Rtec UP 臺階儀

美國Rtec雙模式臺階儀
特點：一臺設備上集成非接觸式白光干涉形貌儀+高精度原子力顯微鏡

白光干涉

白光干涉能夠進行高分辨率圖像的掃描，對表面進行分析。兩種工作模式-相移和白光掃描模式,能夠高精度測量粗糙或者光滑的樣品表面。

**的技術來實現(xiàn)高Z向分辨率

白光干涉法和相移兩種模式實現(xiàn)Z方向的高分辨率。
快速圖像處理系統(tǒng)達到400萬像素
四色LED相機

更大的垂直測量范圍達10毫米

150 mmx150mm馬達控制平臺。

樣品粗糙度，粗糙表面高度拋光后的光潔度以及表面結構測量，如陶瓷、塑料和輥鋼。

SPIP專業(yè)數(shù)據(jù)分析軟件

原子力顯微鏡

探針式輪廓測量能夠進行材料在納米尺度水平的測試。提供掃描范圍70 x70um，探針更換簡單。

**的技術來實現(xiàn)Z和XY方向上的高分辨率

X,Y和Z方向上納米級的分辨率和精度。
線性XY壓電陶瓷掃描

包括振動和不振動的模式

可選的側向力和相位模成像