使用NexION 5000 ICP-MS直接測定高純氧化釓中的稀土雜質(zhì) Application Note (745526 (705300)_CHN _01)

以上這些應(yīng)用對軋金屬的純度有著極高的要求，因此，針對釗元素痕量雜質(zhì)的檢測能力尤為重要。長期以來，電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS)因其低濃度檢測能力廣受認(rèn)可，成為測量高純Gd和其他REE化合物中雜質(zhì)的首 選技術(shù)。