TEM/SEM用氮化硅薄膜窗口

TEM用氮化硅薄膜窗口

氮化硅薄膜窗特點(diǎn)

低應(yīng)力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撐膜：50nm厚的薄膜具有最大的視野范圍；8nm和15nm厚的無(wú)孔氮化硅薄膜適用于TEM超高分辨率的應(yīng)用

氮化硅支撐膜：低應(yīng)力的LPCVD非化學(xué)計(jì)量比氮化硅薄膜，良好的平整度、絕緣性和疏水性

良好的化學(xué)穩(wěn)定性：圖像分辨率和機(jī)械強(qiáng)度達(dá)到理想的平衡

均勻性：減少了不同區(qū)域的不均勻性

TEM斷面成像應(yīng)用的特殊窗口：適用于傾斜斷層成像的0.5x1.5mm大窗口，傾斜度最大可達(dá)75°

多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm

可應(yīng)用于多種顯微技術(shù)：良好的機(jī)械穩(wěn)定性使得同一種薄膜可應(yīng)用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM

薄膜和基底耐酸，不會(huì)被溶解：可以在酸性條件或常規(guī)條件下研究、制備樣本

可應(yīng)用于高溫試驗(yàn)環(huán)境： >1000°C

可提供更對(duì)精確的分析，如樣品中的碳含量，減少污染：可用于無(wú)碳環(huán)境中的TEM成像和分析

容易清洗：機(jī)械穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性使得薄膜很容易采用輝光放電或等離子清洗，無(wú)有機(jī)物殘留，改善成像質(zhì)量

良好的平整度：良好的納米沉積基底和薄膜，無(wú)背景結(jié)構(gòu)適合于SEM成像

超凈加工，防止支撐膜上殘留微粒：100級(jí)的超凈間內(nèi)包裝

框架厚度：200 and 50μm ：200μm是標(biāo)準(zhǔn)的TEM支撐架；50μm是特殊的TEM支撐架

標(biāo)準(zhǔn)框架直徑為3mm

同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性

氮化硅薄膜窗規(guī)格

單窗口系列

多窗口系列

應(yīng)用簡(jiǎn)介：

1、適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對(duì)同一區(qū)域的交叉配對(duì)表征。

2、大窗口尺寸，適合TEM大角度轉(zhuǎn)動(dòng)觀察。

3、無(wú)碳、無(wú)雜質(zhì)的清潔TEM觀測(cè)平臺(tái)。

4、背景氮化硅無(wú)定形、無(wú)特征。

5、耐高溫、惰性襯底，適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，（薄膜直接沉積在窗口上）。

6、生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。

7、耐高溫、惰性襯底，也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。

8、適合做為膠體、氣凝膠、有機(jī)材料和納米顆粒等的表征實(shí)驗(yàn)承載體。

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