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    KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列

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    產(chǎn)品特點(diǎn)

    法國(guó)KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗(yàn),其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng),結(jié)構(gòu)緊湊,可以直接放置在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上,能夠處理zuida直徑4英寸的晶圓,兼容硬接觸(接觸式)或者軟接觸(接近式)工藝,可自動(dòng)調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要預(yù)熱,也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外,UV-KUB系列先進(jìn)的設(shè)計(jì),保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性,其zui小分辨率可達(dá)2μm,zuida發(fā)散角小于2°
    本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠,如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。

    詳細(xì)介紹


    KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列

    圖片

    1 550.jpg


    簡(jiǎn)介

    法國(guó)KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗(yàn),其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng),結(jié)構(gòu)緊湊,可以直接放置在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上,能夠處理最 大直徑4英寸的晶圓,兼容硬接觸(接觸式)或者軟接觸(接近式)工藝,可自動(dòng)調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要預(yù)熱,也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外,UV-KUB系列先進(jìn)的設(shè)計(jì),保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性,其最小分辨率可達(dá)2μm,最 大發(fā)散角小于2°

    本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠,如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。


    規(guī)格參數(shù)

     

    項(xiàng)目

    UV-KUB 2

    UV-KUB 3

    最小分辨率

    2 μm

    2 μm

    光源波長(zhǎng)

    365 nm / 385 nm / 405 nm

    365 nm

    能量密度

    25 mW / cm2 ± 10 %

    30 mW / cm2 ± 10 %

    熱效應(yīng)最 大升溫

    < 1°C

    < 1°C

    曝光時(shí)間

    1s~18 hours

    1s~18 hours

    最 大存儲(chǔ)程序數(shù)量

    10個(gè)

    無(wú)限制

    對(duì)準(zhǔn)分辨率

    /

     < 3 μm

    外形尺寸

    260 x 260 x 260 mm3

    480 x 480 x 480 mm3

    重量

    8.2 kg

    55 kg

    顯示屏

    彩色觸摸屏5.7 inches

    彩色觸摸屏15.6 inches

     

     

    功能圖解

    UV-KUB 2型光刻機(jī),是國(guó)際市場(chǎng)上第 一款采用UV-LED光源系統(tǒng)的光刻機(jī),其配備了基于LED光源的光學(xué)頭,使用壽命大大提高,結(jié)構(gòu)小巧,性?xún)r(jià)比高,非常適合實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。

    UV-KUB 3是一款帶對(duì)位功能的UV-LED曝光機(jī),光源為365nm,其觸摸屏和CCD相機(jī)代替了傳統(tǒng)的顯微鏡及雙筒目鏡,控制器提供了圖像捕獲、測(cè)量以及對(duì)齊坐標(biāo)的記錄等功能,可以實(shí)現(xiàn)預(yù)對(duì)準(zhǔn),這樣,用戶(hù)再通過(guò)操作手柄便能方便的進(jìn)行的對(duì)準(zhǔn)操作。


    UV-KUB 2 

    2 550.jpg


    UV-KUB 3

    3 550.jpg

    應(yīng)用系統(tǒng)

    微流控芯片

    MEMS器件

     





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