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    百及納炫米ParcanNano電子束光刻機(jī)(多功能超高精度電子束光刻機(jī)P21)

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    電子束光刻機(jī)(多功能超高精度電子束光刻機(jī)P21),樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓,超高寫場拼接精度,電子束閉環(huán)控制系統(tǒng),束流的時(shí)間及空間穩(wěn)定性高,高性能 30 kV 電子束光刻機(jī)。

    詳細(xì)介紹

    電子束光刻機(jī)(多功能超高精度電子束光刻機(jī)P21)


    依托壟斷性專 利技術(shù),百及納米推出國際領(lǐng)先的超高精度大面積寫場電子束光刻機(jī) P21 系列。 百及納米S次開發(fā)了新一代電子束光刻機(jī)的電子束閉環(huán)控制新原理。百及超高精度電子束光刻機(jī) P21 是第 一款新一代電子束光刻機(jī)的代表,在著名電子束光刻機(jī)制造商德國 Raith 公司的成熟機(jī)型上 升級(jí)而成。該系列主要包括 P21-2,P21-4 和 P21-6 三個(gè)型號(hào),區(qū)別主要在于樣品尺寸(2,4,6 英寸晶圓)及擴(kuò)展使用功能。P21 不僅完整地保留了原電子束光刻機(jī)的整體功能,且集多項(xiàng)國際領(lǐng)先的關(guān) 鍵指標(biāo)于一身,包括:

     ? 國際上S次開發(fā)的新穎電子束閉環(huán)控制系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)電子束的原位檢測(cè)與校正; 

     ? 國際領(lǐng)先的寫場拼接精度≤2 nm; 

     ? 電子束光刻的長期穩(wěn)定性。精確校正電子束的空間漂移,將其位置穩(wěn)定性提高到≤10 nm/h; 有利于通過提高電子束光刻時(shí)間實(shí)現(xiàn)大尺寸圖形的曝光需求。 

    百及納米的 P21 系列以常規(guī)電子束光刻機(jī)為載體,通過獨(dú) 家專 利技術(shù)對(duì)其進(jìn)行功能及性能指標(biāo)的大幅提升。P21 光刻機(jī)組件均為德國原裝制造,以高品質(zhì)、高性能滿足客戶的科研高端需求,實(shí)現(xiàn)新 一代超高精度電子束光刻功能。


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