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    ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡-EVO 10

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    產(chǎn)品特點

    ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡-EVO 10,具備自動化工作流程的高清晰掃描電鏡

    詳細介紹

    ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡-EVO 10,具備自動化工作流程的高清晰掃描電鏡
     


    提高樣品的成像分辨率,提供更多表面細節(jié)信息
    EVO 電鏡廣泛應(yīng)用于材料和生命科學(xué)領(lǐng)域。

    在低電壓下,借助電子束減速和高分辨背散射電子成像技術(shù)獲取出色的樣品形貌細節(jié)。您還可以在可變環(huán)境條件下實時觀察材料的相互作用,控制樣品
    室環(huán)境并實現(xiàn)含水生物樣品的詳細分析。

    借助自動化工作流程實現(xiàn)高效應(yīng)用。EVO 的 X 射線幾何學(xué)設(shè)計能確保在分析工作條件下達到**分辨率。 

     

    技術(shù)規(guī)格
     
    設(shè)備主要部件及技術(shù)要求:
     
    該項目的設(shè)備必須是全新設(shè)備且整體進口(包括所有零部件,元器件和附件等),滿足各自的技術(shù)指標(biāo)和性能,其性能應(yīng)達到國際先進水平,可靠性好,性能穩(wěn)定,控制精度高,使用、操作和維修方便,售后服務(wù)優(yōu)良,必須在河南地區(qū)常駐有售后工程師以方便后期維護。
     
    1、基本要求
     
    1.1 電子光學(xué)系統(tǒng)
     
    1.1.1 發(fā)射源:鎢燈絲;
    1.1.2 分辨率:高真空二次電子像 ≤3.0nm @30kV≤8.0nm @3kV低真空背散射電子像 ≤4.0nm(30kV);
    1.1.3 加速電壓范圍:200V-30kV,10V 步進連續(xù)可調(diào);
    1.1.4 放大倍數(shù)范圍不小于:7X-1,000,000X,連續(xù)可調(diào);
    *1.1.5 探針電流范圍:0.5 pA~5μA,連續(xù)可調(diào);
    *1.1.6 電子束控制模式不少于以下幾種控制模式:分辨率模式、分析模式、大視野模式、大景深模式和魚眼模式;
    *1.1.7 **分析工作距離不大于 8.5mm 且**分析工作距離下的最大視野范圍不小于 6mm,普通模式下最大視野范圍不小于 20mm;
     
    1.2 真空系統(tǒng)
     
    1.2.1 抽真空系統(tǒng):渦輪分子泵 + 機械泵,不需要冷卻水
    1.2.2 樣品室最高真空度:優(yōu)于優(yōu)于 3 x 10-4 Pa
    1.2.3 抽真空時間:≤3 分鐘
     
    1.3 樣品室及樣品臺
    1.3.1  樣品室內(nèi)部尺寸不小于 310mm(直徑)×220mm(高);3
    *1.3.2 可放置的最大樣品尺寸和承重:最大樣品直徑不小于 230mm,最大高度不小于 100mm,樣品臺最大承重不小于5kg;
    1.3.3   配備探測器:高真空二次電子探測器,背散射電子探測器,樣品室紅外 CCD 攝像裝置
    *1.3.4  配置五軸馬達驅(qū)動樣品臺:樣品臺馬達移動范圍:不小于 80mm(X 方向),100mm(Y 方向),35mm(Z 方向),-10°~ 90°(傾斜),360°(旋轉(zhuǎn))
    1.3.5  樣品臺類型:全電動 5 軸馬達驅(qū)動樣品臺,雙軸搖桿操作系統(tǒng);
    1.3.6  樣品臺具有接觸報警與自停功能;
    *1.3.7  馬達臺重復(fù)精度不低于 2um;
     
    1.4 圖像處理系統(tǒng)
     
    1.4.1   配套計算機系統(tǒng):不低于 CPU P4 3.0GHz,RAM 512Mb,硬盤 120Gb,軟盤驅(qū)動器 1.44Mb,光盤刻錄機,24″液晶顯示屏,鍵盤,鼠標(biāo),USB 接口
    1.4.2  顯示圖像分辨率:不小于 1024×768 像素
    *1.4.3  單幅圖像最大存儲圖像分辨率:不小于 32k×24k 像素
    1.4.4  存儲圖像格式:TIFF、BMP 與 JPEG
     
    1.5 控制系統(tǒng)
     
    1.5.1  配置 Windows 操作系統(tǒng)
    1.5.2  配置專業(yè)的電子顯微鏡控制軟件
    1.5.3  自動功能:自動電子槍啟動,電子槍自動對中,自動偏壓調(diào)整,自動和手動聚焦,聚焦補償,動態(tài)聚焦,旋轉(zhuǎn)補償,自動消像散,圖像降噪處理。
    1.5.4  圖像采集:像素平均、幀平均、幀積分、行平均、行積分;
    1.5.5  顯示器:24″高對比度彩色平板顯示器;
    1.5.6  顯示方式:全屏顯示、分屏顯示、灰度直方圖、輪廓方式、偽彩色;
    1.5.7  圖像注釋與數(shù)據(jù)區(qū):提供標(biāo)準數(shù)據(jù)區(qū)和定制數(shù)據(jù)區(qū),可在圖片上顯示各種電鏡參數(shù)和字符。
    1.5.8  狀態(tài)菜單:顯示各種工作參數(shù)。
    1.5.9  測量功能:可對圖像中的形貌進行點間距、角度、直徑等測量。
     
    1.6 能譜儀系統(tǒng)
     
    1.6.1  功能:用于材料的微區(qū)成分定性、定量分析。
    1.6.2  配置電制冷能譜儀,能譜儀窗口面積不小于 30mm2,能量分辨率(600000CPS) Mn-Ka 優(yōu)于129eV;
    1.6.3  元素分析范圍:Be4~CF98;
    1.6.4  能譜儀處理單元與計算機采用分立式設(shè)計,單探測器輸出最大計數(shù)率優(yōu)于 600,000CPS,可處理最大計數(shù)率1,500,000CPS;4
    1.6.5  可將電鏡圖像傳輸?shù)侥茏V儀的顯示器上,并以該圖為中心做微區(qū)分析,實現(xiàn)點、區(qū)域定性定量分析,以及線掃描和面分布功能;
    1.6.6  系統(tǒng)配置專業(yè)能譜儀數(shù)據(jù)處理工作站;
     
    1.7 離子濺射儀
     
    1.7.1  玻璃處理室:直徑不小于 100 毫米,高度不小于 130 毫米;
    1.7.2  試樣臺尺寸:直徑不小于 40 毫米可同時放 6 個樣品杯;
    1.7.3  靶尺寸:直徑不小于 58 毫米;
    1.7.4  真空系統(tǒng):直聯(lián)旋片真空泵 1 升/秒;
    1.7.5  真空檢測:皮氏計;
    1.7.6  真空保護:20Pa 配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空;
    1.7.7  工作室工作媒介氣體:空氣或氬氣,配有氬氣專用進氣口和微量充氣調(diào)節(jié);
    1.7.8  配置:內(nèi)置一塊金鈀。
     
    2 產(chǎn)品配置要求
     
    為達到上述技術(shù)指標(biāo),投標(biāo)產(chǎn)品應(yīng)配置必要的硬、軟件。投標(biāo)產(chǎn)品不低于以下配置:
    2.1  掃描電子顯微鏡 1 套;
    2.2  RS232 能譜儀智能通訊接口 1 套;
    2.3  原裝進口電制冷能譜儀 1 套;
    2.4  原裝進口空氣壓縮機 1 套;
    2.5  樣品室內(nèi)全自動控制紅外 CCD 相機 1 套;
    2.6  二次電子探測器 1 套,背散射電子探測器 1 套;
    2.7  樣品束流檢測器或者束流檢測皮安表 1 套;
    2.8  不間斷穩(wěn)壓電源 1 套;
    2.9  碳導(dǎo)電雙面膠帶 2 卷和燈絲 1 盒(10 支);
     

    更簡單、更智能、整合性更高

     
    無與倫比的表面成像能力

    您可以在低電壓下利用高分辨背散射電子探測器(HD BSD)實現(xiàn)具有清晰襯度的表面細節(jié)成像。針對電子束敏感樣品或表面形貌分析,電子束減速技術(shù)能夠提高分辨率及增強表面細節(jié)信息。成像過程中的漂移校正有助于進一步提高邊緣分辨率。EVO 系列可提供包含高性能 HD 束源在內(nèi)的三類電子束源技術(shù),通過組合應(yīng)用開創(chuàng)圖像質(zhì)量全新標(biāo)準。
     
     
    智能化成像 – 性能高效

    EVO 能夠提高制造和質(zhì)量控制領(lǐng)域的工作效率。試想一下,將典型的工作流程從 400 多步操作簡化為 15 步,以三種不同的放大倍率在 9 個樣本上對感興趣的 4 個點進行成像。智能化系統(tǒng)能夠自動完成光路對中、調(diào)節(jié)放大倍率、聚焦和移動載物臺 – 一切都為的圖像采集,系統(tǒng)會根據(jù)所選的樣品設(shè)置**成像條件。通過易于操作的click-stop 按鈕控制鏡筒中間的光闌孔,從而獲得可靠且重復(fù)性高的檢測結(jié)果。  
     
     
    環(huán)境電子顯微鏡技術(shù)
     
    EVO LS 可在不同溫度、壓力和濕度條件下觀察生命科學(xué)樣品及材料樣品的納米級信息。使用EVO LS 能獲得細胞、植物和生物在自然水合狀態(tài)下的細節(jié)信息。分析材料性能,如耐蝕性、耐熱性及涂鍍性能。EVO LS 全能型環(huán)境掃描電鏡能在高達 3000 Pa 的壓力下獲取高品質(zhì)圖像,輕松完成含水樣品的成像,同時利用計算機控制環(huán)境條件,以避免出現(xiàn)脫水假象。
     
     
     


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