。每一次清潔操作都應遵循規(guī)范的步驟，選擇合適的清潔劑和工具，確保儀器始終處于佳狀態(tài)，從而提供準確的粒度分析結(jié)果。
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