2025-01-21 09:32:06PEALD

PEALD即等離子體增強(qiáng)原子層沉積，是一種先進(jìn)的薄膜制備技術(shù)。它利用等離子體促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，使氣態(tài)前驅(qū)體在基底表面交替吸附并發(fā)生反應(yīng)，形成單層薄膜。PEALD技術(shù)具有高精度、高均勻性、可制備復(fù)雜結(jié)構(gòu)等優(yōu)勢，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、催化等領(lǐng)域。通過精確控制薄膜的厚度和成分，PEALD為實(shí)現(xiàn)高性能器件的制造提供了有力支持。

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PEALD 原子層沉積系統(tǒng)

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等離子體輔助原子層沉積系統(tǒng) PEALD

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