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iPHEMOS-DD倒置發(fā)射顯微鏡 C10506-05-16
- 品牌:日本濱松
- 型號: C10506-05-16
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià):面議
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濱松光子學(xué)商貿(mào)(中國)有限公司
更新時(shí)間:2025-02-24 10:56:46
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銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品失效分析系統(tǒng)(4件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
倒置發(fā)射顯微鏡是一款背面分析系統(tǒng),用于偵測和識別半導(dǎo)體器件上的光發(fā)射和熱發(fā)射。 ?
樣品可以輕松地安裝到探針卡上面實(shí)施點(diǎn)針,信號從器件背面?zhèn)蓽y。平臺下方可以選配多款不同種類的探測器和激光,使之完成多種探測方式。例如光發(fā)射和熱發(fā)射分析,近紅外-光束誘導(dǎo)電阻阻值變化分析,和一些其他的分析方式完成動態(tài)分析,滿足客戶需求。
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Iphemos-DD
將樣品直接連接到測試機(jī)上,再把測試機(jī)架裝到設(shè)備上方能夠有效減少線纜長度,這使得高頻驅(qū)動樣品的分析成為可能,這種直接架裝方式可用于點(diǎn)針偵測12英寸晶片,也可用來偵測封裝好的樣品。 ?
詳細(xì)介紹
- 連接示例產(chǎn)品特征
● 可安裝用于光發(fā)射分析和熱分析的兩個(gè)超高靈敏度相機(jī)
● 可安裝最多3個(gè)波長的激光器和一個(gè)EOP探頭光源
● 配備適合不同樣品的光學(xué)工作臺● 高靈敏度微距鏡頭和最多10個(gè)適合每個(gè)探測器靈敏度波長的鏡頭
產(chǎn)品選配● 激光掃描系統(tǒng)
● 高靈敏度近紅外相機(jī)進(jìn)行光發(fā)射分析
● 高靈敏度中紅外相機(jī)進(jìn)行熱分析
● 紅外-光致阻值改變(IR-OBIRCH)分析
● 激光輻射動態(tài)分析
● EO偵測分析
● 納米透鏡進(jìn)行高分辨率、高靈敏度分析?
● 連接到CAD導(dǎo)航
● 連接到LSI測試儀顯示功能疊加顯示/對比度增強(qiáng)功能
iPHEMOS-DD將發(fā)光圖像疊加到高分辨率模板圖像上來快速定位缺陷點(diǎn)。對比度增強(qiáng)功能可使圖像更清晰,細(xì)節(jié)更多。
顯示功能
- ● 注釋
● 圖像的任何位置都可以顯示評論、箭頭等注釋符號。 - ● 比例顯示
● 可使用分段,在圖像上顯示比例寬度。 - ● 柵格顯示
● 圖像上可顯示水平和垂直柵格。 - ● 縮略圖顯示
● 圖像可以以縮略圖的形式存儲和調(diào)用,stage坐標(biāo)等圖像信息也可顯示。 - ● 分屏顯示
● 圖案影像、發(fā)射圖像、疊加圖像以及參考圖像可一次顯示在4個(gè)窗口的屏幕上。
詳細(xì)參數(shù)線性電壓 AC 200 V (50 Hz/60 Hz) 功耗 Approx. 1400 VA (Max. 3300 VA) 真空 Approx. 80 kPa or more 氣壓 0.5 MPa to 0.7 MPa 尺寸/重量 Main unit: 1980 mm (W)×1270 mm (D)×834 mm (H), Approx. 1700 kg
Control rack: 880 mm (W)×700 mm (D)×1842 mm (H), Approx. 300 kg
Optional desk: 1400 mm (W)×800 mm (D)×700 mm (H), Approx. 60 kg* iPHEMOS-MP主體機(jī)臺包括探針臺和其他相連接的裝置。
相關(guān)下載Failure Analysis Systems Option: Emmi-X camera C8520-45 series (Near-infrared photo emission camera) [644 KB/PDF]
Failure Analysis Systems Option: InSbHS camera C9985-05 [668 KB/PDF]
Failure Analysis Systems Option: Thermal NanoLens [351 KB/PDF]
Failure Analysis Systems Option: NanoLens-SHR [635 KB/PDF]
C10506-04-16Failure Analysis Systems Option: Electro Optical Probing Unit [406 KB/PDF]
- ● 注釋
技術(shù)資料
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